lantai 9, Gedung A Dongshengmingdu Plaza, No.21 Jalan Chaoyang Timur, Lianyungang Jiangsu, Tiongkok +86-13951255589 [email protected]
kemasan elektronik dan semikonduktor: bahan ideal keramik AlN yang memimpin inovasi teknologi pembuangan panas berkinerja tinggi dan teknologi kemasan
Nitrida aluminium (AlN) bukan hanya merupakan bahan anorganik, tetapi juga dianggap sebagai bahan kunci dalam kemasan elektronik dan aplikasi semikonduktor. Struktur kristalnya yang didominasi oleh ikatan kovalen menjadikannya nitrida berbentuk heksagonal mirip berlian dan menunjukkan celah pita lebar (6,2 eV) serta energi ikat eksiton yang signifikan, sehingga menjadikannya semikonduktor dengan celah pita langsung. Konduktivitas termal nitrida aluminium mencapai sekitar 320 W/m ·K, setara dengan BeO dan SiC, serta lebih dari 5 kali lipat dibandingkan Al2O3. Di saat yang sama, koefisien ekspansi termalnya kompatibel dengan silikon dan gallium arsenida, sehingga semakin meningkatkan potensi penerapannya di bidang kemasan elektronik. Selain itu, aluminium nitrida menunjukkan sifat isolasi listrik, mekanik, dan optik yang sangat baik, serta tidak beracun dan tahan terhadap korosi suhu tinggi, membawa harapan baru bagi industri semikonduktor
Komponen keramik aluminium nitrida (AlN) adalah komponen canggih yang dibuat dari serbuk AlN melalui pencetakan presisi dan proses sintering suhu tinggi (1700–1900°C ) dengan bahan bantu sintering seperti Y₂O₃ . Komponen-komponen ini banyak digunakan dalam bidang elektronika, semikonduktor, dan dirgantara berkat sifat termal, listrik, dan mekaniknya yang luar biasa.
Pemanas keramik Aluminium Nitrida memiliki sifat konduktivitas termal tinggi, pemerataan panas yang sangat baik, serta isolasi listrik yang unggul. Pemanas keramik AlN banyak digunakan pada perangkat manufaktur semikonduktor, dan dapat diterapkan dalam sistem evaporasi vakum, mesin sputtering, serta perangkat CVD.
Sifat Utama
Aplikasi Utama
Fabrikasi & Kustomisasi
Proses khas: Pencampuran serbuk → pembentukan (penekanan kering, pencetakan lembaran, pencetakan injeksi) → sintering (1700–1900°C dengan Y₂O₃) → pemesinan presisi (penggerindaan, lapping, pemotongan laser). Komponen dapat disesuaikan ukurannya, ketebalannya, hasil permukaan, dan metalisasi (misalnya, ikatan tembaga langsung) guna memenuhi kebutuhan desain spesifik.
Keunggulan Dibandingkan Alternatif
Tantangan
Komponen keramik AlN sangat kritis bagi elektronik generasi berikutnya dan sistem berteknologi tinggi, memungkinkan manajemen panas yang efisien serta kinerja andal dalam kondisi ekstrem.
Shunt panas keramik AlN adalah komponen manajemen termal kelas atas
yang digunakan dalam elektronik berkinerja tinggi dan andal tinggi, di mana kebutuhan simultan akan perpindahan panas maksimal dan isolasi listrik sangat krusial. Komponen ini mengatasi permasalahan klasik antarmuka yang bersifat mengisolasi namun tahan termal dengan menyediakan suatu
jalur yang sekaligus sangat konduktif dan mengisolasi.
Bahan: Nitrida Aluminium (AlN) adalah keramik teknis canggih.
Sifat Utama: AlN memiliki konduktivitas termal yang luar biasa tinggi untuk suatu
isolator listrik. AlN berkualitas tinggi dapat memiliki konduktivitas termal yang setara dengan
logam seperti aluminium ( ≈ 170-220 W/mK ).
Sifat lain: Ini adalah isolasi listrik yang sangat baik, memiliki koefisien
ekspansi termal (CTE) yang sangat cocok dengan silikon dan lainnya
semikonduktor, dan memiliki kekuatan mekanik dan stabilitas kimia yang tinggi.
Aplikasi Utama:

Desain & Penggunaan Tipikal:
Sebuah shunt panas AlN sering hadir dalam bentuk pelat, spacer, atau
substrat yang dibuat dengan presisi tinggi.
Spesifikasi Teknis

Sleeve Keramik Silikon Nitrida (Si3N4) Custom | Tabung Keramik Si3N4
Isolator keramik AlN dengan konduktivitas termal yang sangat baik Tabung keramik nitrida aluminium
Pelat Kaca Silika Optik Kuarsa Terfusi Berkadar Kemurnian Tinggi
Batang aromaterapi mobil pori-pori keramik beraroma yang dapat disesuaikan