Maßgeschneiderte hochreine, polierte, transparente Quarzglasplatte

Produktdetails

1. Definition der Quarzglasplatte:

Quarzglasplatten sind spezielle Industriematerialien aus hochreinem Siliziumdioxid ( mit einer Reinheit von ≥ 99.99%). Sie werden durch Schmelzen, Schneiden und Schleifen hergestellt. Ihre Mohshärte beträgt 7, und sie vertragen hohe Temperaturen (mit einer Langzeiteinsatztemperatur bis zu 1100 ℃), haben eine geringe Wärmeausdehnung, hohe thermische Stabilität sowie hervorragende elektrische Isoliereigenschaften. Im Normalzustand sind sie farblos und transparent, mit einer Durchlässigkeit für sichtbares Licht von über 85 %.

2. Vorteile der Quarzglasplatte:

Quarzplatten sind spezielle industrielle technische Gläser, hergestellt aus Siliziumdioxid. Sie sind ein sehr hervorragendes Grundmaterial. Quarzplatten weisen eine Reihe hervorragender physikalischer und chemischer Eigenschaften auf, wie zum Beispiel:

2.1 Hohe Temperaturbeständigkeit.

Die Erweichungstemperatur von Quarzglas liegt bei etwa 1730 ℃, und es kann eingesetzt werden für eine lange Zeit bei 1100 ℃ verwendet werden. Die maximale kurzfristige Einsatztemperatur kann 1450 erreichen ℃.

2.2 Korrosionsbeständigkeit.

Abgesehen von Flußsäure unterliegt Quarzglas kaum chemischen Reaktionen mit anderen Säuresubstanzen. Seine Säurebeständigkeit ist 30-mal so hoch wie die von Keramik und 150-mal so hoch wie die von Edelstahl. Insbesondere hinsichtlich der chemischen Stabilität bei hohen Temperaturen ist es von keinem anderen technischen Werkstoff zu übertreffen.

2.3 Gute thermische Stabilität.

Es weist einen äußerst geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten des Glases auf und verträgt starke Temperaturschwankungen. Wird Quarzglas auf etwa 1100 erhitzt ℃ und dann in kaltes Wasser gelegt wird, springt es nicht.

2.4 Gute Lichtdurchlässigkeit.

Quarzplatten weisen im gesamten Lichtspektrumbereich eine ausgezeichnete Lichtdurchlässigkeit auf, wobei die Transparenz für sichtbares Licht über 93 % beträgt. Insbesondere im ultravioletten Spektralbereich kann die maximale Durchlässigkeit über 80 % erreichen.

3. Eigenschaften der Quarzglasplatte:

3.1 Außergewöhnliche Reinheit und chemische Inertheit:

Quarzwafer mit hoher Reinheit sind nahezu inert. Sie reagieren nicht mit den meisten Chemikalien, einschließlich der aggressiven Säuren und Plasmen, die bei Ätzprozessen für Halbleiter eingesetzt werden. Dadurch wird sichergestellt, dass sie empfindliche Prozesse oder Materialien nicht kontaminieren.

3.2 Hohe thermische Stabilität und geringe Wärmeausdehnung:

Quarz weist einen der niedrigsten Wärmeausdehnungskoeffizienten aller handelsüblichen Materialien auf. Das bedeutet, dass er bei extremen Temperaturschwankungen – wie sie beispielsweise bei thermischer Oxidation und chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) in der Halbleiterfertigung auftreten – nur minimale dimensionsbezogene Veränderungen erfährt. Diese Stabilität verhindert Verzug, Fehlausrichtung und spannungsbedingte Ausfälle.

3.3 Hervorragende optische Eigenschaften:

Quarzwafer sind über einen sehr breiten Spektralbereich hinweg transparent – vom tiefen Ultraviolett (DUV) bis zum nahen Infrarot (NIR). Diese Transparenz, insbesondere gegenüber kurzwelligem UV-Licht, ist entscheidend für Fotomaske-Substrate in der Photolithografie, dem Verfahren zur Strukturierung integrierter Schaltungen. Sie ermöglicht eine hochauflösende Strukturierung, die für die Herstellung heutiger nanoskaliger Transistoren unerlässlich ist.

3.4 Hohe elektrische Isolierung:

Als ausgezeichneter elektrischer Isolator eignen sich Quarzwafer ideal als Träger oder Abstandshalter in elektronischen Prozessen und Geräten, um Kurzschlüsse und elektrische Störungen zu vermeiden.

3.5 Hervorragende mechanische Steifigkeit und Härte:

Obwohl spröde, ist geschmolzener Quarz ein sehr harter und steifer Werkstoff und bietet damit eine stabile sowie langlebige Plattform für empfindliche Prozesse.

4. Anwendung von Quarzglasplatten:

Quarzplatten werden weit verbreitet in der Halbleiterfertigung, in optischen Instrumenten, in medizinischen Geräten sowie in umgebungen mit hohen Temperaturen zum Schutz eingesetzt , unter anderem. Sie weisen Eigenschaften wie Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und hohe Lichtdurchlässigkeit auf.

4.1 Halbleiterherstellung

Für das Züchten von Einkristall-Silizium sowie die Wafer-Bearbeitung (z. B. Ätzen, Diffundieren, Oxidieren und andere Prozesse) als Schlüsselverbrauchsmaterialien wie Quarz-Tiegel und Quarz-Boote ist hochreines (über 99,99 %) erforderlich, um Verunreinigungen durch Fremdstoffe zu vermeiden.

4.2 Optik und Lasertechnik

Optische Geräte: Linsen, Farbmessgeräte, beschichtete Schutzfilme usw. Die Durchlässigkeit für sichtbares Licht liegt über 93 %, und das Material ist im Wellenlängenbereich von ultraviolettem bis nah-infrarotem Licht durchlässig.

Laseranlagen: Schutzfenster, Beobachtungsfenster für hohe Temperaturen, beständig gegen 1100 ℃ temperatur und weist einen geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf.

4.3 Medizintechnik

UV-Desinfektionsgerät: Nutzt die UV-Durchlässigkeit von Quarz zur Desinfektion.

Endoskop: Erfüllt präzise Anforderungen an die Lichtübertragung.

Hochtemperatur- und korrosive Umgebung

Chemische Ausrüstung: Beständig gegen Flusssäurekorrosion, geeignet für chemische Geräte und Hochtemperaturreaktoren.

Luft- und Raumfahrt: Geschmolzenes Quarzglas wird als Hochtemperatur-Fenstermaterial verwendet.

4.4 Weitere industrielle Anwendungen

Keramik und Baustoffe: Als Rohstoffe für Keramikkern und -hüllen erhöhen sie die mechanische Festigkeit.

Elektronische Bauteile: Piezoelektrische Quarzplatten werden in Quarzuhren, Sensoren usw. verwendet.

Technische Spezifikationen