Högtemperaturbeständig anpassad kvarts glaskrucibel med platt botten

Kiselkvartsglaskruka:

Transparent kvartskruka (TQC) är en behållare av hög renhet tillverkad av smält kiseldioxidglas (SiO₂  innehåll ≥99,99 %), med utmärkt ljusgenomsläppighet (≥93 % för synligt ljus). Den klassificeras främst i tre kvalitetsgrader (QSG1, QSG2, QSG3) baserat på föroreningarnas mängd och prestandaindikatorer, enligt branschstandarden.

• Kvartskrukor används omfattande inom PV- och halvledarområdet.
• Den kan stödja solcellskunder och halvledarkunder vid kontinuerlig, långvarig dragning vid höga temperaturer.

Kvartskruka har en integrerad prestanda som andra material inte har. Den har utmärkt motstånd mot termisk vibration, mycket hög deformationstemperatur och mjukningstemperatur, mycket låg värmeledningsförmåga och dielektrisk förlust samt optisk genomsläppighet för ett mycket brett UV-spektrum.

Bågkvartskruka används omfattande inom halvledarindustrin.

Den tillverkas av naturlig kvarts efter processen smältning och finmalning.

Den har hög renhet, hög temperaturbeständighet och korrosionsbeständighet samt en låg koefficient för termisk expansion.

Den innehåller inga luftbubblor och kontrolleras till PPM-nivå, vilket ger utmärkta egenskaper såsom högtemperaturbeständighet, kemisk stabilitet, perfekt isolering och genomsläppighet, etc.

Viktiga egenskaper och fördelar

• Ultra-hög renhet: Totalt innehåll av metalliska orenheter (t.ex. Na, K, Fe) kontrolleras under 10 ppm, vilket säkerställer att smälta material inte kontamineras under högtemperaturprocesser.
• Extrem värmebeständighet: Mjukningspunkt når 1730 °C, vilket möjliggör långtidss användning vid temperaturer upp till 1100 °C och korttids toppanvändning vid 1450 °C utan deformation.
• Utmärkt kemisk stabilitet: Utom vid vätefluorid och varm fosforsyrlig syrlösning reagerar det inte med de flesta syror, baser och smält metall; syraberäkningen är 30 gånger högre än för keramik och 150 gånger högre än för rostfritt stål.
• Utmärkt motstånd mot termiska chock: Har en extremt låg termisk expansionskoefficient (5,5×10⁻⁷/K), vilket gör att det kan tåla snabba temperaturförändringar från 1100 °C till rumstemperatur utan sprickbildning.
• Utmärkt isolering och ljusgenomsläpp: Volymresistiviteten överstiger 10¹⁶ Ω·cm vid höga temperaturer, och det släpper igenom 80 % av ultraviolett ljus och 93 % av synligt ljus, vilket gör det lämpligt för optiska och högtemperaturkänslområden.
• Stark isolering: Motståndsvärdet för kvartsglas motsvarar 10 000 gånger det för vanligt glas, vilket gör det till ett mycket bra elektriskt isoleringsmaterial med god isoleringsprestanda vid rumstemperatur.
• God ljustransmission: Har god ljustransmission över hela spektrumet från ultraviolett till infrarött, med en transmittans för synligt ljus på 93 % eller mer och en transmittans på 80 % eller mer i ultraviolett spektralområde.

Huvudsakliga användningsområden: Huvudsaklig användning av genomskinlig kiselkvarts-/kvartsglas-cylindrisk kruka:

Ugnssmältning, laboratoriessintering/smältning, elektrisk värmeapparat, ugnsvärmning (muffelugn), halvledare, optik,  kommunikation, militär, kemisk industri, mekanik,  elektrisk utrustning, miljöskydd och andra områden.

• Halvledarindustri

Fungerar som en kärnbehållare för att dra monokristallint silicium i Czochralski-processen, med en årlig efterfrågan som överstiger 10 miljoner stycken globalt. Den ultrahöga renheten förhindrar införande av orenheter under siliciumkristalltillväxten och påverkar direkt utbytet av integrerade kretsar.

Används för gjutning av polykristallint siliciumlingot i produktionen av fotovoltaiska solceller, med en livslängd på 50–80 timmar per kruka, vilket stödjer produktionen av högeffektiva solwafer.

• Laboratorium och kemisk analys

Används omfattande i högtemperaturkemiska experiment, såsom provnedbrytning, smältanalys och rening av sällsynta jordartselement, tack vare dess korrosionsbeständighet och icke-kontaminerande egenskaper. Standardstorlekarna inkluderar 10 ml, 25 ml, 50 ml och 100 ml.

• Optisk och elektronikindustri

Används i smältprocessen för optiskt glas med hög renhet och laserkrystaller, där dess utmärkta ljusgenomsläpplighet och värmebeständighet säkerställer den optiska enhetligheten hos slutprodukten.

Fungerar som en högtemperaturbehållare för tunnfilmsavlagringsutrustning inom tillverkning av elektroniska komponenter och bibehåller stabil prestanda i vakuummiljöer.

• Metallurgi och materialframställning

Används för smältning av metall med hög renhet (t.ex. titan, zirkonium) och framställning av avancerade keramiska material, vilket förhindrar oxidation och föroreningar av metallen under högtemperaturprocessen.

Tillverkningsprocess

Råmaterialval: Använder naturlig kvartsmalm med hög renhet eller syntetisk kiseldioxidpulver med en Fe₂O₃-halt < 0,001 % för att säkerställa produktens renhet.

Smältning och formning:

• Elektrisk smältmetod: Placerar råmaterial i en grafitform, smälter dem vid 1800–2000 °C genom bågentladning i vakuum eller en skyddande atmosfär och ger krukan dess form genom gravitation och ytspänning.
• Flamm-smältmetod: Smälter kvartspulver med en vätgen-syrgenflamma och formar den till önskad form med hjälp av en roterande form, lämplig för krukor av mindre storlek.
• Efterbearbetning: Inkluderar kylning, trimning, slipning av insidan och rengöring för att kontrollera ytråhet Ra <0,2 μm och säkerställa dimensionsnoggrannhet inom ±0,5 mm.

Kvalitetskontroll: Utför strikta kontroller av bubbeldefekter (diameter <0,5 mm, antal <5 per cm²), föroreningsinnehåll och motstånd mot termisk chock för att uppfylla industriella applikationskrav.

Tekniska specifikationer