İstiğə Davamlı Fərdiləşdirilmiş Düz Alt Qurşunlu Kvarts Şüşə Kruşibl

Silisium Dioksid (Kvarts) Şüşə Kruşibl:

Şəffaf Kvarts Kruşibl (TQC) yüksək təmizlik dərəcəsinə malik, eritilmiş silisium dioksid şüşəsindən (SiO₂)  tərkibi ≥99,99%) hazırlanmış bir qabdır və görünən işığın keçirilməsi üzrə üstün xüsusiyyətlərə malikdir (görünən işıq üçün ≥93%). Sənaye standartında göstərilən çirklilik miqdarı və performans göstəricilərinə əsasən əsasən üç sinifə (QSG1, QSG2, QSG3) bölünür.

• Kvarts kruşiblər fotovoltaik (PV) və yarımkeçirici sahələrində geniş istifadə olunur.
• Yüksək temperaturda günəş enerjisi və yarımkeçirici müştərilərin uzun müddətli, davamlı kristal çəkilməsini təmin edə bilər.

Kvarsdan hazırlanmış tiğən digər materialların sahib olmadığı inteqrasiya olunmuş xüsusiyyətlərə malikdir. O, istilik vibrasiyasına davamlılıq, çox yüksək deformasiya və yumuşama temperaturu, çox aşağı istilik keçiriciliyi və dielektrik itki xüsusiyyətlərinə malikdir; həmçinin, çox geniş UV spektri üçün optik qabiliyyətə malikdir.

Qövs kvarsdan tiğən yarımkeçirici sənayesində geniş tətbiq olunur.

Təbii kvarsdan ərimə və dəqiq üfüt proseslərindən sonra hazırlanır.

O, yüksək təmizlik dərəcəsinə, isti-davamlılığa və korroziyaya davamlılığa malikdir, həmçinin, istilik genişlənməsinin əmsalı aşağıdır.

Onun içərisində havanın baloncuqları yoxdur və PPM səviyyəsində nəzarət olunur; bu da yüksək temperaturda möhkəmlik, kimyəvi sabitlik, mükəmməl izolyasiya və keçiricilik kimi üstün xüsusiyyətlərə malik olmasını təmin edir.

Əsas Xüsusiyyətlər və Üstünlüklər

• Ultra-yüksək təmizlik: Metal qatışıqların (Na, K, Fe və s.) ümumi miqdarı 10 ppm-dən aşağı saxlanılır ki, bu da yüksək temperaturda ərimiş materialların kontaminasiyasının qarşısını alır.
• Çox yüksək isti müqavimət: Yumuşama nöqtəsi 1730°C-ə çatır, bu da onu 1100°C-yə qədər uzun müddətli istifadəyə və 1450°C-də qısa müddətli zirvə istifadəyə, deformasiya olmaması şərti ilə imkan verir.
• Fəvqəladə kimyəvi sabitlik: Hidroflorid turşusu və qızdırılmış fosfor turşusu istisna olmaqla, əksər turşular, qələvilər və əriyik metallarla reaksiyaya girmir; turşuya davamlılığı seramikdən 30 dəfə, paslanmayan poladdan isə 150 dəfə yüksəkdir.
• Mükəmməl termiki şok müqaviməti: Çox aşağı termiki genişlənmə əmsalına (5,5×10⁻⁷/K) malikdir və beləliklə, 1100°C-dən otaq temperaturuna qədər sürətli temperatur dəyişikliklərinə çatlamadan dözür.
• Əla izolyasiya və işıq keçiriciliyi: Həcm rezistivliyi yüksək temperaturda 10¹⁶ Ω·sm-dən artıqdır və ultrabənövşəyi işığın 80%-ni, görünən işığın isə 93%-ni keçirir; bu xüsusiyyətlər optik və yüksək temperaturda sensor tətbiqləri üçün uyğundur.
• Güclü izolyasiya: Kvarts şüşəsinin müqavimət dəyəri adi şüşənin müqavimətindən 10 000 dəfə yüksəkdir; bu, çox yaxşı elektrik izolyasiya materialıdır və otaq temperaturunda yaxşı izolyasiya xüsusiyyətlərinə malikdir.
• Yaxşı işıq keçiriciliyi: Ultravioletdən infraqırmızıya qədər olan bütün spektrda yaxşı işıq keçiriciliyinə malikdir; görünən işıq üçün keçiricilik dərəcəsi 93% və ya daha yüksəkdir, ultraviolet spektr bölgəsində isə keçiricilik dərəcəsi 80 və ya daha yüksəkdir.

Əsas tətbiq sahələri: Şaffaf silisium dioksid/kvarts şüşəsilindrik tiyin əsas tətbiq sahələri:

Pərvanəkli ərimə, laboratoriya sinterləməsi/əriməsi, elektrik isidici cihazlar, mufla sobalarında isidilmə, yarımkeçirici sənaye, optika,  rabitə, hərbi sahə, kimya, mexanika,  elektrik, mühit qorunması və digər sahələr.

• نیمه هادی صنعت

Kzoxralski prosesində monokristal silisiumun çəkilməsi üçün əsas konteyner kimi istifadə olunur; qlobal illik tələb 10 milyondan çox ədəddir. Ultra yüksək təmizlik dərəcəsi silisium kristalının böyüməsi zamanı qatqıların daxil olmasını qarşısını alır və bu da inteqral sxemlərin çıxımına birbaşa təsir göstərir.

Fotovoltaik günəş elementlərinin istehsalında polikristal silisium külçələrinin tökməsi üçün istifadə olunur; hər bir kruşibin xidmət müddəti 50–80 saattır və yüksək səmərəli günəş plastinkalarının istehsalını dəstəkləyir.

• Laboratoriya və Kimyəvi Analiz

Korrosiyaya davamlılığı və kontaminasiyaya (çirklənməyə) səbəb olmaması xüsusiyyətləri səbəbilə nümunənin həll edilməsi, ərimə analizi və nadir torpaq elementlərinin təmizlənməsi kimi yüksək temperaturda keçirilən kimyəvi təcrübələrdə geniş tətbiq olunur. Standart ölçülər 10 mL, 25 mL, 50 mL və 100 mL-dir.

• Optika və Elektronika Sənayesi

Yüksək təmizlikli optik şüşə və lazer kristallarının ərimə prosesində istifadə olunur; onun üstün işıq keçiriciliyi və istiye davamlılığı son məhsulun optik bircinsliyini təmin edir.

Elektron komponentlərin istehsalında incə təbəqəli çöküntü avadanlığı üçün yüksək temperaturda işləyən konteyner kimi istifadə olunur və vakuum mühitində sabit performansı təmin edir.

• Metalurgiya və Material Sintez

Yüksək təmizlikdə metalların (məsələn, titan, zirkon) əriməsi və irəli səviyyəli keramik materialların hazırlanması üçün istifadə olunur; yüksək temperatur prosesində metalın oksidləşməsini və kontaminasiyasını qarşısını alır.

İstehsal prosesi

Xammalın Seçilməsi: Məhsulun təmizliyini təmin etmək üçün Fe₂O₃ miqdarı <0.001% olan yüksək təmizlikdə təbii kvarts daşı və ya sintetik silika tozu istifadə olunur.

Ərimə və Şəkilləndirmə:

• Elektrik Ərimə Üsulu: Xammal qrafit kalıba yerləşdirilir, vakuumda və ya qoruyucu atmosferdə arx boşalması ilə 1800–2000°C temperaturda əridilir və çəkiliyin və səth gərginliyinin təsiri ilə tiğəlin forması verilir.
• Alovla Ərimə Üsulu: Kvarts tozu hidrogen-oksigen alovu ilə əridilir və fırlanan kalıp vasitəsilə kiçik ölçülü tiğəllər üçün lazım olan forma verilir.
• Sonrakı emal: Səth pürüzlülüyünü Ra <0,2 μm səviyyəsində saxlamaq və ölçülərin ±0,5 mm dəqiqliklə təmin edilməsini təmin etmək üçün soyutma, kəsmə, daxili divarların parlatılması və təmizlənməsi daxildir.

Keyfiyyət yoxlaması: Sənaye tətbiqi standartlarını ödəmək üçün baloncaq defektlərinin (diametri <0,5 mm, sayları 1 sm²-də <5), qatışqıların miqdarı və termiki şok dayanıqlılığı üzrə sərt yoxlamalar aparılır.

Texniki Spesifikasiyalar