Flans kaca silika kuarsa jernih tersuai untuk Semikonduktor

Maklumat Produk

1. Proses Pengeluaran Flens Kuartz:

1.1 Pemilihan Bahan Mentah : Kristal kuartz semula jadi berkualiti tinggi atau pasir silika sintetik dipilih sebagai bahan permulaan. Kandungan silika biasanya melebihi 99.9% untuk memastikan sifat-sifat unggul.

1.2 Peleburan: Bahan mentah dipanaskan pada suhu yang sangat tinggi (melebihi 1700 °C) dalam relau vakum atau relau atmosfera lengai (biasanya relau rintangan elektrik atau relau aruhan) untuk meleburkannya menjadi leburan kuarsa likat tanpa gelembung.

1.3 Pembentukan: Leburan kuarsa kemudiannya dibentuk dibentuk menjadi flens menggunakan salah satu daripada beberapa kaedah

1.4 Pencetakan: Dituangkan ke dalam acuan grafit atau seramik presisi.

1.5 Pengecoran Sentrifugal: Memutar acuan untuk membentuk bentuk silindris berongga yang kemudiannya diproses secara mesin.

1.6 Tekanan Panas/Penyelesaian: Menempa bahan kuarsa yang dipanaskan di bawah tekanan untuk memadatkan dan membentuk hampir bentuk akhir.

1.7 Penyejukan Perlahan: Flens yang telah dibentuk menjalani proses penyejukan terkawal dan perlahan dalam relau penyejukan. Ini mengurangkan tekanan haba dalaman, mencegah retakan dan memastikan kestabilan struktur.

1.8 Pemesinan Ketepatan: Bahan mentah yang telah disejukkan secara perlahan diproses secara teliti dengan mesin menggunakan alat berlapis berlian. Ini termasuk pengisaran, pemotongan, pengeboran, dan pemolesan untuk mencapai dimensi akhir, hasil permukaan (sering kali tahap optik), kerataan, dan permukaan penyegelan tepat ( contohnya, Ra < 0.4 μ m ).

1.9 Pembersihan & Pemeriksaan Kualiti: Pembersihan ketat (contohnya, ultrasonik, pembersihan asid) menghilangkan kontaminan. Setiap flans diperiksa dari segi dimensi, cacat visual (gelembung, inklusi), dan sifat optik. Kaedah lanjutan seperti interferometri laser digunakan untuk memeriksa kerataan dan kelarasan.

2. Kelebihan Flans Kuartz:

2.1 Ketegaran Termal Luar Biasa: Pepejal pekali pengembangan haba yang sangat rendah (~5.5 x 10 ⁻⁷ ⁄K) menjadikan mereka sangat tahan terhadap kejutan termal. Mereka mampu menahan pemanasan dan penyejukan pantas dari 1000 °°C hingga suhu bilik tanpa retak.

2.2 Rintangan Suhu Tinggi: Boleh beroperasi secara berterusan pada suhu sehingga 1100 °C dan buat sementara waktu sehingga 1300 °C , sambil mengekalkan integriti struktural di mana logam akan menjadi lembut atau mengalami pelengkungan.

2.3 Ketulenan Kimia & Ketidakreaktifan yang Unggul : Dibuat daripada SiO berkualiti tinggi ₂ , mereka tidak berliang dan sangat rintang terhadap kakisan oleh kebanyakan asid, halogen, dan bahan kimia agresif (kecuali asid hidrofluorik dan asid fosforik panas). Ini mencegah pencemaran dalam proses sensitif.

2.4 Sifat Optik yang Cemerlang: Ketelusan Tinggi merentasi spektrum luas dari UV hingga inframerah hampir. Ini membolehkan pemantauan proses visual, transmisi UV, dan penggunaan dalam aplikasi laser.

2.5 Penebatan Elektrik yang Luar Biasa: Kekuatan dielektrik tinggi dan konduktiviti elektrik rendah walaupun pada suhu tinggi, menjadikannya ideal untuk aplikasi semikonduktor dan vakum.

2.6 Kekuatan Mekanikal & Kekukuhan yang Tinggi: Walaupun rapuh, kuarsa lebur  mempunyai kekuatan kompresi tinggi dan mengekalkan bentuknya  di bawah beban pada suhu tinggi, tidak seperti kebanyakan polimer.

2.7 Keserasian Vakum Ultra-Tinggi: Ketelapan gas yang sangat rendah dan kadar pegasan luar yang rendah. Apabila dibakar dengan betul, ia menyumbang kepada pencapaian dan pengekalan vakum ultra-tinggi (UHV) persekitaran.

2.8 Jangka Hayat Panjang & Kestabilan Dimensi: Tahan terhadap pereputan , tidak merosot atau menua di bawah keadaan biasa, dan mengekalkan dimensi tepat dari masa ke masa disebabkan oleh kestabilannya.

2.9 Utama  Aplikasi : Fabrikasi semikonduktor (kamar pengukir, resapan, CVD/LPCVD), gentian optik, optik ketepatan, sistem laser, peralatan makmal dan analitikal, kaca penglihatan suhu tinggi, dan pencahayaan khas (lampu pelepasan intensiti tinggi).

3. Medan Aplikasi Utama dan Kegunaan Flans Kuarsa

Flang kuartz adalah komponen penting dalam industri yang mencabar disebabkan oleh gabungan unik sifat-sifatnya. Aplikasi utama dan kegunaan khususnya adalah seperti berikut:

3.1 Pembuatan Semikonduktor & Mikroelektronik

Kegunaan: Sebagai port pandangan, lapisan ruang, saluran gas masuk, dan port diagnostik dalam peralatan pemprosesan wafer.

Peralatan Utama: Penggali plasma, reaktor Pengendapan Wap Kimia (CVD) dan CVD Tekanan Rendah (LPCVD), relau resapan, dan penanam ion.

Sebab: Kesucian mereka mencegah pencemaran wafer silikon, dan ketelusan mereka membolehkan pemantauan proses secara dalam situ.

3.2 Industri Optik & Fotonik

Kegunaan: Sebagai tingkap hujung, rumah tiub laser, dan komponen pendakap.

Aplikasi Utama: Sistem laser berkuasa tinggi, sistem optik UV dan IR, sel spektrofotometer, dan cermin teleskop astronomi (untuk substrat pengembangan terma rendah).

Sebab: Pemindahan UV ke IR yang luar biasa dan penyimpangan terma minima di bawah cahaya berintensiti tinggi.

3.3 Pemprosesan Kimia Ketulenan Tinggi/Tekanan Rendah

Guna: Sebagai lapisan reaktor, kaca pelepas untuk bendalir korosif, dan komponen penyambung dalam kilang perintis.

Proses Utama: Pengendalian asid ultra tulen, gas halogen, dan bahan kimia khas suhu tinggi.

Sebab: Ketidakaktifan kimia yang unggul memastikan keaslian produk dan rintangan terhadap serangan semua asid kecuali asid fluorida hidrogen dan asid fosforik panas.

3.4 Pencahayaan Lanjutan

Guna: Sebagai sampul (mentol luar) untuk lampu pelepasan berintensiti tinggi.

Produk Utama: Lampu wap merkuri, lampu lengkung xenon, dan lampu pensterilan UV.

Sebab: Tahan suhu operasi yang sangat tinggi (>1000°C) dan menghantar cahaya UV dengan cekap.

3.5 Penyelidikan Saintifik & Instrumentasi Analitik

Guna: Sebagai tetingkap untuk ruang vakum, pemegang sampel dalam relau, dan komponen dalam spektrometer jisim.

Persekitaran Utama: Sistem Vakum Ultra-Tinggi (UHV), mikroskop elektron, dan kamar simulasi angkasa.

Sebab: Kadar pengeluaran gas yang sangat rendah dan kestabilan dimensi yang tinggi di bawah vakum serta kitaran haba.

3.6 Proses Industri Khas

Gunakan: Sebagai port pandangan pelindung dalam relau suhu tinggi (contohnya relau pertumbuhan hablur seperti penebuk Czochralski) dan komponen aliran dalam pembuatan pra-bentuk gentian optik.

Sebab: Mengekalkan kejernihan dan integriti dalam operasi berterusan pada suhu tinggi, membolehkan kawalan visual proses tersebut.

Spesifikasi Teknikal

Sejarah Pembangunan

Patent dan Pensijilan

Pakej

Perkhidmatan                                                                         

Soalan Lazim