Specialanpassad platta av polerat klart kvartsglas med hög renhet för halvledarindustrin

Definition av kvartsglasplatta:

Kvartsglasplattor är specialindustriella material tillverkade av högpurity kiseldioxid (med en renhet på ≥ 99,99 %). De tillverkas genom smältning, skärning och slipningsprocesser. De har en mohshårdhet på 7, tål höga temperaturer (med en långsiktig användningstemperatur upp till 1100 ℃), har låg värmexpansion, hög termisk stabilitet och utmärkta elektriska isoleringsegenskaper. I sitt normala tillstånd är de färglösa och transparenta, med en synlig ljusgenomsläppighet på över 85 %.

Fördelar med kvartsglasplatta:

Kvartsskivor är speciell industriell tekniskt glas tillverkat av kiseldioxid. De är ett mycket utmärkt grundmaterial. Kvartsskivor besitter en rad utmärkta fysikaliska och kemiska egenskaper, såsom:

• Hög temperaturmotstånd. Mjukningstemperaturen för kvartsglas är ungefär 1730 ℃, och det kan användas under lång tid vid 1100 ℃. Den maximala korttidsanvändningstemperaturen kan nå upp till 1450 ℃.
• Kemisk motståndskraft. Förutom fluorvätesyra reagerar kvartsglas knappt kemiskt med andra syror. Dess syramotstånd är 30 gånger större än keramik och 150 gånger större än rostfritt stål. Särskilt vad gäller kemisk stabilitet vid höga temperaturer är det oöverträffat bland alla andra konstruktionsmaterial.
• God termisk stabilitet. Det har en extremt liten värmexpansionskoefficient för glas och tål kraftiga temperaturförändringar. Om kvartsglas värms till cirka 1100 ℃ och därefter placeras i kallt vatten kommer det inte att spricka.
• Bra ljusgenomskinlighet. Kvantplattor har utmärkt ljusgenomskinlighet över hela ljusspektrumbandet, med en synlig ljusgenomsläpplighet på över 93 %. Särskilt inom ultraviolett ljusspektrum kan den maximala genomsläppligheten nå över 80 %.

Egenskaper hos kvartsglasplatta:

• Exceptionell renhet och kemisk tröghet: Högrenhetskvarts skivor är i praktiken inerta. De reagerar inte med de flesta kemikalier, inklusive de aggressiva syrorna och plasma som används i halvledaretchprocesser. Detta säkerställer att de inte förorenar känsliga processer eller material.
• Hög termisk stabilitet och låg termisk utvidgning: Kvärt har en av de lägsta termiska expansionskoefficienterna hos något kommersiellt material. Det innebär att det genomgår minimala dimensionella förändringar vid extrema temperaturväxlingar, vilket ofta sker vid processer som termisk oxidation och kemisk ångdeponering i tillverkning av halvledare. Denna stabilitet förhindrar vridning, feljustering och brott orsakat av mekanisk spänning.
• Utmärkta optiska egenskaper: Kvärtwafer är transparenta över ett mycket brett spektralt område, från djup ultraviolett (DUV) till nära infrarött (NIR). Denna transparens, särskilt för kortvågligt UV-ljus, är avgörande för fotomasksubstrat i fotolitografi, den process som används för att avbilda integrerade kretsar. Den möjliggör högupplöst avbildning, vilket är nödvändigt för att tillverka dagens nano-skaliga transistorer.
• Hög elektrisk isolering: Som en utmärkt elektrisk isolator är kvartsplattor idealiska att använda som bärare eller mellanlägg i elektroniska processer och utrustning, vilket förhindrar kortslutningar och elektrisk störning.
• Anmärkningsvärd mekanisk styvhet och hårdhet: Även om de är spröda är smält kvarts ett mycket hårt och styvt material, vilket ger en stabil och slitstark plattform för känsliga processer.

Användning av kvartsglasplatta:

Kvartsplattor används flitigt inom tillverkning av halvledare, optiska instrument, medicinsk utrustning och skydd i högtemperaturmiljöer, bland annat. De har egenskaper såsom motståndskraft mot hög temperatur, korrosionsmotstånd och hög ljusgenomskinlighet.

• Halvledars tillverkning

För odling av enkristallint silicium och bearbetning av skivor (såsom etchning, diffusion, oxidation och andra processer), som nyckelartiklar såsom kvartskrukor och kvartsbåtar, krävs hög renhet (över 99,99 %) för att undvika föroreningskontaminering.

• Optik och laserfält

Optiska instrument: Linsar, kolorimetrar, belagda skyddsfilm, etc. Ljusgenomsläppligheten för synligt ljus är över 93 %, och det är transparent i ultraviolett till nära infrarött våglängdsområde.

Laserutrustning: Skyddsfönster, observationsfönster för hög temperatur, kapabelt att tåla 1100 ℃ temperatur och har en låg termisk expansionskoefficient.

• Medicinsk utrustning

UV-steriliseringsanordning: Använder kvartsglasets UV-genomsläpplighet för desinfektion.

Endoskop: Uppfyller kraven på exakt ljusöverföring.

Hög temperatur och korrosiv miljö

Kemisk utrustning: Motståndskraftig mot vätfluoridkorrosion, lämplig för kemikalier och reaktorer vid hög temperatur.

Rymd- och flygteknik: Smält kvartsglas används som material för fönster vid hög temperatur.

• Andra industriella tillämpningar

Keramik och byggmaterial: Som råmaterial för keramkärnor och skal, vilket förbättrar mekanisk hållfasthet.

Elektroniska komponenter: Piezoelektriska kvartsplattor används i kvartsklockor, sensorer, etc.

Tekniska specifikationer