Yarımkabza üçün xüsusi hazırlanmış yüksək temperatur müqavimətli şəffaf kvarts şüşə flanş

Kvarts flanşların istehsal prosesi:

• Xammalın seçilməsi: Yüksək təmizlikdə təbii kvarts kristalları və ya sintetik silika qumu başlanğıc material kimi seçilir. Silika ehtiyatı adətən 99,9%-dən çox olur ki, üstün xassələr təmin edilsin.
• Ərimə: Xammal vakuumda və ya inert atmosferli sobada (tez-tez elektrik müqavimətli və ya induksiya sobası) çox yüksək temperaturda (1700-dən yuxarı °C) ərimiş, köpüksüz, özlü kvarts halına gətirilir.
• Formalaşdırma: Ərimiş kvarts aşağıdakı üsullardan biri ilə flanş şəklində formalaşdırılır:

• Kalıp: Dəqiq qrafit və ya keramik kalıplara tökülməsi.
• Mərkəzdənqaçma Üsulu ilə Litmə: Boş silindr formalı məmulat almaq üçün kalıbın fırladılması, daha sonra isə emal edilməsi.
• İstilikli presləmə/son işləmə: Sıxlığın artırılması və demək olar ki, son formaya yaxın forma verilməsi üçün qızdırılmış kvartş boşluğuna təzyiq altında formasının verilməsi.

• Tavlama: Formalaşdırılmış flanşlar tavlanma peçində nəzarətli, yavaş soyuma prosesindən keçir. Bu, daxili termal gərginliyi azaldır, çatlamaları önlayır və konstruktiv sabitliyi təmin edir.
• Dəqiqlik emalı: Tavlana boşluqlar almaz örtüklü alətlər istifadə edilərək diqqətlə emal olunur. Son ölçülərin, səth emalının (tez-tez optik sinif), müstəvilik və dəqiq sıxılma səthlərinin (məsələn, Ra < 0,4 μ m) əldə edilməsi üçün zımparalama, kəsmə, delmə və laphing daxildir.
• Təmizləmə və keyfiyyət yoxlaması: Ciddi təmizləmə (məsələn, ultrasəs, turşu ilə təmizləmə) çirkləndiriciləri aradan qaldırır. Hər bir flanş ölçülər, vizual defektlər (qabarcıqlar, daxili qarışıqlar) və optik xüsusiyyətlər üzrə yoxlanılır. Lazer interferometriyası kimi irəliləmiş metodlar müstəvilik və paralelliyi yoxlamaq üçün istifadə olunur.

Kvartş flanşların üstünlükləri:

• Fevkaladi istilik sabitliyi: Çox aşağı istilik genişlənmə əmsalı (~5.5 x 10 ⁻⁷ /K) onları istilik şokuna qarşı yüksək dərəcədə davamlı edir. Onlar 1000 °C-dən otaq temperaturuna qədər sürətli istilənməyə və soyumağa çatlamadan dözürlər.
• Yüksək Temperaturdayanıqlılıq: 1100°C-ə qədər olan temperaturlarda davamlı olaraq işləyə bilir və qısa müddət üçün 1300°C-ə qədər temperaturlara dözürlər, metalın yumşalacağı və ya axacağı şəraitdə struktur bütövlüyünü saxlayırlar. °C və qısa müddət üçün 1300 °C, metalların yumşaması və ya deformasiyaya uğraması halında belə struktur möhkəmliyini saxlayır.
• Yüksək Kimyəvi Təmizlik və İnertlik: Yüksək təmizlikli SiO-dan hazırlanmışdır, poroz olmayan və əksər turşulara, halogenlərə və agressiv kimyəvi maddələrə (hidroflorid turşusu və qızdırılmış fosfor turşusu istisna olmaqla) qarşı yüksək dərəcədə davamlıdır. Bu, həssas proseslərdə çirklənmənin qarşısını alır. ₂ , onlar poroz deyildir və əksər turşulara, hallogenlərə və irəli sürülən kimyəvi maddələrə (hidrofluorid turşusu və isti fosfor turşusu istisna olmaqla) qarşı yüksək dərəcədə davamlıdır. Bu, həssas proseslərdə çirklənmənin qarşısını alır.
• Əla Optik Xüsusiyyətlər: UV-dən yaxın infraqırmızıya qədər geniş spektrdə yüksək şəffaflığa malikdir. Bu, vizual proses monitorinqinə, UV keçiriciliyinə və lazer tətbiqetmələrində istifadəyə imkan verir.
• Əla Elektrik İzolyasiyası: Yüksək dielektrik möhkəmliyi və yüksək temperaturlarda belə aşağı elektrik keçiriciliyinə malikdir, bu da onları yarımkeçirici və vakuum tətbiqetmələri üçün ideallaşdırır.
• Yüksək Mexaniki Möhkəmlik və Bərklik: Qırılgan olmasına baxmayaraq, ərimiş  quvarz yüksək sıxılma möhkəmliyinə malikdir və bir çox polimerlərin əksinə olaraq, yüksək temperaturlarda yüklənmə şəraitində formasını saxlayır.  yüksək temperaturlarda yüklənmə şəraitində formasını saxlayır.
• Ultra Yüksək Vakuum Uyğunluğu: Xarici qaz keçiriciliyi və qaz ifrazatı səviyyəsi son dərəcə aşağıdır. Duzgün şəkildə isti tutulduqda, ultra yüksək vakuum (UHV) mühitinin əldə edilməsində və saxlanmasında rol oynayırlar.
• Uzun Xidmət Müddəti və Ölçülü Sabitlik: İstismar şəraiti təsirlərinə davamlıdır, normal şəraitdə zəifləmir və ya köhnəlmür və sabitliyinə görə dəqiqliklə ölçülərini uzun müddət saxlayır.
• Başlıca  Tətbiqlər: Yarımmənfəatin istehsalı (vurma, difuziya, CVD/LPCVD kamerları), lif optikası, dəqiq optika, lazer sistemləri, laboratoriya və analiz avadanlıqları, yüksək temperaturlu baxış şüşələri və xüsusi işıqlandırma (yüksek intensivlikli rüşeymləndirmə lampaları).

Quvarz Flansların Əsas Tətbiq Sahələri və İstifadəsi

Kvars flanşlar, unikal xassələrinin birləşməsinə görə tələb olunan sənayelərdə vacib komponentlərdir. Onların əsas tətbiqləri və konkret istifadəsi aşağıdakı kimidir:

• Yarımkeçirici və Mikroelektronika İstehsalı

• İstifadə: Plastin işlənmə avadanlığında nəzərə alma pəncərələr, kameranın daxili örtüyü, qaz girişləri və diaqnostika pəncərələri kimi.
• Əsas Avadanlıq: Plazma aşındırıcılar, Kimyəvi Buxar Yığma (CVD) və Aşağı Təzyiqli CVD (LPCVD) reaktorları, diffuziya peçləri və ion implantatorları.
• Səbəb: Təmizlikləri silikon plastinlərin çirklənməsini maneə törədir və şəffaflıqları prosesin içdən izlənilməsinə imkan verir.

• Optik və Fotonika Sənayesi

• İstifadə: Uç pəncərələr, lazer boru korpusları və bərkidici komponentlər kimi.
• Əsas Tətbiqlər: Güclü lazer sistemləri, UV və IR optik sistemləri, spektrofotometr kameraları və astronomik teleskop güzgürləri (aşağı istilik genişlənməsinə malik altlıqlar üçün).
• Səbəb: Xüsusi UV-dən IR-ə qədər keçiriciliyi və yüksək intensivlikli işıq altında minimal istilik distorsiyası.

• Yüksək Təmizlikli/Aşağı Təzyiqli Kimyəvi Emal

• İstifadə: Reaktor astarları, korroziya yaradan mayelər üçün şüşələr və təcrübi qurğularda birləşdirici komponentlər kimi.
• Əsas proseslər: Ultra təmiz turşuların, halogen qazlarının və yüksək temperaturlu xüsusi kimyəvi maddələrin emalı.
• Səbəb: Yüksək səviyyəli kimyəvi inertlik məhsulun təmizliyini təmin edir və hidroflorid və isti fosfor turşusu istisna olmaqla bütün turşulara qarşı davamlıdır.

• İrəli Səviyyə İdman

• İstifadə: Yüksək intensivlikli qaz boşalma lampalarının örtüyü (xarici ampul) kimi.
• Əsas məhsullar: Civə buxar lampaları, ksenon arka lampaları və UV sterilizasiya lampaları.
• Səbəb: Çox yüksək iş temperaturlarına (>1000 °C) dözür və UV şüalarını səmərəli şəkildə keçirir.

• Elmi Tədqiqatlar və Analitik Cihazlar

• İstifadə: Vakuum kameranın pəncərələri, sobalarda nümunə saxlayıcılar və kütləvi spektrometrlərdə komponentlər kimi.
• Əsas Mühitlər: Ultra yüksək vakuum (UHV) sistemləri, elektron mikroskoplar və kosmos simulyasiya kamerları.
• Səbəb: Vakuum və termal dövrlər şəraitində çox aşağı qaz çıxarma və yüksək ölçülü sabitlik.

• Xüsusi Sənaye Prosesləri

• İstifadə: Yüksək temperaturlu sobalarda (məsələn, Çoxralski çəkiciləri kimi kristal böyümə sobaları) və lif optik preform istehsalında axın komponentlərində qoruyucu baxış pəncərələri kimi.
• Səbəb: Davamlı yüksək temperaturlu iş rejimində şəffaflığı və struktur bütövlüyünü saxlayır, prosesin vizual nəzarətinə imkan verir.

  Texniki Spesifikasiyalar

  Xassələrin tərkibi	Xassələr indeksi
  Yoğunluq	2.2×103kq/sm³
  Güc	580KHN100
  Gərmə Gücü	4.9×107Pa(N/ ㎡)
  Sıxılma qüvvəti	>1.1×109Pa
  İstilik genişlənmə koeffisienti	5.5×10-7sm/sm℃
  İstilik keçiriciliyi	1,4 Vt/m℃
  Xüsusi İstilik	670 C/kq℃
  Yumuşama nöqtəsi	1680℃
  Anilinq Nöqtəsi	1215℃