แผ่นแก้วซิลิกาฟิวส์ควอทซ์ใสที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับงานด้านแสง

                                                           รายละเอียดสินค้า                                                                                                                                                            

1. ภาพรวมของแผ่นควอตซ์:

1.1 คำอธิบายเกี่ยวกับแผ่นควอตซ์:

ซิลิกา ควอตซ์ กลาส แผ่นควอตซ์หลอมรวม: ผลิตจาก ซิลิกาความบริสุทธิ์สูง ผ่านกระบวนการหลอมและขึ้นรูป เป็นวัสดุระดับพรีเมียมที่มีคุณค่าเนื่องจากประสิทธิภาพโดดเด่นในหลายอุตสาหกรรม

1.2 ลักษณะภายนอกของแผ่นควอตซ์:

ความชัดเจนเชิงสายตา: แผ่นควอตซ์แบบโปร่งใส มีความใสสูงและไม่มีสี ให้ลักษณะคล้ายผลึกอย่างสมบูรณ์แบบ โดยไม่มีฟองอากาศ สารสิ่งแปลกปลอม หรือรอยเส้นปรากฏให้เห็น
ความเรียบของพื้นผิว: พื้นผิวมีความเรียบและแบนราบมากเป็นพิเศษ ผ่านการขัดเงาจนให้ผิวเงาสะท้อนแสงได้เหมือนกระจก

รูปร่างและขนาด: สามารถผลิตให้มีรูปร่างและขนาดต่าง ๆ ได้ รูปทรงปกติหลากหลายแบบ (เช่น สี่เหลี่ยมจัตุรัส สี่เหลี่ยมผืนผ้า และวงกลม) รวมทั้งขนาดที่ออกแบบตามความต้องการ โดยมีการขึ้นรูปขอบอย่างแม่นยำ (รวมถึงขอบเอียงหรือขอบโค้ง)

ความสม่ำเสมอของความหนา: แผ่นวัสดุมีความหนาสม่ำเสมอทั่วทั้งพื้นผิว ซึ่งช่วยให้มั่นใจได้ว่า ไม่มีการบิดงอหรือความไม่เรียบอย่างเห็นได้ชัด .

2. กระบวนการผลิต:

2.1 การเลือกวัตถุดิบ

เลือก ควอตซ์บริสุทธิ์สูง หรือผลึกควอตซ์สังเคราะห์ เพื่อให้มั่นใจว่ามีสิ่งเจือปนน้อย จึงรับประกันคุณสมบัติทางแสงและคุณสมบัติทางกายภาพของผลิตภัณฑ์สำเร็จรูป

2.2 การบดและการบดละเอียด

บดวัตถุดิบควอตซ์ให้เป็นชิ้นเล็กๆ จากนั้น บด บดให้เป็นผงละเอียดโดยใช้เครื่องบดลูกบอลหรืออุปกรณ์บดอื่นๆ

2.3 การทำให้บริสุทธิ์

ใช้วิธีการต่าง ๆ เช่น การชะล้างด้วยกรด การลอยตัว หรือการเผาที่อุณหภูมิสูง เพื่อกำจัดสิ่งเจือปน เช่น ไอออนของโลหะและแร่ที่ไม่ใช่ควอตซ์อื่น ๆ ออกจากผงควอตซ์

2.4 การขึ้นรูป

วิธีการหล่อ: เทผงควอตซ์ที่ผ่านการทำให้บริสุทธิ์แล้วลงในแม่พิมพ์ จากนั้นให้ความร้อนที่อุณหภูมิสูง (ประมาณ 1700 องศาเซลเซียส) เพื่อหลอมและแข็งตัวเป็นก้อนควอตซ์เบื้องต้น
วิธีการเติบโตของผลึก: สำหรับแผ่นควอตซ์ที่ต้องการความแม่นยำสูง ใช้เทคนิคต่าง ๆ เช่น กระบวนการซีโชครัลสกี (Czochralski process) เพื่อปลูกผลึกควอตซ์แบบเดี่ยว แล้วจึงตัดออกเป็นก้อนควอตซ์เบื้องต้น

2.5 การตัด

การใช้งาน เลื่อยเพชรหรือเลเซอร์ เครื่องตัดเพื่อตัดก้อนควอตซ์เบื้องต้นให้เป็นแผ่นบางตามความหนาที่กำหนด

2.6 การขัดหยาบและการขัดเงา

ขั้นตอนแรก ใช้ วัสดุบด ขัดแผ่นควอตซ์ให้ได้ระดับความเรียบตามที่ต้องการ จากนั้นจึงขัดเงาอย่างแม่นยำด้วย สารขัดหรือแผ่นขัดที่มีความละเอียดสูงกว่า เพื่อให้ได้ผิวเรียบเสมือนกระจก

2.7 การทำความสะอาด

ล้างแผ่นเวเฟอร์ควอตซ์ที่ผ่านการขัดเงาด้วยน้ำปราศจากไอออน และใช้การทำความสะอาดด้วยคลื่นอัลตราโซนิกหรือการทำความสะอาดด้วยสารเคมีเพื่อกำจัดอนุภาคสารขัดหรือสิ่งสกปรกที่ตกค้างทั้งหมด

3. ข้อดีของแผ่นควอตซ์ใส

3.1 การส่งผ่านแสงสูง:

แก้วควอตซ์ใสมีคุณสมบัติในการส่งผ่านแสงได้ดีเยี่ยมในช่วงรังสีอัลตราไวโอเลต แสงที่มองเห็น และรังสีอินฟราเรด โดยมีค่าการส่งผ่านแสงมากกว่า 90% ในช่วงความยาวคลื่น 200–2500 นาโนเมตร

3.2 สัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ:

สัมประสิทธิ์การขยายตัวเชิงเส้นมีค่าเพียงประมาณ 5.5×10^-7/℃ซึ่งต่ำกว่าแก้วทั่วไปมาก และมีความต้านทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรวดเร็วได้ดี

3.3 ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูง:

สามารถใช้งานได้เป็นเวลานานที่ อุณหภูมิสูงถึง 1100℃ และสามารถทนต่อ การกระแทกจากอุณหภูมิสูงในระยะสั้นได้ถึง 1400℃ .

3.4 ความต้านทานต่อการกัดกร่อน:

มีความต้านทานต่อการกัดกร่อนของกรดส่วนใหญ่ (ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริกและกรดฟอสฟอริกที่ร้อนจัด) และมีความเสถียรทางเคมีที่ดี

3.5 ความแข็งสูง:

ค่าความแข็งตามมาตราโมห์ส คือ 7, ซึ่งสูงกว่ากระจกทั่วไป และมีความต้านทานการขีดข่วนได้ดี

3.6 ฉนวนไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม:

มีสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าได้ดีเยี่ยม และการสูญเสียพลังงานไดอิเล็กทริกต่ำมาก จึงสามารถรักษาสมรรถนะที่มั่นคงได้ใน สภาพแวดล้อมที่มีความถี่สูงและแรงดันไฟฟ้าสูง

โดยสรุป แผ่นควอตซ์เป็นวัสดุประสิทธิภาพสูงที่รวมคุณสมบัติพิเศษด้านความร้อนและเชิงกลของควอตซ์เข้าด้วยกันอย่างลงตัว พร้อมทั้งมีความสามารถพิเศษในการกระจายแสงอย่างยอดเยี่ยม ส่งผลให้แผ่นควอตซ์มีความจำเป็นอย่างยิ่งต่อการใช้งานด้านการให้ความร้อนและการให้แสงที่อุณหภูมิสูง โดยเฉพาะในกรณีที่ต้องคำนึงถึงทั้งความปลอดภัยและความสบายทางสายตาเป็นสำคัญ

4. แอปพลิเคชันที่พบได้ทั่วไป:

อุตสาหกรรมออปติก: ใช้ในการผลิตเลนส์ ปริซึม หน้าต่างออปติก และเส้นใยแสงสำหรับกล้องโทรทรรศน์ กล้องจุลทรรศน์ กล้องถ่ายรูป และระบบเลเซอร์

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: ใช้เป็นที่รองรับเวเฟอร์ ท่อสำหรับกระบวนการผลิต และส่วนประกอบเตาเผาในอุตสาหกรรมการผลิตชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากมีความบริสุทธิ์สูงและความเสถียรทางความร้อน

อุตสาหกรรมพลังงานแสงอาทิตย์: ใช้ในกระจกครอบแผงโซลาร์เซลล์และอุปกรณ์โฟโตโวลเทอิกเพื่อเพิ่มการส่งผ่านแสงและต้านทานการกัดกร่อนจากสิ่งแวดล้อม

อุตสาหกรรมเคมี: ใช้ในการผลิตภาชนะปฏิกิริยา หอกลั่น และชิ้นส่วนท่อที่ต้องทนต่อกรดเข้มข้นและอุณหภูมิสูง

อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์: ใช้เป็นวัสดุฉนวน ชิ้นส่วนไดอิเล็กตริกความถี่สูง และวัสดุบรรจุภัณฑ์สำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และวงจรรวม

อุปกรณ์ทางการแพทย์: ใช้ในเลเซอร์ทางการแพทย์ อุปกรณ์ผ่าตัด และอุปกรณ์วินิจฉัย เนื่องจากมีความเข้ากันได้กับร่างกายมนุษย์และทนต่อกระบวนการฆ่าเชื้อ

อุตสาหกรรมเครื่องบินและอวกาศ: ใช้ในเซ็นเซอร์ออปติคัล โล่ป้องกันความร้อน และส่วนประกอบหน้าต่างสำหรับยานอวกาศและอุปกรณ์การบิน ซึ่งสามารถทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรุนแรง

ข้อควรระวังในการใช้ผลิตภัณฑ์ควอตซ์:

หลีกเลี่ยงการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรุนแรง อย่าสัมผัสผลิตภัณฑ์ที่ทำจากควอตซ์กับอุณหภูมิที่เปลี่ยนแปลงอย่างฉับพลันหรือรุนแรง เช่น การวางหม้อร้อนลงบนเคาน์เตอร์ที่ทำจากควอตซ์โดยตรง หรือการเทน้ำเดือดลงในภาชนะที่ทำจากควอตซ์ อุณหภูมิที่แตกต่างกันอย่างมากอาจทำให้เกิดรอยแตกร้าวหรือความเสียหาย

5. พารามิเตอร์

ข้อมูลทางเทคนิคของแผ่นกระจกควอทซ์ใส

ประวัติความเป็นมาในการพัฒนา

สิทธิบัตรและการรับรอง

บรรจุภัณฑ์

บริการ                                                                         

คำถามที่พบบ่อย