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O barco de vidro de quartzo é utilizado para suportar a wafer no forno tubular. Ele suporta temperaturas de até 1200 ℃e possui excelente estabilidade química, sem causar qualquer contaminação à wafer. Portanto, no processo de fabricação da wafer, o barco de quartzo é uma ferramenta muito importante.
RESUMO
O barco de vidro de quartzo é utilizado para segurar a wafer no forno tubular. Ele suporta temperaturas de até 1200℃ e possui excelente estabilidade química, sem causar nenhuma contaminação à wafer. Portanto, no processo de fabricação da wafer, o barco de quartzo é uma ferramenta muito importante.
Detalhes
Aplicações do Barco de Quartzo:
O barco de quartzo, graças às suas propriedades físicas e químicas únicas, desempenha um papel significativo em diversos campos, como fabricação de semicondutores, indústria optoeletrônica, análise química e experimentos de alta temperatura. Ele não apenas oferece uma plataforma ou recipiente estável e confiável para experimentos e produção, mas também aumenta a precisão e a confiabilidade dos resultados experimentais. Com o avanço contínuo da tecnologia e a expansão dos campos de aplicação, as perspectivas de utilização do barco de quartzo serão ainda mais amplas.
Especificações
| Comportamento Mecânico | Valores Padrão |
| Densidade | 2,2 g/cm³ |
| Resistência à Compressão | 100Mpa |
| Módulo de Young | 7200 MPa |
| Módulo de Rigidez | 3100 MPa |
| Dureza de Mohs | 5.5~6.5 |
| Ponto de Transformação | 1280℃ |
| Ponto de Amolecimento | 1780℃ |
| Ponto de Relevo Térmico | 1250℃ |
| Calor Específico(20~350℃) | 670J/kg.℃ |
| Condutividade Térmica(20℃) | 1,4W/m.℃ |
| Índice de Refração | 1.4585 |
| Temperatura de Processamento Térmico | 1750~2050℃ |
| Temperatura de Uso de Curto Prazo | 1300℃ |
| Temperatura de Uso de Longa Duração | 1100℃ |
| Material | Blocos de quartzo de alta pureza |
| Superfície | Sem Bolha de Ar, Sem Processo |
| Tensão | 1270℃ Fundiu o Tijolo de Vidro de Quartzo |
| PPM | Controlado 10/20/100 PPM |
| Espessura | 0,5mm~40mm |
Placa de vácuo em cerâmica micro porosa de alúmina para semicondutores e wafers de silício
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