9e étage, Bâtiment A Dongshengmingdu Plaza, 21 Chaoyang East Road, Lianyungang Jiangsu, Chine +86-13951255589 [email protected]
Clarté optique exceptionnelle :
Transmittance lumineuse supérieure à 90 % sur les spectres ultraviolet, visible et infrarouge (180 nm–3500 nm)
Stabilité thermique remarquable :
Coefficient d'expansion thermique quasi nul (0,55 × 10⁻⁶ / °C) résistant aux chocs thermiques et à la déformation
Excellente résistance chimique :
Inerte envers la plupart des acides, bases et solvants organiques idéal pour les environnements corrosifs
Conductivité thermique :
1,4 W/m·K, permettant un transfert thermique efficace
Température maximale de service :
1200 °C pour une utilisation continue avec une résistance à court terme jusqu’à 1750 °C
Pureté :
99.99% silice fondue à haute pureté, garantissant une interférence minimale des impuretés
Densité :
2,2 g/cm³ , offrant une excellente stabilité structurelle
Dureté :
5,3 à 6,5 sur l’échelle de Mohs , assurant une résistance supérieure aux rayures
Détails du produit
1. Procédé de fabrication des brides en quartz :
1.1 Sélection des matières premières : Des cristaux naturels de quartz à haute pureté ou du sable de silice synthétique sont choisis comme matière première. La teneur en dioxyde de silicium dépasse généralement 99,9 % afin d’assurer des propriétés supérieures.
1.2 Fusion : La matière première est chauffée à une température extrêmement élevée (supérieure à 1700 °C) dans un four sous vide ou sous atmosphère inerte (souvent un four à résistance électrique ou à induction) afin de la faire fondre en du quartz liquide visqueux et sans bulles.
1.3 Mise en forme : Le quartz fondu est ensuite façonné transformé en brides à l’aide de l’une des méthodes suivantes
1.4 Moulage : Coulée dans des moules en graphite ou en céramique de haute précision.
1.5 Coulée centrifuge : Rotation du moule pour former des formes cylindriques creuses qui seront usinées ultérieurement.
1.6 Pressage à chaud / Finition : Forgeage de la pièce en quartz chauffée sous pression afin de densifier le matériau et d’obtenir une forme proche de la forme finale.
1.7 Recuit : Les brides formées subissent un refroidissement contrôlé et progressif dans un four de recuit. Ce procédé élimine les contraintes thermiques internes, empêchant ainsi les fissures et garantissant la stabilité structurelle.
1.8 Usinage de précision : Les pièces recuites sont usinées avec une grande précision à l’aide d’outils revêtus de diamant. Cela comprend le meulage, la découpe, le perçage et le lustrage afin d’obtenir les dimensions finales, la finition de surface (souvent de qualité optique), la planéité et des surfaces d’étanchéité précises ( par ex. Ra < 0,4 μ m ).
1.9 Nettoyage et inspection qualité : Nettoyage rigoureux (p. ex. par ultrasons, nettoyage acide) élimine les contaminants. Chaque bride est inspectée quant à ses dimensions, ses défauts visuels (bulles, inclusions) et ses propriétés optiques. Des méthodes avancées telles que l’interférométrie laser permettent de vérifier la planéité et le parallélisme.
2. Avantages des brides en quartz :
2.1 Stabilité thermique exceptionnelle : Coefficient extrêmement faible de dilatation thermique (~5,5 × 10 ⁻⁷ ⁄K) ce qui les rend très résistantes aux chocs thermiques. Elles supportent des chauffages rapides et refroidissement de 1000 °°C à la température ambiante sans fissuration.
2.2 Résistance aux hautes températures : Peut fonctionner en continu à des températures jusqu’à 1100 °°C et brièvement jusqu'à 1300 °C °C, tout en conservant son intégrité structurelle là où les métaux se ramolliraient ou subiraient du fluage.
2.3 Pureté chimique et inertie supérieures : Fabriqué à partir de SiO de haute pureté ₂ de haute pureté, elles sont non poreuses et très résistantes à la corrosion par la plupart des acides, des halogènes et des produits chimiques agressifs (sauf l'acide fluorhydrique et l'acide phosphorique chaud). Cela évite toute contamination lors de procédés sensibles.
2.4 Excellentes propriétés optiques : Haute transparence sur un large spectre allant de l’UV au proche infrarouge. Cela permet une surveillance visuelle des procédés, une transmission UV et une utilisation dans des applications laser.
2.5 Excellente isolation électrique : Forte résistance diélectrique et faible conductivité électrique même à des températures élevées, ce qui les rend idéaux pour les applications dans les domaines des semi-conducteurs et du vide.
2.6 Haute résistance mécanique et rigidité : Bien que fragiles, les quartz fondus possèdent haute résistance à la compression et conservent leur forme compatibilité avec le vide extrême : Perméabilité aux gaz extrêmement faible et taux de dégazage très bas. Une fois correctement préchauffés, ils contribuent à atteindre et maintenir des environnements sous vide ultrahaut (UHV).
2.7 Compatibilité avec le vide ultra-haut : Perméabilité gazeuse extrêmement faible et taux de dégazage très bas. Lorsqu’ils sont correctement recuits, ils contribuent à atteindre et à maintenir des environnements de vide ultra-haut (UHV).
2.8 Longue durée de vie et stabilité dimensionnelle : Résiste aux intempéries , ne se dégrade pas ni n’âge dans des conditions normales et conserve des dimensions précises dans le temps grâce à sa stabilité.
2.9 Principaux Applications : La fabrication de semi-conducteurs (chambres de gravure, de diffusion, CVD/LPCVD), fibres optiques, optique de précision, systèmes laser, équipements de laboratoire et d’analyse, vitrages d’observation haute température, et éclairage spécialisé (lampes à décharge haute intensité).

3. Principaux domaines d’application et usages des brides en quartz
Les brides en quartz sont des composants essentiels dans les industries exigeantes en raison de leur combinaison unique de propriétés. Leurs principales applications et utilisations spécifiques sont les suivantes :
3.1 Fabrication de semi-conducteurs et de microélectronique
Utilisation : Comme hublots, revêtements de chambre, entrées de gaz et ports de diagnostic dans les équipements de traitement des plaquettes.
Équipements clés : Graveurs à plasma, réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et CVD sous basse pression (LPCVD), fours de diffusion et implantereurs ioniques.
Raison : Leur pureté empêche la contamination des plaquettes de silicium, et leur transparence permet une surveillance in-situ du processus.
3.2 Industries optique et photonique
Utilisation : Comme fenêtres terminales, boîtiers de tubes laser et composants de montage.
Applications clés : Systèmes laser haute puissance, systèmes optiques UV et IR, cellules de spectrophotomètre et miroirs de télescopes astronomiques (pour les substrats à faible dilatation thermique).
Raison : Transmission exceptionnelle du UV à l'IR et distorsion thermique minimale sous lumière à haute intensité.
3.3 Procédés chimiques à haute pureté/basse pression
Utilisation : Comme revêtements de réacteurs, hublots pour fluides corrosifs et composants de raccordement dans les installations pilotes.
Procédés clés : Manipulation d'acides ultrapurs, de gaz halogènes et de produits chimiques spécialisés à haute température.
Raison : L'inertie chimique supérieure garantit la pureté du produit et résiste à l'attaque de tous les acides, sauf l'acide fluorhydrique et l'acide phosphorique chaud.
3.4 Éclairage avancé
Utilisation : Comme enveloppe (ampoule extérieure) pour les lampes à décharge haute intensité.
Produits clés : Lampes à vapeur de mercure, lampes à arc au xénon et lampes de stérilisation UV.
Motif : Résiste à des températures de fonctionnement extrêmement élevées (>1000°C) et transmet efficacement la lumière UV.
3.5 Recherche scientifique et instrumentation analytique
Utilisation : Comme fenêtres pour chambres à vide, porte-échantillons pour fours et composants dans les spectromètres de masse.
Environnements clés : Systèmes sous ultra-haut vide (UHV), microscopes électroniques et chambres de simulation spatiale.
Raison : Dégazage extrêmement faible et stabilité dimensionnelle élevée sous vide et lors de cycles thermiques.
3.6 Procédés industriels spécialisés
Utilisation : Comme hublots de protection dans des fours à haute température (par exemple, fours de croissance cristalline tels que les appareils de tirage Czochralski) et composants d'écoulement dans la fabrication de préformes pour fibres optiques.
Raison : Conserve la transparence et l'intégrité lors d'un fonctionnement continu à haute température, permettant un contrôle visuel du processus.
Spécifications techniques
Contenu des propriétés |
Indice des propriétés |
Densité |
2,2×103kg/cm³ |
Résistance |
580KHN100 |
Résistance à la traction |
4.9×107Pa(N/ ㎡) |
Résistance à la compression |
>1,1×109Pa |
Coefficient d'expansion thermique |
5,5×10-7cm/cm℃ |
Conductivité thermique |
1,4W/m℃ |
Chaleur spécifique |
670J/kg℃ |
Point de ramollissement |
1680℃ |
Point de retrait |
1215℃ |
Historique du développement

Brevets et Certifications

Emballage

Services
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