Aangepaste heldere kwarts-glasflens voor halfgeleiders

Productgegevens

1. Productieproces van kwartsflensen:

1.1 Selectie van grondstoffen : Hoogzuivere natuurlijke kwartskristallen of synthetisch kwartszand worden gekozen als uitgangsmateriaal. Het siliciumgehalte overschrijdt doorgaans 99,9 % om superieure eigenschappen te garanderen.

1.2 Smelten: Het grondstofmateriaal wordt verhit tot een extreem hoge temperatuur (boven 1700 °C) in een vacuüm- of inertatmosfeeroven (vaak een elektrische weerstands- of inductieoven) om het te smelten tot een viskeuze, belvrije gesmolten kwarts.

1.3 Vormen: De gesmolten kwarts wordt vervolgens gevormd in flenzen gevormd met behulp van een van verschillende methoden

1.4 Gieten: Gieten in precisiegrafiet- of keramische mallen.

1.5 Centrifugaal gieten: Het malformaat draaien om te vormen holle cilindrische vormen die later bewerkt worden.

1.6 Warmpersen/afwerken: Het verwarmde kwartsblanco onder druk smeden voor verdichting en bijna-netto-vormgeving.

1.7 Ontspanningsthermische behandeling (annealing): De gevormde flenzen ondergaan een gecontroleerd, langzaam afkoelproces in een ontspanningsoven. Hierdoor worden interne thermische spanningen opgeheven, waardoor scheuren worden voorkomen en structurele stabiliteit wordt gewaarborgd.

1.8 Precisiebewerking: De geontspannen blanko's worden zorgvuldig bewerkt met diamantcoated gereedschappen. Dit omvat slijpen, snijden, boren en polijsten om de eindafmetingen, oppervlakteafwerking (vaak optisch kwalitatief), vlakheid en precieze afdichtingsvlakken te bereiken ( bijv. Ra < 0,4 μ m ).

1.9 Schoonmaak en kwaliteitsinspectie: Strenge schoonmaak (bijv. ultrasoon, zuurreiniging) verwijdert verontreinigingen. Elke flens wordt geïnspecteerd op afmetingen, zichtbare gebreken (bellen, insluitingen) en optische eigenschappen. Geavanceerde methoden zoals laserinterferometrie controleren vlakheid en parallelheid.

2. Voordelen van kwartsflensen:

2.1 Uitzonderlijke thermische stabiliteit: Zeer lage thermische uitzettingscoëfficiënt (~5,5 x 10 ⁻⁷ ⁄K) maakt ze zeer bestand tegen thermische schokken. Ze kunnen snel opwarmen en afkoelen van 1000 °°C tot kamertemperatuur zonder te barsten.

2.2 Bestendigheid tegen hoge temperaturen: Kan continu werken bij temperaturen tot 1100 °C en kortstondig tot 1300 °C °C, waarbij de structurele integriteit behouden blijft terwijl metalen zouden verzachten of kruipen.

2.3 Uitstekende chemische zuiverheid en inertie : Vervaardigd uit hoogzuiver SiO 2. , zijn ze niet-poreus en zeer bestand tegen corrosie door de meeste zuren, halogenen en agressieve chemicaliën (met uitzondering van waterfluorzuur en heet fosforzuur). Dit voorkomt verontreiniging bij gevoelige processen.

2.4 Uitstekende optische eigenschappen: Hoge Transparantie over een breed spectrum van UV tot nabij-infrarood. Dit maakt visuele procesmonitoring, UV-transmissie en gebruik in laserapplicaties mogelijk.

2.5 Uitstekende elektrische isolatie: Hoge diëlektrische sterkte en lage elektrische geleidbaarheid zelfs bij verhoogde temperaturen, waardoor ze ideaal zijn voor halfgeleider- en vacuümtoepassingen.

2.6 Hoge mechanische sterkte en stijfheid: Hoewel broos, heeft gefuseerd  kwarts hoge compressiesterkte en behoudt zijn vorm  onder belasting bij hoge temperaturen, in tegenstelling tot veel polymeren.

2.7 Compatibiliteit met ultra-hoogvacuüm: Extreem lage gasdoorlaatbaarheid en uitgassingssnelheden. Bij correct ontluchten dragen ze bij aan het bereiken en handhaven van ultra-hoogvacuüm (UHV) omgevingen.

2.8 Lange levensduur en dimensionele stabiliteit: Bestand tegen verweering , degradeert of veroudert niet onder normale omstandigheden en behoudt gedurende de tijd nauwkeurige afmetingen dankzij zijn stabiliteit.

2.9 Primaire  Toepassingen : Halfgeleiderfabricage (ets-, diffusie-, CVD/LPCVD-kamers), glasvezels, precisieoptica, lasersystemen, laboratorium- en analysetoestellen, zichtglazen voor hoge temperaturen en speciale verlichting (hogedrukontladingslampen).

3. Primaire toepassingsgebieden en gebruik van kwartsflensen

Kwartsflenzen zijn kritieke componenten in veeleisende industrieën vanwege hun unieke combinatie van eigenschappen. Hun belangrijkste toepassingen en specifieke gebruiksmogelijkheden zijn als volgt:

3.1 Halfgeleider- en micro-elektronicafabricage

Gebruik: Als kijkvensters, kamervoderingslagen, gasinlaten en diagnosepoorten in wafelverwerkingsapparatuur.

Belangrijke apparatuur: Plasma-etchers, chemische dampdepositie (CVD) en laagdruk-CVD (LPCVD) reactors, diffusieovens en ionenimpranteerders.

Reden: Hun zuiverheid voorkomt verontreiniging van siliciumwafels, en hun transparantie maakt procesbewaking tijdens de behandeling mogelijk.

3.2 Optische en fotonische industrieën

Gebruik: Als eindvensters, behuizingen voor lasertubes en montagecomponenten.

Belangrijke toepassingen: Lasersystemen met hoog vermogen, UV- en IR-optische systemen, celletjes voor spectrometers en spiegels voor astronomische telescopen (voor substraten met lage thermische uitzetting).

Reden: Uitzonderlijke transmissie van UV tot IR en minimale thermische vervorming onder intensief licht.

3.3 Chemische procesindustrie met hoge zuiverheid/lage druk

Gebruik: Als reaktorvoeringen, kijkglazen voor corrosieve vloeistoffen en verbindingscomponenten in proefinstallaties.

Belangrijke processen: Omgaan met ultrazuivere zuren, halogeen gassen en hoogtemperatuur speciale chemicaliën.

Reden: Uitstekende chemische traagheid garandeert productzuiverheid en weerstand tegen aanvallen van alle zuren, behalve waterstoffluoride en heet fosforzuur.

3.4 Geavanceerde verlichting

Gebruik: Als mantel (buitenste lamp) voor ontlaadlampen met hoge lichtopbrengst.

Belangrijkste producten: Kwikdamp-lampen, xenonbooglampen en UV-sterilisatielampen.

Reden: Kan extreem hoge bedrijfstemperaturen weerstaan (>1000°C) en geleidt UV-licht efficiënt.

3.5 Wetenschappelijk onderzoek en analytische instrumentatie

Gebruik: Als vensters voor vacuümkamers, houders voor monsters in ovens en componenten in massaspectrometers.

Belangrijke omgevingen: Ultra-hoogvacuüm (UHV) systemen, elektronenmicroscopen en ruimtesimulatiekamers.

Reden: Zeer lage uitgassing en hoge dimensionale stabiliteit onder vacuüm en thermische cycli.

3.6 Gespecialiseerde industriële processen

Toepassing: Als beschermende kijkvensters in hoogtemperatuurovens (bijvoorbeeld kristalgroei-ovens zoals Czochralski-trekkers) en stroomcomponenten bij de productie van vezeloptische preformen.

Reden: Behoudt transparantie en integriteit tijdens continue bedrijf bij hoge temperaturen, waardoor visuele controle van het proces mogelijk blijft.

Technische specificaties

Ontwikkelingsgeschiedenis

Octrooien en certificering

Verpakking

Diensten                                                                         

Veelgestelde vragen