Heat Resistant na Custom na Flat Bottom na Quartz Glass na Crucible

Silica Quartz Glass na Crucible:

Ang Transparent na Quartz na Crucible (TQC) ay isang lalagyan na may mataas na kalinisan na gawa sa fused silica glass (SiO₂)  na may nilalaman na ≥99.99%, na may mahusay na pagpapasa ng liwanag (≥93% para sa visible light). Ito ay pangunahing nahahati sa tatlong grado (QSG1, QSG2, QSG3) batay sa antas ng impurity at sa mga indikador ng pagganap, ayon sa nakasaad sa pamantayan ng industriya.

• Ang quartz crucible ay malawakang ginagamit sa mga larangan ng photovoltaic (PV) at semiconductor.
• Nakakasuporta ito sa patuloy na mahabang panahon ng paggawa ng solar at semiconductor na mga produkto sa ilalim ng mataas na temperatura.

Ang quartz crucible ay may pinagsamang pagganap na hindi taglay ng iba pang mga materyales. Ito ay may mahusay na paglaban sa thermal vibration, napakataas na temperatura ng deformation at softening, napakababa na paglipat ng init at dielectric losing, at mahusay na optical capacity sa napakalawak na UV spectra.

Ang arc quartz crucible ay malawakang ginagamit sa semiconductor industry.

Gawa ito sa natural na quartz matapos ang proseso ng pagmelt at fine grinding.

Ito ay may mataas na purity, heat resistance, at corrosion resistance, pati na rin ang mababang coefficient of thermal expansion.

Wala itong hangin na nasa loob (air bubble) at kontrolado sa antas na PPM, na may mahusay na pagganap tulad ng paglaban sa mataas na temperatura, chemical stability, perpektong insulation, at transmittance, atbp.

Mga Pangunahing Katangian at Benepisyo

• Ultra-High Purity: Ang kabuuang nilalaman ng metallic impurities (tulad ng Na, K, Fe) ay kontrolado sa ilalim ng 10 ppm, na nagpapatiyak na walang kontaminasyon sa mga molten materials habang isinasagawa ang mga prosesong may mataas na temperatura.
• Sobrang Paglaban sa Init: Ang temperatura ng pagkakalambot ay umaabot sa 1730°C, na nagpapahintulot sa pangmatagalang paggamit sa mga temperatura hanggang 1100°C at pansamantalang pinakamataas na paggamit sa 1450°C nang walang pagbabago ng anyo.
• Hindi karaniwang Estabilidad sa Kemikal: Maliban sa hydrofluoric acid at mainit na phosphoric acid, hindi ito nakakareakyon sa karamihan ng mga acid, alkali, at mga natunaw na metal, na may kakayahang lumaban sa acid na 30 beses na mas mataas kaysa sa ceramics at 150 beses na mas mataas kaysa sa stainless steel.
• Napakahusay na Paglaban sa Thermal Shock: May napakababang koepisyente ng thermal expansion (5.5×10⁻⁷/K), na nagpapahintulot dito na tumagal sa mabilis na pagbabago ng temperatura mula 1100°C hanggang temperatura ng silid nang walang pumupukol.
• Mahusay na Insulation at Pagpapasa ng Liwanag: Ang volume resistivity ay lumalampas sa 10¹⁶ Ω·cm sa mataas na temperatura, at nagpapasa ito ng 80% ng ultraviolet light at 93% ng visible light, na angkop para sa mga aplikasyon sa optical at high-temperature sensing.
• Matibay na Pagkakaulan: Ang halaga ng pagtutol ng quartz glass ay katumbas ng 10,000 beses na ang pagtutol ng karaniwang salamin, kaya ito ay isang napakahusay na materyal para sa pagkakaulan ng kuryente at may mahusay na pagganap sa pagkakaulan sa temperatura ng silid.
• Mahusay na Pagpapasa ng Liwanag: May mabuting pagpapasa ng liwanag sa buong spectrum mula sa ultraviolet hanggang infrared na mga haba ng alon; ang rate ng pagpapasa ng nakikitang liwanag ay 93% o higit pa, samantalang sa rehiyon ng ultraviolet spectrum, ang rate ng pagpapasa ay 80 o higit pa.

Pangunahing Mga Larangan ng Paggamit: Pangunahing Paggamit ng malinaw na silica/quartz glass cylinder crucible:

Pagkatunaw sa hurno, pagsisinter/pagkatunaw sa laboratorio, electric heater, pag-init sa muffle furnace, semiconductor, optical,  komunikasyon, militar, kemikal, mekanikal,  kuryente, pangangalaga sa kapaligiran at iba pang larangan.

• Semiconductor Industry

Ginagamit bilang pangunahing lalagyan para sa paghila ng monokristalinong silicon sa proseso ng Czochralski, na may taunang demand na lampas sa 10 milyong piraso sa buong mundo. Ang ultra-mataas na kalinisan nito ay nagpipigil sa pagsisilip ng mga dumi habang lumalago ang kristal ng silicon, na direktang nakaaapekto sa ani ng mga integrated circuit.

Ginagamit sa paghulma ng polikristalinong silicon ingot sa produksyon ng photovoltaic solar cell, na may buhay-servis na 50–80 oras bawat crucible, upang suportahan ang produksyon ng mataas-na-kahusayang solar wafer.

• Laboratoryo at Pagsusuri sa Kemikal

Malawakang ginagamit sa mga eksperimentong kemikal na may mataas na temperatura, tulad ng pagsusuri ng sample, pagsusuri ng tinunaw, at paglilinis ng mga rare earth element, dahil sa kanyang paglaban sa corrosion at hindi pagdudulot ng kontaminasyon. Kasama sa karaniwang mga sukat ang 10 mL, 25 mL, 50 mL, at 100 mL.

• Industriya ng Optikal at Elektroniko

Ginagamit sa proseso ng pagtunaw ng optical glass at laser crystal na may mataas na kalinisan, kung saan ang mahusay nitong pagpapasa ng liwanag at paglaban sa init ay nagsisiguro sa pagkakapareho ng optical properties ng panghuling produkto.

Ginagamit bilang lalagyan na may mataas na temperatura para sa kagamitan sa pag-deposito ng manipis na pelikula sa paggawa ng mga komponente ng elektroniko, na nagpapanatili ng matatag na pagganap sa mga kapaligiran na walang hangin.

• Metalyurhiya at Pagbuo ng Materyales

Ginagamit sa pagtunaw ng mga metal na may mataas na kalinisan (halimbawa: titanium, zirconium) at sa paghahanda ng mga advanced ceramic material, na nagpipigil sa oksidasyon at kontaminasyon ng metal habang isinasagawa ang proseso sa mataas na temperatura.

Proseso ng Produksyon

Paggagamit ng Hilaw na Materyales: Gumagamit ng natural na quartz ore na may mataas na kalinisan o sintetikong silica powder na may nilalaman ng Fe₂O₃ na <0.001% upang matiyak ang kalinisan ng produkto.

Pagtutunaw at Pagbuo:

• Paraan ng Pagtutunaw Gamit ang Kuryente: Inilalagay ang hilaw na materyales sa isang graphite mold, tinutunaw sa temperatura na 1800–2000°C gamit ang arc discharge sa loob ng vacuum o protektibong kapaligiran, at binubuo ang hugis ng crucible sa pamamagitan ng grabidad at surface tension.
• Paraan ng Pagtutunaw Gamit ang Apoy: Tinutunaw ang quartz powder gamit ang hydrogen-oxygen flame at binubuo sa nais na hugis gamit ang isang umiikot na mold, na angkop para sa mga maliit na sukat na crucible.
• Post-Processing: Kasama ang paglamig, pagpupot, pampolish ng panloob na pader, at paglilinis upang kontrolin ang kabuuang kagaspangan ng ibabaw (Ra <0.2 μm) at matiyak ang katumpakan ng sukat sa loob ng ±0.5 mm.

Pagsusuri ng Kalidad: Isinasagawa ang mahigpit na pagsusuri para sa mga depekto na may hugis ng bulaklak (diametro <0.5 mm, bilang <5 bawat cm²), nilalaman ng mga dumi, at pagtutol sa biglang pagbabago ng temperatura upang tumugon sa mga pamantayan para sa pang-industriyang aplikasyon.

Teknikal na Espekifikasiyon