Pielāgota caurspīdīga kvartsa stikla flanče pusvadītāju rūpniecībai

Produkta detaļas

1. Kvartza flanču ražošanas process:

1.1 Sākotnējo materiālu izvēle : Augstas tīrības dabiskie kvartza kristāli vai sintētisks kvarca smiltis tiek izvēlēts kā izejviela. Silīcija dioksīda saturs parasti pārsniedz 99,9%, lai nodrošinātu augstas kvalitātes īpašības.

1.2 Kausēšana: Izejviela tiek uzkarsināta līdz ļoti augstai temperatūrai (virs 1700 °C) vakuumā vai neaktīvā atmosfērā (bieži vien elektriskā pretestības vai indukcijas krāsnī), lai to izkustinātu līdz viskozai, burbuļu brīvai kvartsa kūsājumam.

1.3 Formēšana: Kvartsa kūsājumu pēc tam formēts veido flančos, izmantojot vienu no vairākām metodēm

1.4 Lietošana: Ielejot precīzās grafīta vai keramikas formas.

1.5 Centrifugālā liešana: Rotējot formu, lai veidotu tukšus cilindriskus formas, kuras vēlāk apstrādā ar mašīnām.

1.6 Karstspiedēšana/pabeigšana: Kvarca заготовка tiek karsēta un pēc tam kovāta spiediena ietekmē, lai palielinātu blīvumu un veidotu gandrīz galīgo formu.

1.7 Atkausēšana: Veidotie flanči tiek lēni un kontrolēti atdzesēti atkausēšanas krāsnī. Šis process novērš iekšējo termisko sasprindzinājumu, novēršot plaisu veidošanos un nodrošinot strukturālu stabilitāti.

1.8 Precīzā apstrāde: Atkausētās заготовkas tiek rūpīgi apstrādātas izmantojot dimanta pārklājuma instrumentus. Šajā procesā ietilpst slīpēšana, griešana, urbšana un līmēšana, lai sasniegtu galīgos izmērus, virsmas apdarinājumu (bieži vien optiskā kvalitātē), taisnīgumu un precīzus noslēguma virsmas izmērus ( piemēram, Ra < 0,4 μ m ).

1.9 Tīrīšana un kvalitātes pārbaude: Rūpīga tīrīšana (piemēram, ultrasoniska, skābju tīrīšana) noņem piesārņojumus. Katru flanci pārbauda attiecībā uz izmēriem, vizuāli redzamām defektiem (pūslīšiem, iekļaujumiem) un optiskajām īpašībām. Uzlabotās metodes, piemēram, lāzeru interferometrija, pārbauda plaknumu un paralēlumu.

2. Kvartzflanču priekšrocības:

2.1 Izcilā termiskā stabilitāte: Ārkārtīgi zems termiskās izplešanās koeficients (~5,5 × 10 ⁻⁷ /K) padara tos ļoti izturīgus pret termisko triecienu. Tie var izturēt strauju uzkarsēšanu un atdzesēšanu no 1000 °°C līdz istabas temperatūrai bez plaisām.

2.2 Augstas temperatūras izturība: Var darboties nepārtraukti temperatūrās līdz 1100 °C un īsu laiku līdz 1300 °C , saglabājot strukturālo integritāti, kur metāli samiekšņotos vai deformētos.

2.3 Augstāka ķīmiskā tīrība un neaktīvums : Izgatavots no augstas tīrības SiO ₂ , tās ir neporainas un ļoti izturīgas pret koroziju, ko izraisa vairums skābju, halogēnu un agresīvu ķīmikāliju (izņemot fluorūdeņražskābi un karstu fosforskābi). Tas novērš piesārņojumu jutīgos procesos.

2.4 Izcili optiskie īpašības: Augsta caurspīdība plata spektra diapazonā no UV līdz tuvajai infrasarkanajai daļai. Tas ļauj vizuāli uzraudzīt procesus, pārvadāt UV starojumu un izmantot lāzeru lietojumos.

2.5 Izcili elektriskā izolācija: Augsta dielektriskā izturība un zema elektriskā vadītspēja pat paaugstinātās temperatūrās, padarot tos ideālus pusvadītāju un vakuuma lietojumiem.

2.6 Augsta mehāniskā izturība un stingrība: Kaut arī kvarcs ir trausls,  sasistais kvarcs ir augsta spiediena stiprums un saglabā savu formu  slodzes ietekmē augstās temperatūrās, atšķirībā no daudziem polimēriem.

2.7 Ļoti augstas vakuuma piemērotība: Ļoti zema gāzu caurlaidība un izdalīšanās ātrums. Pareizi apstrādāti tie veicina ļoti augstas vakuuma (UHV) vakuuma vidēs sasniegšanu un uzturēšanu.

2.8 Ilgstoša kalpošanas ilgums un dimensiju stabilitāte: Pretojas laikapstākļu ietekmei , neatkāpjas un nevecojas tipiskos apstākļos un saglabā precīzas dimensijas laikā, jo tas ir stabilāks.

2.9 Galvenais  Lietojuma jomas : Pusvadītāju izgatavošana (ēšana, difūzija, CVD/LPCVD kameru), šķiedru optika, precīzā optika, lāzeru sistēmas, laboratorijas un analītiskā aprīkojuma, augstas temperatūras redzes stikli un specializēta apgaismojuma (augstas intensitātes izlādes lampas).

3. Galvenās kvartza flanču pielietošanas jomas un lietojumi

Kvērtsa flanči ir kritiski sastāvdaļas prasīgās rūpniecības nozarēs, jo tiem piemīt unikāls īpašību kombinācijas. To galvenie pielietojumi un specifiskās lietojumprogrammas ir šādas:

3.1 Pusvadītāju un mikroelektronikas ražošana

Lietošana: Kā novērošanas logi, kameru iekšējie pārklājumi, gāzes ieejas un diagnostikas porti plāksnīšu apstrādes iekārtās.

Galvenās iekārtas: Plazmas ēdamierīces, ķīmiskās tvaika nogulsnēšanas (CVD) un zemspiediena CVD (LPCVD) reaktori, difūzijas krāsns un jonu iestrādātāji.

Iemesls: To tīrība novērš silīcija plāksnīšu piesārņojumu, bet caurspīdīgums ļauj procesa uzraudzību reāllaikā.

3.2 Optikas un fotonikas nozare

Lietošana: Kā gala logi, lāzera trauku korpusi un montāžas komponenti.

Galvenie pielietojumi: Augstas jaudas lāzeru sistēmas, UV un IR optiskās sistēmas, spektrofotometra šūnas un astronomiskās teleskopu spoguļi (zemas termiskās izplešanās pamatnes).

Iemesls: Izcilna caurlaidība no UV līdz IR diapazonam un minimāla termiskā izkropļojuma ietekme intensīvas gaismas apstākļos.

3.3 Augstas tīrības/zema spiediena ķīmiskās apstrādes procesi

Lietošana: Kā reaktoru ieklājumi, skata stikli agresīviem šķidrumiem un savienojošie elementi mēģinājumu iekārtās.

Galvenie procesi: Ultratīru skābju, halogēngāzu un augstas temperatūras speciālķīmiju apstrāde.

Iemesls: Izcila ķīmiskā inercija nodrošina produkta tīrību un izturību pret visām skābēm, izņemot fluorūdeņražskābi un karstu fosforskābi.

3.4 Modernais apgaismojums

Lietošana: Kā kolba (ārējais balons) augstspiediena izlādes lampām.

Galvenie produkti: Dzīvsudraba tvaika lampas, ksenona loki lampas un UV sterilizācijas lampas.

Iemesls: Iztur ļoti augstas ekspluatācijas temperatūras (>1000°C) un efektīvi caurlaiž UV gaismu.

3.5 Zinātniskie pētījumi un analītiskā instrumentu tehnika

Lietošana: Kā logi vakuuma kamerām, paraugu turētājiem krāsnīs un masas spektrometru sastāvdaļām.

Galvenie vides apstākļi: Ultravakuumē (UHV) sistēmas, elektronu mikroskopi un telpas simulācijas kamerās.

Iemesls: ārkārtīgi zema iztvaikošana un augsta dimensiju stabilitāte vakuumā un termiskās svārstības laikā.

3.6 Specializēti rūpnieciskie procesi

Lietojums: Kā aizsargierīces skatīšanās logi augstas temperatūras krāsnīs (piemēram, kristālu audzēšanas krāsnīs, piemēram, Czochralski velkamkrāsnīs) un plūsmas komponenti šķiedroptisko preformu ražošanā.

Iemesls: Saglabā caurspīdīgumu un struktūras integritāti nepārtrauktā augstas temperatūras darbībā, ļaujot vizuāli kontrolēt procesu.

Tehniskās specifikācijas

Attīstības vēsture

Patenti un sertifikāti

Iepakojums

Pakalpojumi                                                                         

Bieži uzdotie jautājumi