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표면 거칠기
내부/외부 표면의 매끄러움은 일반적으로 ≤0.2 μm Ra입니다.
버블 콘텐츠
수량 및 크기 마이크로 버블 , 반도체 응용 분야에서 매우 중요
제품 상세 정보
1. 소개 실리카 석영 유리 막대:
석영 막대는 천연 석영 또는 합성 실리카로 만든 원통형 고체이다. 사용된 석영 또는 합성 실리카 . 이 제품은 뛰어난 특성으로 유명하다. 용융 석영 막대는 천연 석영 결정 또는 합성 원료를 융합하여 제조한 고순도 이산화규소(SiO₂)로 이루어진 원통형 고체 막대이다.
이것은 열적·광학적·화학적 특성이 뛰어나기로 정평이 난 첨단 기술용 석영 소재이다. 열적, 광학적, 화학적 특성 으로, 첨단 기술 산업 및 과학 연구 분야에서 필수적인 소재이다.
2.특징
2.1 극도로 높은 열 안정성: 열 팽창 계수가 매우 낮고 급격한 온도 변화에도 균열 없이 견딜 수 있다(열 충격 저항성). 연화점은 약 1630°C에 가깝다. , 그리고 연속 사용 온도는 1050~1100°C에 이릅니다.
2.2 뛰어난 광학 성능: 자외선, 가시광선, 적외선 영역 전반에서 높은 투과율을 갖습니다. 특히 단파 자외선 .
2.3 뛰어난 화학적 순도 및 비활성: 순도가 99.9% 이상인 이산화규소로 구성되어 대부분의 산(불화수소산 및 고온 인산 제외)에 대해 뛰어난 내식성을 보입니다. 고온 조건에서도 민감한 환경을 오염시키지 않습니다.
2.4 뛰어난 전기 절연성: 우수한 전기 절연체이며, 고온 및 고주파 조건에서도 안정적인 전기적 특성을 유지합니다.
2.5 뛰어난 기계적 특성: 높은 강성과 경도를 가지며 상온에서 우수한 기계적 강도를 나타낸다. 장기 사용 수명은 사용 온도, 환경 및 표면 처리 품질에 영향을 받는다.
3. 제조 공정
3.1 원료 준비: 고순도 천연 석영 결정 또는 합성 실리콘 기반 재료를 선택한다.
3.2 용해: 원료를 고온 전기로 에서 진공 또는 불활성 가스 보호 하에(일반적으로 2000°C 이상) 용해시킨다.
3.3 성형: 용융된 석영을 정밀하게 제어된 공정을 통해 특정 지름과 길이를 갖는 균일한 원통형 막대로 뽑아낸다.
3.4 어닐링: 성형된 석영 막대는 내부 응력을 제거하고 재료의 안정성 및 기계적 강도를 확보하기 위해 신중하게 제어된 어닐링 공정을 거친다.
3.5 냉간 가공: 정확한 치수, 매끄러운 표면 마감 또는 특정 형상을 얻기 위해 절단, 연마, 광택, 화염 광택 등의 후속 가공을 필요에 따라 수행할 수 있다.
4. 주요 종류
4.1 투명 석영 막대: 표준 유형으로, 최고 수준의 광학 투과율을 특징으로 하며 광학 및 조명 용도에 적합하다.
4.2 불투명 석영 막대: 다수의 미세한 기포를 포함하여 가시광선에는 불투명하지만 일반적으로 적외선은 투과한다. 열 충격 저항성이 우수하고 비용이 낮은 편이다.
4.3 융합 석영 막대: 화학 기상 증착법으로 제조되며, 최고 순도와 우수한 자외선 투과 성능을 갖추어 가장 까다로운 반도체 및 광학 응용 분야에 적합합니다.
4.4 우수한 기계적 강도 장기 사용 수명은 사용 온도, 환경 및 표면 처리 품질에 따라 영향을 받습니다.
5. 석영 막대의 장점:
5.1 고순도: 주성분은 이산화규소 (SiO₂).
5.2 고온 내성: 단기간 최대 1100°C(2012°F)까지 견딜 수 있으며, 지속적으로 1000°C (1832°F).
5.3 낮은 열팽창률: 열 충격에 매우 강해 급격한 온도 변화에도 쉽게 균열이 생기지 않는다.
5.4 뛰어난 광학 투명성: 자외선(UV)에서 가시광선, 적외선(IR) 영역까지 넓은 범위의 빛을 투과시킨다.
5.5 뛰어난 전기 절연성: 높은 온도에서도 우수한 전기 절연체이다 고온에서 .
5.6 뛰어난 화학 저항성: 대부분의 산에 비활성이며 부식에 강해 혹독한 화학 환경에도 적합하다.

6. 일반적인 응용 분야:
산업별 주요 응용 분야:
6.1 웨이퍼 가공: 확산로 및 CVD(화학 기상 증착) 시스템에서 고온 공정 중 실리콘 웨이퍼를 지지하기 위해 웨이퍼 보트, 지지 막대, 패들로 사용됨.
광학 응용 분야: 반도체 제조 장비에서 UV 광선의 전달 경로 또는 도관으로 사용됩니다.
6.2 램프 엔벨로프/실드: 할로겐 램프, 자외선 램프, 고강도 방전 램프에 사용됨. 석영은 필라멘트를 보호하면서도 고온에서 발생하는 빛을 투과시킴.
지지 구조물: 고온 램프 내부의 필라멘트 및 전극을 지지하는 구조물로 작용합니다.
6.3 실험실 기기: 고온로 및 화학 실험에서 교반기, 시료 홀더, 열전대 보호 튜브 제작에 사용됨.
광학 벤치 및 부품: 정밀 광학 장치(예: 렌즈, 거울, 레이저 장착용)에서 견고하고 안정적이며 열 변화에 영향을 받지 않는 지지 구조물로 활용됨.
분광법: 우수한 광학 특성 덕분에 UV-Vis 및 IR 분광계의 시료 홀더나 창문으로 사용됨.
6.4 관측 유리창: 고온로, 보일러, 반응기의 관측 포트로 사용되어 내부 공정을 시각적으로 모니터링할 수 있음.
열전대 보호 튜브: 열전대를 부식성 및 고온 환경으로부터 보호하여 정확한 온도 측정을 보장함.
열처리: 유리 및 금속 열처리 공정의 컨베이어 벨트에서 지그, 고정구 및 롤러로 사용됨.
6.5 프리폼 취급: 광섬유 프리폼 제조 과정에서 취급 막대 및 지지 구조물로 사용됨.
기술 사양
| 특성 내용 | 단위 | 특성 지수 |
| 밀도 | kg/cm³ | 2.2×10³ |
| 강도 | KHN₁₀₀ | 570 |
| 인장 강도 | Pa(N/m²) | 4.8×10⁷ |
| 압축 강도 | Pa | >1.1×10⁹ |
| 열팽창계수 (20℃-300℃) | cm/cm·℃ | 5.5×10⁻⁷ |
| 열전도율 (20℃) | W/m·℃ | 1.4 |
| 비열 (20℃) | J/kg·℃ | 660 |
| 유화점 | ℃ | 1630 |
| 회복점 | ℃ | 1180 |
개발 이력

특허 및 인증

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자주 묻는 질문