Културизована прозрачна силика кварц стаклене фланге за полупроводнике

Детаљи о производу

1.Процес производње кварц фланге:

1.1 Избор сировине : Кристали природне кварце високе чистоће или синтетички силика песк изабран је као исходни материјал. Садржај силица обично прелази 99,9% како би се осигурала супериорна својства.

1.2 Топило: Сировина се загрева на изузетно високу температуру (преко 1700 °Ц) у вакуумској или инертној атмосферској пећи (често електричне отпорности или индукционе пећи) да би се топио у вискозни, без мехурића растан кварц.

1.3 Формирање: Топљен кварц је онда обличан у фланже користећи једну од неколико метода

1.4 Формирање: Изливање у прецизне графитне или керамичке калупе.

1.5 Центрифугално ливање: Стварање калупа кухи цилиндрик облици који су касније обрађени.

1.6 Топло притискање/навршњавање: Ковање загрејеног кварца под притиском за густирање и формирање облика блиског мрежу.

1.7 Огревање: Формиране фланже подлежу контролисаном, спором процесу хлађења у пећи за гњечење. То олакшава унутрашњи топлотни стрес, спречава пуцање и обезбеђује стабилност конструкције.

1.8 Прецизна обрада: Огреване пражње боје су прецизно обрађене користећи алате обложене дијамантом. Ово укључује брушење, сечење, бушење и лапирање како би се постигле коначне димензије, завршна површина (често оптичке квалитете), равна и прецизна плоча за запљуштање ( на пример, Ра < 0,4 μ m ).

1.9 Чишћење и инспекција квалитета: Редовно чишћење (нпр. ултразвучно, кисело чишћење) уклања контаминације. Свака фланга се прегледа на димензије, визуелне дефекте (балоне, инклузије) и оптичка својства. Напређене методе као што је ласерска интерферометрија проверују равнаст и паралелизам.

2. Уколико је потребно. Предности кварцних флангера:

2.1 Извонредна топлотна стабилност: Екстремно низак коефицијент топлинског ширења (~ 5,5 х 10 ⁻⁷ /К) чини их веома отпорним на топлотне ударе. Могу да издрже брзо загревање и хлађење од 1000 °Ц до собе температуре без пуцања.

2.2 Отпорност на високе температуре: Може да ради континуирано на температурама до 1100 °C, a kratkotrajno i do 1300 °C , одржавање структурног интегритета где би метали омекшали или пловили.

2.3 Превиша хемијска чистоћа и инертност : Произведен од високочисте СиО 2 izuzetna hemijska čistoća i inertnost: Proizvedeni od SiO visoke čistoće, nepropusni su i izuzetno otporni na koroziju većinom kiselina, halogenida i agresivnih hemikalija (osim fluorovodonične kiseline i vrele fosforne kiseline). To sprečava kontaminaciju u osetljivim procesima.

2.4 Одлична оптичка својства: Висока транспарентност преко широком спектру од УВ до блиске инфрацрвене светлости. Ово омогућава визуелно праћење процеса, УВ пренос и употребу у ласерским апликацијама.

2.5 Изванредна електрична изолација: Висока диелектрична чврстоћа и ниска електрична проводност чак и на високим температурама, што их чини идеалним за полупроводничке и вакуумске апликације.

2.6 Висока механичка чврстоћа и крутост: Док су крхки, растворени  кварц има висока чврстоћа на компресију и одржава свој облик  под оптерећењем на високим температурама, за разлику од многих полимера.

2.7 Ултра-висок вакуум компатибилност: Екстремно ниска пропустљивост гаса и стопа изласка гаса. Када се правилно пеку, доприносе постизању и одржавању ултрависоког вакуума (УХВ) окружења.

2.8 Дуг живот и стабилност димензија: Отпорна на промет , не се деградише или старе у типичним условима и задржава прецизне димензије током времена због своје стабилности.

2.9 Примарна  Primene : Производња полупроводника (ецхинг, дифузија, ЦВД/ЛПЦВД камери), оптика влакна, прецизна оптика, ласерски системи, лабораторијска и аналитичка опрема, наочари за високу температуру и специјализовано осветљење (лучице за пуњење високог интензитета).

3.Принципална подручја примене и употребе кварцних флангера

Кварцни фланци су кључни компоненти у захтевним индустријама због њихове јединствене комбинације својстава. Њихове главне примене и специфичне употребе су следеће:

3.1 Производња полупроводника и микроелектронике

Употреба: Као прегледна ока, облоге комора, улази за гас и дијагностички прикључци у опреми за обраду плочица.

Кључна опрема: Плазма етчер-и, реактори за хемијску депозицију из паре (CVD) и нискотлачну CVD (LPCVD), дифузионе пећи и имплантација јона.

Разлог: Њихова чистоћа спречава контаминацију силицијумских плочица, а прозирност омогућава мониторинг процеса у реалном времену.

3.2 Оптичка и фотоничка индустрија

Употреба: Као завршна стакла, кућишта ласерских цеви и монтажни делови.

Кључне примене: Системи ласера високе снаге, УВ и ИР оптички системи, ћелије спектрофотометара и огледала астрономских телескопа (за подлоге са ниским топлотним ширењем).

Разлог: Изузетна пропустљивост од УВ до ИР спектра и минимална топлотна деформација под интензивним светлом.

3.3 Химијска преработка високе чистоће/ниског притиска

Upotreba: Kao obloge reaktora, vidna stakla za korozivne tečnosti i povezujuće komponente u pilot postrojenjima.

Ključni procesi: Rukovanje ultrapurom kiselinama, gasovima halogena i specijalnim hemikalijama na visokim temperaturama.

Razlog: Nadmerna hemijska inertnost osigurava čistoću proizvoda i otpornost na napad svih kiselina osim fluoridnih i vrele fosforne.

3.4 Напречено осветљење

Upotreba: Kao kućište (spoljašnja sijalica) za lampe sa visokim intenzitetom pražnjenja.

Ključni proizvodi: Lampe sa isparavanjem žive, ksenon luke i UV lampe za sterilizaciju.

Разлог: Издржава изузетно високе оперативне температуре (>1000°C) i efikasno prenosi UV svetlost.

3.5 Научно истраживање и аналитичка инструментација

Upotreba: Kao prozori za vakuumske komore, nosači uzoraka u pećima i komponente u masenim spektrometrima.

Кључна окружења: системи ултра високог вакуума (UHV), електронски микроскопи и коморе за симулацију свемирских услова.

Разлог: изузетно низак исцедак гасова и висока димензионална стабилност под дејством вакуума и термичког оптерећења.

3.6 Специјализовани индустријски процеси

Употреба: као заштитни прозори за посматрање у пећима високих температура (нпр. пећи за раст кристала попут Цоцхралскијевих пулера) и као делови за проток у производњи заготовака за оптичка влакна.

Разлог: одржава прозирност и целовитост при раду на стално високим температурама, омогућавајући визуелну контролу процеса.

Техничке спецификације

Историја развоја

Патенти и сертификати

Пакет

Услуге                                                                         

Често постављене питања