စမ်းသပ်ရေးအတွက် အထူးပြုထားသော ပေါ့ပါးသော စီလီကာ ကွန်ဖြူဇ် ဂလပ်စ် ဖလန်း

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

၁။ ကွာတ့ဇ် ဖလန်ဂ်များ၏ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ် -

၁။၁ အခြေခံပစ္စည်းရွေးချယ်ခြင်း : အထူးသန့်စင်သော သဘောကြီးသော ကွာတ့ဇ်ကристလ်များ (သို့မဟုတ်) စင်သော ဆီလီကာ သဲများကို အစပုံအစေးအဖြစ် ရွေးချယ်သည်။ ဆီလီကာပါဝင်မှုသည် အများအားဖြင့် ၉၉.၉ ရှုပ်ထွေးမှုအထက်ဖြစ်ပြီး အထူးကောင်းမွန်သော ဂုဏ်ရည်များကို အာမခံပေးသည်။

၁။၂ အရည်ပေါင်းခြင်း - အခြေခံပစ္စည်းကို အလွန်မြင့်မားသော အပူခါးတွင် အပူပေးသည် (၁၇၀၀ အထက်) °C) ဗက်ကျူမ် (သို့မဟုတ်) အကူးအပြောင်းမရှိသော ပတ်ဝန်းကျင်ရှိ ဖုန်းနောက် (များသောအားဖြင့် လျှပ်စစ် ပုံစံ သို့မဟုတ် အိုင်န်ဒက်ရှင် ဖုန်းနောက်) တွင် ကွာတ့ဇ်ကို အရည်ပေါင်းပြီး အဆဲမှုန်မပါသော ကွာတ့ဇ်အရည်ဖြစ်အောင် ပြုလုပ်သည်။

၁.၃ ပုံသွင်းခြင်း – အပူပေးထားသော ကွာတ်ဇ်ကို နောက်မှ ပုံသဏ္ဌာန် နည်းလမ်းအများအပါးထဲမှ တစ်ခုဖြင့် ဖလန်ဂ်များအဖြစ်သို့ ပုံသွင်းပါသည်။

၁.၄ မော်လ်ဒင်းလုပ်ခြင်း – တိကျမှုရှိသော ဂရေဖိုက် (သို့မဟုတ်) စီရမစ် မော်လ်ဒင်းများထဲသို့ ထည့်သွင်းခြင်း။

၁.၅ စင်ထရိဖျူဂယ် မော်လ်ဒင်းလုပ်ခြင်း – မော်လ်ဒင်းကို လှည့်ပေးခြင်းဖြင့် အလွန်အများကြီးသော ချောင်းပုံသဏ္ဍာန်များကို ဖန်တော့သည်။ နောက်မှ စက်ဖြင့် ပုံသွင်းပါသည်။

၁.၆ အပူပေးပြီး ဖိသွင်းခြင်း / အဆုံးသတ်ခြင်း – ဖလန့်ဂ်များကို သိပ်သည်းမှုနှင့် အနီးစပ်ဆုံး ပုံသဏ္ဍာန်ဖော်ခြင်းအတွက် ဖိအားဖြင့် ပူနေသော ကွာ့စ်အိုင်းတ်ကို ဖော်မော်လီင်းလုပ်ခြင်း။

၁.၇ အပူပေးပြီး ဖော်မော်လီင်းလုပ်ခြင်း။ ဖော်မော်လီင်းလုပ်ထားသော ဖလန့်ဂ်များကို အပူပေးပြီး ဖော်မော်လီင်းလုပ်သည့် ဖုန်းနေးစ်တွင် ထိန်းချုပ်ထားသော နှေးကွေးသော အအေးခံမှုဖြင့် ဖော်မော်လီင်းလုပ်သည်။ ဤသည်မှာ အတွင်းပိုင်း အပူစိတ်လုံ့လေးမှုများကို လျော့နည်းစေပြီး ကွဲအက်မှုများကို ကာကွယ်ပေးကာ ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ တည်ငြိမ်မှုကို သေချာစေသည်။

၁.၈ တိကျသော စက်မှုလုပ်ငန်းများ။ အပူပေးပြီး ဖော်မော်လီင်းလုပ်ထားသော အစိတ်အပိုင်းများကို အသေအချာ စက်မှုလုပ်ငန်းများဖြင့် လုပ်ဆောင်သည်။ ဒိုင်မန်ဗ်-အ покရ် ကိရိယာများကို အသုံးပြုသည်။ ဤတွင် မှုန်မှုန်ခြင်း၊ ဖြတ်ခြင်း၊ သွေးခြင်းနှင့် ပေါ်လစ်ခြင်းတို့ ပါဝင်ပြီး နောက်ဆုံးအရွယ်အစားများ၊ မျက်နှာပုံအမျော့အမျော့ (အများအားဖြင့် အလင်းရေးအဆင့်)၊ မျက်နှာပုံမှန်မှုနှင့် တိကျသော ပိတ်ပေါက်များကို ရရှိစေသည်။ ဥပမါ - Ra < 0.4 μ m ).

၁.၉ သန့်ရှင်းရေးနှင့် အရည်အသွေးစစ်ဆေးခြင်း။ စနစ်ကျသော သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းများ (ဥပမါ - အာလ်ထာဆောနစ်၊ အက်ဆစ်သန့်ရှင်းရေး) ညစ်ပတ်မှုများကို ဖယ်ရှားပေးပါသည်။ ဖလန်ဂ်အားလုံးကို အရွယ်အစား၊ မြင်သာသော ချို့ယွင်းမှုများ (ဘူဘ်ဘယ်များ၊ ထည့်သွင်းမှုများ) နှင့် အလင်းရောင် ဂုဏ်သတ္တိများအတွက် စစ်ဆေးပါသည်။ လေဆာ အလင်းပေါ်တွင် အခြေခံသော အဆင့်မြင့်နည်းလမ်းများဖြင့် မျက်နှာပုံညီမှုနှင့် အပေါ်ယံညီမှုကို စစ်ဆေးပါသည်။

၂။ ကွာ့စ်ဖလန်ဂ်များ၏ အကျိုးကျေးနဲ့များ -

၂.၁ အလွန်ကောင်းမွန်သော ပူပိုင်းအခြေအနေတွင် တည်ငြိမ်မှု - ပူပိုင်းအခြေအနေတွင် ပြောင်းလဲမှုအလွန်နည်းသော အချိုးကွေး - (~၅.၅ x ၁၀ ⁻⁷ /K) သည် ၎င်းတို့ကို ပူပိုင်းအခြေအနေတွင် အလွန်ခံနိုင်ရည်ရှိစေပါသည်။ ၎င်းတို့သည် ၁၀၀၀ ဒီဂရီစင်တီဂရေးမှ အခန်းအပူခါးအထိ အမြန်ပူအေးမှုများကို ခံနိုင်ရည်ရှိပါသည်။ အေး °ဒီဂရီစင်တီဂရေးမှ အခန်းအပူခါးအထိ ကွဲအက်ခြင်းမရှိဘဲ

၂.၂ အမြင့်အပူခါးတွင် ခံနိုင်ရည်ရှိမှု - အပူခါးမှုအောက်တွင် ဆက်လက်လည်ပတ်နိုင်သည် အများဆုံး ၁၁၀၀ °C နဲ့ ၁၃၀၀ အထိ ခဏလေး °စီ အထိ ဖြစ်ပြီး သို့မဟုတ် ပုံစံပျက်စေနိုင်သည့် အပူခါးမှုတွင် ဖွဲ့စည်းမှု တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းနိုင်သည်။

၂.၃ အထူးကောင်းမွန်သော ဓာတုပေါင်းစပ်မှု သန့်ရှင်းမှုနှင့် ဓာတုပေါင်းစပ်မှု မှုန်းမှု : အထူးသန့်ရှင်းသော SiO ၂ ၎င်းတို့ဟာ အဆီများ၊ halogens များနဲ့ ပြင်းထန်တဲ့ ဓာတုပစ္စည်းများ (hydrofluoric acid နဲ့ ပူပြင်းတဲ့ phosphoric acid တို့မှလွဲရင်) ကွဲပြားမှုကို ခံနိုင်ရည်မြင့်မားပြီး အပေါက်မပါကြပါ။ ဒါက ထိခိုက်လွယ်တဲ့ လုပ်ငန်းစဉ်တွေမှာ ညစ်ညမ်းမှုကို တားဆီးပါတယ်။

၂.၄ အထူးကောင်းမွန်သော မြင်သာသည့် ဂုဏ်ရည်များ မြင်သာစွာသော လွတ်လပ်မှု uV မှ နီးစပ်သော အလင်းပိုမိုမှုအထိ ကျယ်ပေါင်းသော စီးကြောင်းတွင် ဖြစ်ပါသည်။ ဤသည်သည် မြင်သာသည့် လုပ်ငန်းစဉ် စောင်းကြည့်ခြင်း၊ UV အလင်းပိုမိုမှုနှင့် လေဆာ အသုံးပုံပုံများတွင် အသုံးပြုရန် အောင်မြင်စေသည်။

၂.၅ အထူးကောင်းမွန်သော လျှပ်စစ် အကာအရံမှု အလွန်မြင့်မားသော ဒိုင်အီလက်ထရစ် အားကောင်းမှုနှင့် နိမ့်သော လျှပ်စစ် ပေါင်းစပ်မှု အပူခါးမှုမြင့်မားသည့် အခြေအနေများတွင်ပါ လျှပ်စစ် အကာအရံမှုကို ထိန်းသိမ်းနိုင်သည်။ ထို့ကြောင့် ဆီမီကွန်ဒတ်နှင့် ဗက်ကျူမ် အသုံးပုံပုံများအတွက် အကောင်းဆုံး ဖြစ်သည်။

၂.၆ အလွန်မာကြောပြီး မှိန်းမှိန်းခံနိုင်သော အားသုံးမှုများ ဖောက်ပဲ့လွယ်သော်လည်း  ပေါင်းစည်းထားသော ကွာတ်ဇ်သည် မြင့်မားသော အားထုတ်မှု ၎င်း၏ ပုံသဏ္ဍာန်ကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်  အပူချိန်မြင့်မားသောအခါတွင်ပါ ပုံသဏ္ဍာန်ကိုထိန်းသိမ်းထားနိုင်ပါသည်။ ပေါလီမာအများအပြားကဲ့သို့မဟုတ်ပါ

၂.၇ အလွန်အများကြီး အောက်စီဂျင်နည်းသော အောက်စီဂျင်မှုန်းအတွက် သင့်လျော်မှု ဓာတ်ငွေ မှုန်းမှုနှင့် အပေါ်ယံမှ ဓာတ်ငွေထွက်မှုနှုန်းများသည် အလွန်နည်းပါသည်။ အသင့်လျော်ဆုံး အပူပေးခြင်းဖြင့် အလွန်အများကြီး အောက်စီဂျင်နည်းသော အောက်စီဂျင်မှုန်း (UHV) ပတ်ဝန်းကျင်များကို ရရှိရန်နှင့် ထိန်းသိမ်းရန် အထောက်အကူပေးပါသည် အောက်စီဂျင်နည်းသော အောက်စီဂျင်မှုန်း (UHV) ပတ်ဝန်းကျင်များ

၂.၈ အသက်တာရှည်ခြင်းနှင့် အရွယ်အစား တည်ငြိမ်မှု ရှေးရှေးကြီးမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း ပုံမှန်အခြေအနေများအောက်တွင် ပျက်စီးခြင်း သို့မဟုတ် အသက်ကြီးခြင်းမရှိဘဲ အချိန်ကြာမှုအတွင်း တိကျသော အရွယ်အစားများကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်

၂.၉ အဓိက  အသုံးပြုမှုများ : Semiconductor ထုတ်လုပ်မှု (အက်ခ်စ်ခ်င်း၊ ဒိုက်ဖြူးရှင်း၊ CVD/LPCVD ခေမ်ဘာများ)၊ ဖိုင်ဘာအောပ်တစ်၊ တိက်မှန်သောအောပ်တစ်၊ လေဆာစနစ်များ၊ လက်တွေ့စမ်းသပ်ရေးနှင့် အသုံးချသုံးသပ်ရေးပိုမိုမှန်ကန်သော ကိရိယာများ၊ အပူချိန်မြင့်မြင့်ရှိသော မြင်ကွင်းမှန်များနှင့် အထူးသော အလင်းရေး (အလင်းအားကောင်းမောင်းသော မီးလုံးများ)။

၃။ ကွာတ်ဇ်ဖလန်ဂ်များ၏ အဓိကအသုံးပုံများနှင့် အသုံးပါသည့် နယ်ပယ်များ

ကွာတဇ်ဖလန်ဂျ်များသည် ၎င်းတို့၏ ထူးခြားသော ဂုဏ်သတ္တိများပေါင်းစပ်မှုကြောင့် စိန်ခေါ်မှုများရှိသည့် စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် အရေးပါသော အစိတ်အပိုင်းများဖြစ်ပါသည်။ ၎င်းတို့၏ အဓိက အသုံးပြုမှုများနှင့် သီးခြားအသုံးပြုမှုများမှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်-

၃.၁ ဆီမီကွန်ဒတ်တာနှင့် မိုက်ခရိုအီလက်ထရောနစ်ထုတ်လုပ်ခြင်း

အသုံးပြုမှု - ဝိဖြစ်ပစ္စည်း ကိရိယာများတွင် ကြည့်ရှုနိုင်သော တံခါးပေါက်များ၊ ကိုယ်ထည်အတွင်းနံရံများ၊ ဓာတ်ငွေ့ဝင်ပေါက်များနှင့် စစ်ဆေးရေး တံခါးပေါက်များအဖြစ် အသုံးပြုသည်။

အဓိကကိရိယာများ - Plasma Etchers, Chemical Vapor Deposition (CVD) နှင့် Low-Pressure CVD (LPCVD) reactors, diffusion furnaces နှင့် ion implanters တို့ဖြစ်သည်။

အကြောင်းရင်း - သန့်စင်မှုမြင့်မားခြင်းက ဆီလီကွန်ဝိဖြစ်ပေါ်မှုကို ညစ်ညမ်းစေခြင်းကို ကာကွယ်ပေးပြီး ပြောင်းပြန်မှုကို ခွင့်ပြုသည်။

၃.၂ အောပ်တစ်နှင့် ဖိုတွန်နစ်နယ်ပယ်များ

အသုံးပြုမှု - အဆုံးတွင်ရှိသော ပြတင်းပေါက်များ၊ လေဆာပြွန်အိမ်ယာများနှင့် တပ်ဆင်မှုအစိတ်အပိုင်းများအဖြစ် အသုံးပြုသည်။

အဓိကအသုံးပြုမှုများ - အမြင့်ဆုံးစွမ်းအားရှိသော လေဆာစနစ်များ၊ UV နှင့် IR အော့ပ်တီကယ်စနစ်များ၊ spectrophotometer cells နှင့် နက္ခတ္တဗေဒ တယ်လီစကုပ်များ (အပူချိန်နိမ့်ပါးမှုရှိသော အုတ်မြစ်များအတွက်)။

အကြောင်းရင်း - UV မှ IR အထိ ထူးခြားသော ဖြတ်သန်းမှုနှင့် အလင်းအင်တင်ဆီတီမြင့်မားချိန်တွင် အပူပိုင်းပုံပျက်မှု အနည်းငယ်သာ ဖြစ်ပေါ်စေခြင်း။

၃.၃ အထူးသောသန့်စင်မှုရှိသော/ဖိအားနိမ့်သော ဓာတုဖော်ပေါ်ရေးလုပ်ငန်းများ

အသုံးပြုမှု။ ဓာတ်ပေါင်းချိတ်ဆက်မှုများ၊ ချေရည်များအတွက် မြင်ကွင်းပြတင်းများနှင့် စမ်းသပ်ထုတ်လုပ်ရေးစက်ရုံများတွင် ချိတ်ဆက်မှုအစိတ်အပိုင်းများအဖြစ်။

အဓိကလုပ်ငန်းစဉ်များ။ အထူးသန့်စင်သော အက်စစ်များ၊ ဟာလိုဂျင်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် အပူချိန်မြင့်မားသော အထူးဓာတုပစ္စည်းများကို ကိုင်တွယ်ခြင်း။

အကြောင်းရင်း- ဓာတုပစ္စည်းအနေဖြင့် ပိုမိုတည်ငြိမ်မှုရှိခြင်းက ထုတ်ကုန်၏ သန့်ရှင်းမှုကို သေချာစေပြီး ဟိုက်ဒရိုဖလူအိုရစ်နှင့် ပူနေသော ဖော့စဖ်ဖြစ်တစ်ခြား အက်ဆစ်အားလုံးမှ ခံနိုင်ရည်ရှိပါသည်။

၃.၄ ခေတ်မီအလင်းရေး

အသုံးပြုမှု။ အလင်းပေါင်းထုတ်လုပ်မှုမီးများ (high-intensity discharge lamps) အတွက် အပြင်ဘက်အမှုန်အဖြစ်။

အဓိကထုတ်ကုန်များ။ ပါကင်းမီးများ၊ ဇီနွန်ဓာတ်မီးများနှင့် UV သန့်စင်မီးများ။

အကြောင်းရင်း - အလွန်မြင့်မားသော အလုပ်လုပ်ရာတွင် အပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း (>1000°C) ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး UV အလင်းကို ထိရောက်စွာ ဖြတ်သန်းစေပါသည်။

၃.၅ သိပ္ပံနည်းကျသော သုတေသနနှင့် အသုံးချသုံးသပ်ရေး ကိရိယာများ

အသုံးပြုမှု။ ဗကူးခ်ခန်းများအတွက် ပြတင်းများ၊ မီးဖိုများတွင် နမူနာထားရှိမှုများနှင့် မားစ်စပက်ထရိုမီတာများတွင် အစိတ်အပိုင်းများအဖြစ်။

အဓိကပတ်ဝန်းကျင်များ - အလွန်မြင့်မားသော စက္ကူဖိအား (UHV) စနစ်များ၊ အီလက်ထရွန် မိုက်ခရိုစကုပ်များနှင့် အာကာသအတုစမ်းသပ်မှု ကွန်ရက်များ။

အကြောင်းရင်း - စက္ကူဖိအားနှင့် အပူချိန်ပြောင်းလဲမှုအောက်တွင် အလွန်နည်းပါးသော ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုနှင့် အတိုင်းအဆ တည်ငြိမ်မှုမြင့်မားခြင်း။

၃.၆ အထူးသော စက်မှုလုပ်ငန်းများ

အသုံးပြုပုံ - အပူချိန်မြင့် မီးဖိုများ (ဥပမာ Czochralski pullers ကဲ့သို့သော ကရစ်စတယ် ကြီးထွားမှု မီးဖိုများ) နှင့် ဖိုင်ဘာအော့ပတစ် preform ထုတ်လုပ်မှုတွင် စီးဆင်းမှု အစိတ်အပိုင်းများတွင် ကာကွယ်ပေးသော မျက်နှာပြင်များအဖြစ်။

အကြောင်းရင်း - အပူချိန်မြင့်မားစွာ အလုပ်လုပ်နေစဉ်အတွင်း ပုံသဏ္ဍာန်နှင့် ရှင်းလင်းမှုကို ထိန်းသိမ်းထားပေးပြီး လုပ်ငန်းစဉ်ကို မျက်စိဖြင့် ထိန်းချုပ်နိုင်စေသည်။

နည်းပညာဆိုင်ရာ သတ်မှတ်ချက်များ

ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသမိုင်း

အများပိုင်စိတ်ကူးနှင့် လက်မှတ်များ

ထုပ်ပိုးမှု

ဝန်ဆောင်မှုများ                                                                         

မေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ