Aangepaste deurskynende silika-kwartsglasflens vir halfgeleiers

PRODUKTEGGENDE

1. Vervaardigingsproses van kwartsflenke:

1.1 Rooimateriaalkeuse : Hoog suiwerheid natuurlike kwartskristalle of sintetiese silikasand word as die beginmateriaal gekies. Die silikagehalte oorskry gewoonlik 99,9% om uitstekende eienskappe te verseker.

1.2 Smeltproses: Die roumateriaal word tot ’n baie hoë temperatuur verhit (bo 1700 °C) in ’n vakuum- of inertatmosfeerovn (dikwels ’n elektriese weerstand- of induksieovn) om dit in ’n viskeuse, borrelvrye gesmelte kwarts te smelt.

1.3 Vorming: Die gesmelte kwarts word dan vorm in flenke gegiet met behulp van een van verskeie metodes

1.4 Vorming: Giet in presisie-grafiet- of -keramiese vorms.

1.5 Sentrifugale Gietproses: Die vorm word geroteer om hol silindriese vorms te vorm wat later bewerk word.

1.6 Warmpers/Afwerking: Die verhitte kwartsblank word onder druk gesmee vir verdigting en vorming tot byna-net-vorm.

1.7 Ontspanning: Die gevormde flenke ondergaan 'n beheerde, stadige afkoelproses in 'n ontspanningsovens. Dit verlig interne termiese spanning, wat krake voorkom en strukturele stabiliteit verseker.

1.8 Presisieversnyding: Die ontspanne ronde stukke word noukeurig versny met diamantbekleede gereedskap. Dit sluit slyp, sny, boor en polisering in om die finale afmetings, oppervlakafwerking (dikwels optiese gehalte), vlakheid en presiese sealsoppervlaktes te bereik ( bv. Ra < 0.4 μ m ).

1.9 Skoonmaak en gehalte-inspeksie: Streng skoonmaak (bv. ultraklank-, suur-skoonmaak) verwyder besoedeling. Elke flens word geïnspekteer vir afmetings, sigbare defekte (borrels, insluitings) en optiese eienskappe. Gevorderde metodes soos laserinterferometrie toets vlakheid en parallelisme.

2. Voordele van Kwartsflenke:

2.1 Uitstekende Termiese Stabiliteit: Baie lae koëffisiënt van termiese uitsetting (~5.5 x 10 ⁻⁷ /K) wat hulle baie weerstandwaardig teen termiese skok maak. Hulle kan vinnige verhitting en afkoeling van 1000 °C tot kamertemperatuur weerstaan sonder kraakvorming kan weerstaan.

2.2 Hoë-Temperatuurweerstand: Kan kontinu werk by temperature tot 1100 °C en kortstondig tot 1300 °C , ter handhaaf strukturele integriteit waar metale sag of kruip.

2.3 Uitstekende chemiese suiwerheid en onaktiwiteit : Gemaak van hoogsuiwer SiO ₂ , is hulle nie-porieus en hoogs bestand teen korrosie deur meeste sure, halogene en aggressiewe chemikalieë (behalwe waterstoffluoriedsuur en warm fosforsuur). Dit voorkom besoedeling in sensitiewe prosesse.

2.4 Uitstekende optiese eienskappe: Hoë Deursigbaarheid oor ’n wye spektrum van UV tot naby-infrarooi. Dit maak visuele prosesmonitering, UV-oordrag en gebruik in laser-toepassings moontlik.

2.5 Uitstekende elektriese isolasie: Hoë dielektriese sterkte en lae elektriese geleidingsvermoë selfs by verhoogde temperature, wat dit ideaal maak vir halfgeleier- en vakuumtoepassings.

2.6 Hoë meganiese sterkte en styfheid: Al is dit bros, gesmelte  kwarts het hoë druksterkte en behou sy vorm  onder belading by hoë temperature, in teenstelling met baie polimere.

2.7 Ultra-Hoë-Vakuumvertoonbaarheid: Baie lae gasdeurlaatbaarheid en uitgasingskoerse. Wanneer dit behoorlik gebrand word, dra dit by tot die bereiking en handhawing van ultra-hoë-vakuum (UHV)-omgewings.

2.8 Lang Dienslewe en Dimensionele Stabiliteit: Bestand teen weerbestendigheid , verswak of ou nie onder tipiese omstandighede nie, en behou presiese afmetings oor tyd as gevolg van sy stabiliteit.

2.9 Primêr  Toepassings : Halvleiertegnologie (ets-, diffusie-, CVD/LPCVD-kamers), veseloptiek, presisie-optiek, lasersisteme, laboratorium- en analitiese toerusting, hoë-temperatuur-sigglasse en spesiale beligting (hoë-intensiteit-ontladingslampe).

3. Primêre Toepassingsvelde en Gebruike van Kwartsflanse

Kwartsflense is kritieke komponente in veeleisende nywerhede as gevolg van hul unieke kombinasie van eienskappe. Hul hooftoepassings en spesifieke gebruik is soos volg:

3.1 Halfgeleier- en Mikro-elektronika-vervaardiging

Gebruik: As kykvensters, kamerbekleedstukke, gasinlaatpunte en diagnostiese poorte in skyfverwerkingsapparatuur.

Sleutelapparatuur: Plasma-etsers, Chemiese Dampafsettings (CVD) en Lae-Druk CVD (LPCVD) reaktore, diffusieovens en ioonimplanteerders.

Rede: Hul suiwerheid voorkom silikon-skyfbesmetting, en hul deursigtigheid laat toe dat prosesse in-situ gemonitor kan word.

3.2 Optiese en Fotonika-industrieë

Gebruik: As eindvensters, laserbuisbehuisings en monteerkomponente.

Sleuteltoepassings: Hoë-krag lasersisteme, UV- en IR-optiese sisteme, spektrofotometer-selle en astronomiese teleskoopspieëls (vir lae termiese-uitsetting substrates).

Rede: Uitstekende oordrag van UV na IR en minimale termiese vervorming onder hoë-intensiteit lig.

3.3 Hoog suiwerheid/lae-druk chemiese prosessering

Gebruik: As reaktorbekleedstukke, sigglase vir korrosiewe vloeistowwe en verbindingskomponente in proefaanlegte.

Sleutelprosesse: Hanteer ultrapuure sure, halogeen-gasse en hoë-temperatuur spesialiteit-chemikalieë.

Rede: Oorkoepelende chemiese onaktiwiteit verseker produk suiwerheid en weerstaan aanval deur alle sure, behalwe waterstoffluoried- en warm fosforiese suur.

3.4 Gevorderde Verligting

Gebruik: As die omhulsel (buitepomp) vir hoë-intensiteit ontlaaingslampe.

Sleutelprodukte: Kwikdamp-lampe, xenonbooglampie en UV-ontsmettingslampe.

Rede: Kan baie hoë bedryfstemperatuure weerstaan (>1000°C) en oordra UV- lig doeltreffend.

3.5 Wetenskaplike Navorsing en Analitiese Instrumentasie

Gebruik: As vensters vir vakuumkamers, monsterhouers in oonde, en komponente in massaspektrometers.

Sleutelomgewings: Ultra-hoë-vakuum (UHV) stelsels, elektronmikroskope en ruimtesimulasiekamers.

Rede: Ekstrem lae uitgassing en hoë dimensionele stabiliteit onder vakuum en termiese siklusse.

3.6 Spesialiseerde Industriële Prosesse

Gebruik: As beskermende sigvensters in hoë-temperatuur oonde (byvoorbeeld kristalgroei-oonde soos Czochralski-trekkers) en vloeikomponente in vaserige optiese voorvorm-vervaardiging.

Rede: Behou duidelikheid en integriteit tydens aanhoudende hoë-temperatuurbedryf, wat visuele beheer van die proses moontlik maak.

Tegniese Spesifikasies

Ontwikkelingsgeskiedenis

Patente en Sertifisering

Verpakking

DIENSTE                                                                         

VEE