แหวนกระจกควอตซ์ใสแบบปรับแต่งได้สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

รายละเอียดสินค้า

1. กระบวนการผลิตฟลานจ์ควอตซ์:

1.1 การเลือกวัตถุดิบ : ผลึกควอตซ์ธรรมชาติที่มีความบริสุทธิ์สูง หรือทรายซิลิกาสังเคราะห์ถูกเลือกเป็นวัตถุดิบเริ่มต้น ปริมาณซิลิกาโดยทั่วไปเกิน 99.9% เพื่อให้มั่นใจในคุณสมบัติที่เหนือกว่า

1.2 การหลอมละลาย: วัตถุดิบจะถูกให้ความร้อนที่อุณหภูมิสูงมาก (สูงกว่า 1700 °C) ในเตาเผาที่อยู่ภายใต้สุญญากาศหรือบรรยากาศของก๊าซเฉื่อย (มักเป็นเตาไฟฟ้าแบบความต้านทานหรือเตาเหนี่ยวนำ) เพื่อหลอมให้กลายเป็นควอตซ์หลอมเหลวที่มีความหนืดสูงและไม่มีฟองอากาศ

1.3 การขึ้นรูป: ควอตซ์หลอมเหลวจะถูก รูปทรง ขึ้นรูปเป็นแหวนยึดด้วยวิธีใดวิธีหนึ่งจากหลายวิธี

1.4 การขึ้นรูปด้วยแม่พิมพ์: เทลงในแม่พิมพ์กราไฟต์หรือเซรามิกที่มีความแม่นยำสูง

1.5 การหล่อด้วยแรงเหวี่ยง: หมุนแม่พิมพ์เพื่อขึ้นรูป ทรงกระบอกกลวง ที่จะถูกกัดแต่งต่อไป

1.6 การขึ้นรูปด้วยความร้อน/การตกแต่งสุดท้าย: ตีขึ้นรูปวัตถุดิบควอตซ์ที่ให้ความร้อนแล้วภายใต้แรงดัน เพื่อเพิ่มความหนาแน่นและขึ้นรูปใกล้เคียงชิ้นงานสุดท้าย

1.7 การอบช้า: ขอบที่ขึ้นรูปแล้วจะผ่านกระบวนการลดอุณหภูมิอย่างค่อยเป็นค่อยไปภายใต้การควบคุมในเตาอบช้า ซึ่งช่วยลดแรงเครียดจากความร้อนภายใน ป้องกันการแตกร้าว และรับประกันเสถียรภาพของโครงสร้าง

1.8 การกัดแต่งด้วยความแม่นยำสูง: วัตถุดิบที่ผ่านการอบช้าแล้วจะถูกกัดแต่งอย่างละเอียดรอบคอบ โดยใช้เครื่องมือเคลือบเพชร สิ่งนี้รวมถึงการขัด การตัด การเจาะ และการขัดผิวเพื่อให้ได้ขนาดสุดท้าย พื้นผิวเรียบ (มักเป็นเกรดออปติคัล) ความแบนราบ และพื้นผิวสำหรับการซีลอย่างแม่นยำ เช่น Ra < 0.4 μ m ).

1.9 การทำความสะอาดและการตรวจสอบคุณภาพ: การทำความสะอาดอย่างเข้มงวด (เช่น ด้วยคลื่นอัลตราโซนิก หรือการทำความสะอาดด้วยกรด) เพื่อกำจัดสิ่งสกปรก แต่ละฟลานจ์จะถูกตรวจสอบทั้งด้านขนาด ข้อบกพร่องที่มองเห็นได้ (เช่น ฟองอากาศ หรือสิ่งเจือปน) และคุณสมบัติด้านออปติคัล วิธีขั้นสูง เช่น การตรวจวัดด้วยเลเซอร์อินเทอร์เฟอโรเมตรี จะใช้ตรวจสอบความแบนราบและความขนาน

2. ข้อได้เปรียบของฟลานจ์ควอตซ์:

2.1 ความเสถียรทางความร้อนที่โดดเด่น: สัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำมาก (ประมาณ 5.5 × 10 ⁻⁷ /K) ทำให้ทนต่อการช็อกจากความร้อนได้สูงมาก สามารถทนต่อการให้ความร้อนอย่างรวดเร็วและ การระบายความร้อนจาก 1000 °องศาเซลเซียส ลงถึงอุณหภูมิห้อง โดยไม่แตกหัก

2.2 ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูง: สามารถทำงานต่อเนื่องได้ที่อุณหภูมิ สูงสุดถึง 1100 °เซลเซียส และชั่วคราวสูงถึง 1300 °C องศาเซลเซียส โดยยังคงความแข็งแรงของโครงสร้างไว้ ซึ่งโลหะจะเริ่มอ่อนตัวหรือเกิดการไหลแบบพลาสติก

2.3 ความบริสุทธิ์ทางเคมีสูงยิ่งและไม่ทำปฏิกิริยา : ผลิตจาก SiO ที่มีความบริสุทธิ์สูง 2 ความต้านทานต่อการกัดกร่อนจากกรดส่วนใหญ่ ฮาโลเจน และสารเคมีรุนแรง (ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริก และกรดฟอสฟอริกร้อน) ซึ่งช่วยป้องกันการปนเปื้อนในกระบวนการที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง

2.4 คุณสมบัติเชิงแสงที่ยอดเยี่ยม: ความโปร่งใสสูง ครอบคลุมช่วงสเปกตรัมกว้างตั้งแต่รังสีอัลตราไวโอเลตจนถึงแสงใกล้อินฟราเรด ทำให้สามารถตรวจสอบกระบวนการด้วยสายตา ผ่านรังสีอัลตราไวโอเลต และใช้งานในแอปพลิเคชันเลเซอร์ได้

2.5 ฉนวนไฟฟ้าที่โดดเด่นอย่างยิ่ง: ความต้านทานแรงดันไฟฟ้าสูงและการนำไฟฟ้าต่ำ แม้ที่อุณหภูมิสูง จึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์และสุญญากาศ

2.6 ความแข็งแรงเชิงกลและความแข็งแกร่งสูง: ถึงแม้จะเปราะบาง ควอตซ์หลอมรวม  มีความแข็งแรงเชิงกลสูง ความแข็งแรงต่อแรงอัดสูง และรักษารูปร่างไว้ได้  เข้ากันได้ดีกับสภาวะสุญญากาศระดับสูงมาก: มีอัตราการซึมผ่านของก๊าซและการปล่อยก๊าซ (outgassing) ต่ำมาก เมื่ออบร้อนอย่างเหมาะสมแล้ว จะช่วยให้บรรลุและคงสภาพสุญญากาศระดับสูงมาก (UHV) ได้

2.7 เข้ากันได้กับสุญญากาศระดับสูงพิเศษ: การซึมผ่านของก๊าซต่ำมากและอัตราการปล่อยก๊าซจากวัสดุต่ำมาก เมื่อผ่านกระบวนการอบอย่างเหมาะสม จะช่วยให้บรรลุและรักษาระดับสุญญากาศระดับสูงพิเศษ (UHV) ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

2.8 อายุการใช้งานยาวนานและมีความคงตัวของขนาด: ทนต่อการผุกร่อนจากสภาวะแวดล้อม , ไม่เสื่อมสภาพหรือเกิดการแก่ตัวภายใต้สภาวะทั่วไป และรักษาความแม่นยำของขนาดไว้ได้อย่างต่อเนื่องเนื่องจากคุณสมบัติความคงตัว

2.9 การใช้งานหลัก  การประยุกต์ใช้งาน : การผลิตครึ่งประสาท (ห้องกัดกร่อน ห้องกระจายสาร ห้องสะสมฟิล์มแบบ CVD/LPCVD), เส้นใยแสง อุปกรณ์ออปติกความแม่นยำ ระบบเลเซอร์ อุปกรณ์ห้องปฏิบัติการและการวิเคราะห์ กระจกสังเกตการณ์ที่ทนอุณหภูมิสูง และระบบให้แสงพิเศษ (หลอดไฟแบบปล่อยประจุความเข้มสูง)

3. สาขาและวัตถุประสงค์หลักในการใช้งานข้อต่อควอตซ์

ข้อต่อควอทซ์เป็นส่วนประกอบสำคัญในอุตสาหกรรมที่มีความต้องการสูง เนื่องจากคุณสมบัติพิเศษที่รวมกันอย่างลงตัว การประยุกต์ใช้งานหลักและการใช้งานเฉพาะเจาะจงมีดังนี้

3.1 การผลิตชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์

การใช้งาน: เป็นช่องมองภาพ แผ่นรองภายในห้องปฏิกรณ์ ช่องนำก๊าซ และช่องสำหรับตรวจสอบในอุปกรณ์แปรรูปเวเฟอร์

อุปกรณ์หลัก: อุปกรณ์กัดกร่อนแบบพลาสมา, เครื่องปฏิกรณ์การสะสมไอเคมี (CVD) และ CVD ความดันต่ำ (LPCVD), เตาแพร่กระจาย และเครื่องฉีดไอออน

เหตุผล: ความบริสุทธิ์ของวัสดุช่วยป้องกันการปนเปื้อนบนเวเฟอร์ซิลิคอน และความสามารถในการมองเห็นได้ช่วยให้สามารถตรวจสอบกระบวนการได้แบบเรียลไทม์

3.2 อุตสาหกรรมออปติกและโฟโตนิกส์

การใช้งาน: เป็นหน้าต่างปลายท่อ ที่ครอบหลอดเลเซอร์ และชิ้นส่วนยึดติด

การประยุกต์ใช้งานหลัก: ระบบเลเซอร์กำลังสูง, ระบบออพติคัลยูวีและอินฟราเรด, เซลล์สเปกโตรโฟโตมิเตอร์, และกระจกกล้องโทรทรรศน์ดาราศาสตร์ (สำหรับวัสดุพื้นฐานที่มีการขยายตัวจากความร้อนต่ำ)

เหตุผล: มีคุณสมบัติการถ่ายโอนแสงจากยูวีถึงอินฟราเรดได้อย่างยอดเยี่ยม และเกิดการบิดเบือนจากความร้อนน้อยมากภายใต้แสงที่มีความเข้มสูง

3.3 การแปรรูปทางเคมีที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง/ความดันต่ำ

การใช้งาน: เป็นซับในของปฏิกรณ์ กระจกส่องสำหรับของเหลวที่กัดกร่อน และชิ้นส่วนต่อเชื่อมในโรงงานต้นแบบ

กระบวนการหลัก: การจัดการกรดบริสุทธิ์สูง ก๊าซฮาโลเจน และสารเคมีพิเศษที่อุณหภูมิสูง

เหตุผล: มีความเฉื่อยทางเคมีสูงเยี่ยม ทำให้มั่นใจได้ถึงความบริสุทธิ์ของผลิตภัณฑ์ และทนต่อการโจมตีจากกรดทุกชนิด ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริก และกรดฟอสฟอริกร้อน

3.4 การให้แสงขั้นสูง

การใช้งาน: เป็นเปลือกภายนอก (หลอดด้านนอก) สำหรับโคมไฟแบบปล่อยพลังงานความเข้มสูง

ผลิตภัณฑ์หลัก: โคมไฟไส้เมอร์คิวรี โคมไฟอาร์กเซนอน และโคมไฟฆ่าเชื้อด้วยรังสีอัลตราไวโอเลต

เหตุผล: ทนต่ออุณหภูมิในการทำงานสูงมาก (>1000°C) และส่งผ่านรังสี UV ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

3.5 การวิจัยเชิงวิทยาศาสตร์และเครื่องมือวิเคราะห์

การใช้งาน: เป็นหน้าต่างสำหรับห้องสุญญากาศ ที่ยึดตัวอย่างในเตาเผา และชิ้นส่วนในมาสสเปกโตรมิเตอร์

สภาพแวดล้อมหลัก: ระบบสุญญากาศระดับสูงมาก (UHV), กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน และห้องจำลองสภาพอวกาศ

เหตุผล: การปล่อยก๊าซต่ำมากเป็นพิเศษ และมีความคงตัวทางมิติสูงภายใต้สภาวะสุญญากาศและการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ

3.6 กระบวนการอุตสาหกรรมเฉพาะทาง

การใช้งาน: เป็นช่องมองเพื่อป้องกันในเตาอุณหภูมิสูง (เช่น เตาเติบโตผลึกแบบโซโครลัลสกี) และชิ้นส่วนที่เกี่ยวข้องกับการไหลในกระบวนการผลิตไพร์ฟอร์มไฟเบอร์ออปติก

เหตุผล: รักษาระดับความชัดเจนและความสมบูรณ์ของวัสดุในการทำงานที่อุณหภูมิสูงอย่างต่อเนื่อง ทำให้สามารถควบคุมกระบวนการได้ด้วยการมองเห็น

ข้อมูลทางเทคนิค

ประวัติการพัฒนา

สิทธิบัตรและการรับรอง

บรรจุภัณฑ์

บริการ                                                                         

คำถามที่พบบ่อย