9º andar, Edifício A Dongshengmingdu Plaza, nº 21 Rua Chaoyang East, Lianyungang Jiangsu, China +86-13951255589 [email protected]
Clareza óptica excepcional :
Transmitância luminosa superior a 90% em todo o espectro UV, visível e infravermelho (180 nm–3500 nm)
Estabilidade Térmica Excepcional:
Coeficiente de expansão térmica quase nulo (0,55×10⁻⁶/°C) , resistente a choques térmicos e deformações
Superior Resistência Química:
Inerte à maioria dos ácidos, bases e solventes orgânicos , ideal para ambientes corrosivos
Condutividade Térmica :
1,4 W/m·K, permitindo transferência eficiente de calor
Temperatura máxima de serviço :
1200 °C por curto período , temperatura de trabalho por longo período até 1100°C
Pureza:
99.99% sílica fundida de alta pureza, garantindo interferência mínima de impurezas
Dureza:
5,3–6,5 na escala Mohs , proporcionando resistência superior a arranhões
Detalhes do produto
O material principal do disco de quartzo fundido é sílica amorfa, que não apresenta o efeito piezoelétrico. No entanto, suas excelentes propriedades ópticas ( alta transmissão luminosa , larga faixa de transmissão de luz ) , coeficiente extremamente baixo de expansão térmica, alta estabilidade química e resistência ao calor tornam-no amplamente utilizado em óptica, semicondutores, comunicações ópticas e outros campos.
O cerne do processo de fabricação do disco de quartzo fundido transparente é derreter matérias-primas de areia de quartzo em altas temperaturas para formar um corpo vítreo homogêneo, seguido de conformação a quente e usinagem a frio.
1. Produção de placa de quartzo transparente
Fase Um: Preparação e fusão da matéria-prima
Esta é a base de todo o processo, determinando a pureza e as propriedades básicas do material.
1.1 Seleção e processamento da matéria-prima para placas de vidro de quartzo
Matérias-primas: É utilizado areia de quartzo natural de alta pureza ou pó de silício sintético. Para aplicações de grau óptico, é exigida pureza extremamente elevada, sendo que o teor total de impurezas metálicas geralmente precisa ser inferior a algumas partes por milhão (ppm).
Processamento: As matérias-primas precisam ser purificadas por métodos físicos e químicos, como flotação, separação magnética e lavagem ácida, para remover impurezas como íons metálicos e poeira.
1.2 Fusão
Objetivo: Converter areia cristalina de quartzo (SiO₂) em vidro de quartzo fundido amorfo.
Métodos: Existem principalmente dois tipos
Método de fusão elétrica:
Num forno elétrico protegido por vácuo ou gás inerte (como argônio), uma temperatura superior a 2000 °C é fornecida por um arco gerado por eletrodos ou por um aquecedor de grafite.
Este método pode produzir quartzo fundido com teor extremamente baixo de hidroxila (OH⁻) , o que é adequado para aplicações na faixa ultravioleta
Método de fusão por chama:
Pó de areia de quartzo é pulverizado sobre o alvo através de uma chama hidrogênio-oxigênio ou oxigênio-hidrogênio, e depois depositado camada a camada por revestimento.
O quartzo fundido produzido por este método geralmente contém um teor relativamente alto de OH, é adequado para a faixa do infravermelho e pode ser usado para fabricar brancos de grande porte.
1.3 Moldagem e recozimento
Objetivo: Moldar o vidro de quartzo fundido na forma inicial desejada (como bloco, bastão, placa) e eliminar tensões internas.
Processo: O líquido de vidro de quartzo fundido é injetado no molde ou um "blank" com forma específica é formado controlando-se o processo de resfriamento. Posteriormente, o blank é introduzido no forno de recozimento e atravessa lentamente uma faixa de temperatura precisamente controlada (por exemplo, de acima de 1100 °C até abaixo de 800 °C ). Esse processo pode minimizar e homogeneizar ao máximo as tensões térmicas internas, evitando fissuras ou deformações durante processamentos ou usos posteriores.
2. Vantagens do disco de quartzo:
2.1 Propriedades ópticas excepcionais:
Alta transmissão o disco de quartzo oferece transmissão muito alta em uma ampla faixa espectral, do ultravioleta profundo (UV) ao infravermelho próximo (NIR) .
Baixa fluorescência : O disco de quartzo possui fluorescência de fundo inerentemente baixa, o que é crítico para medições ópticas sensíveis.
2.2 Estabilidade térmica excepcional:
Coeficiente de Expansão Térmica Extremamente Baixo: Altamente resistente a choque térmico e deformação sob mudanças rápidas de temperatura.
Ponto de amolecimento elevado: O disco de quartzo suporta temperaturas operacionais muito altas. Placa de quartzo resiste a 1100 graus por longo tempo e a temperatura de trabalho em curto prazo é de 1200 graus .
2.3 Pureza química e resistência excelentes:
Inércia: Altamente resistente à corrosão por ácidos, sais e metais. Além do ácido fluorídrico, o vidro de quartzo quase não reage com outros ácidos em tratamentos químicos, e sua resistência a ácidos é 30 vezes maior que a dos cerâmicos e 150 vezes maior que a do aço inoxidável.
2.4 Desempenho excelente de isolamento elétrico:
O valor de resistência do disco de quartzo é equivalente a 10.000 vezes o do vidro comum. É um excelente material isolante elétrico e mantém boas propriedades elétricas mesmo em altas temperaturas.
Alta Pureza: O disco de quartzo pode ser produzido com níveis extremamente baixos de impurezas, evitando contaminação em processos sensíveis.
Isolamento Elétrico Superior: O disco de quartzo possui alta rigidez dielétrica e baixa perda dielétrica.
Limiar elevado de dano por laser: O disco de quartzo pode suportar feixes de laser de alta potência sem sofrer danos , tornando-o ideal para aplicações a laser.
3. Principais campos de aplicação:
3.1 Óptica e fotônica:
Lentes, Janelas e Prismas: Utilizados em equipamentos de litografia UV, sistemas a laser de alta potência, telescópios e instrumentos espectroscópicos.
3.2 Fibras ópticas:
Material principal para fibras ópticas de alta pureza utilizadas nas telecomunicações e na transmissão de dados.
3.3 Fabricação de semicondutores:
Porta-wafers e tubos de processo: Utilizados como cadinhos, tubos de difusão e barcos para wafers em processos de alta temperatura para o crescimento de cristais de silício e a fabricação de chips, devido à sua pureza e estabilidade térmica

3.4 Iluminação:
Lâmpadas de Descarga de Alta Intensidade (HID): Utilizadas como material de envelope para lâmpadas de mercúrio, halogeneto metálico e arco de xenônio, pois suportam altas temperaturas e radiação UV.
3.5 Equipamento de Laboratório:
Cubetas e utensílios de laboratório: Utilizados para Espectroscopia UV-Vis e em aplicações que exigem inércia química e resistência ao choque térmico.
Dados Técnicos do Disco de Quartzo Transparente
conteúdo de desempenho |
índice de desempenho |
densidade |
2,21 g/cm³ 3 |
resistência à tração |
4.9×107Pa (N/m²) 2) |
resistência à compressão |
>1.1×109 Pa |
coeficiente de expansão térmica (20 °C – 300 °C) |
5.5×10−7cm/cm℃ |
condutividade térmica (20 °C) |
1,4W/m℃ |
calor específico (20 °C) |
680 J/kg℃ |
ponto de amolecimento |
1700℃ |
ponto de recozimento |
1210 ℃ |
História do desenvolvimento

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