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Sì vetro al quarzo lica Barca:
la barca in quarzo è un accessorio di consumo indispensabile nella produzione high-tech. La sua particolare combinazione di proprietà termiche, chimiche e di purezza la rende il materiale preferito per garantire l'integrità e la qualità di prodotti delicati come circuiti integrati e celle solari negli ambienti di produzione più impegnativi.
Introduzione alla barca in quarzo
Una barca in quarzo, nota specificamente nel settore dei semiconduttori come barca per wafer o barca di processo, è un componente di alta precisione realizzato in quarzo fuso ad alta purezza. È progettata per sostenere e trasportare wafer di silicio durante vari processi produttivi ad alta temperatura.
La sua funzione principale è quella di fungere da portante o scaffalatura, garantendo che più wafer siano tenuti saldamente in posizione verticale e con uno spaziamento preciso mentre vengono trattati all'interno di forni e camere di reazione.
Caratteristiche principali
1). Eccezionale resistenza alle alte temperature:
Il quarzo fuso può sopportare temperature superiori a 1100°C senza ammorbidirsi o deformarsi, caratteristica essenziale per processi come la diffusione e l'ossidazione.
2). Purezza ultra elevata:
È realizzato in quarzo sintetico ad alta purezza, praticamente privo di impurità metalliche. Questo evita il contaminamento dei sensibili wafer di silicio, elemento fondamentale per ottenere alte rese produttive e prestazioni elevate.
3). Eccellente stabilità termica:
Il quarzo ha un coefficiente di dilatazione termica molto basso, il che significa che può sopportare cicli rapidi di riscaldamento e raffreddamento (shock termico) senza rompersi.
4). Elevata inerzia chimica:
È altamente resistente alla corrosione causata dalla maggior parte degli acidi, alogeni e altri gas aggressivi utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori.
5). Progettazione di precisione:
La barca è dotata di scanalature o fessure progettate con cura che tengono i wafer saldamente al loro posto senza generare stress né particelle, garantendo al contempo un'esposizione uniforme ai gas di processo e al calore.
6) Elevata resistenza meccanica e stabilità
Mantiene l'integrità strutturale e la stabilità dimensionale sotto carichi elevati a temperature elevate, prevenendo la deformazione dei wafer.
La barca in quarzo è essenziale per la produzione di semiconduttori grazie alla sua eccezionale resistenza ad alte temperature e all'elevatissima purezza, che previene contaminazioni. La sua superiore resistenza agli shock termici e l'ottima inerzia chimica le permettono di funzionare in modo affidabile in ambienti di processo severi. Inoltre, la progettazione di precisione garantisce che le wafer vengano processate in modo uniforme e senza danni.
Vantaggi della barca in quarzo
1) Resistenza ad Alte Temperature:
La temperatura di ammorbidimento del vetro al quarzo è di circa 1730 °C, può essere utilizzato a 1200 °C per lunghi periodi. La temperatura massima per un uso breve può raggiungere i 1450 °C.
2) Buona Stabilità Termica: Il coefficiente di dilatazione termica del vetro al quarzo è ridotto, quindi riesce a sopportare bruschi cambiamenti di temperatura; il vetro al quarzo riscaldato a circa 1200 °C non si rompe se immerso in acqua a temperatura ambiente.
3) Resistenza alla corrosione: Tranne che con l'acido fluoridrico, il vetro al quarzo quasi non reagisce chimicamente con altri acidi, e la sua resistenza agli acidi è 30 volte superiore a quella della ceramica e 150 volte superiore a quella dell'acciaio inossidabile.
4) Eccellente isolamento: Il valore di resistenza del vetro al quarzo equivale a 10.000 volte quello del vetro comune, il che lo rende un materiale isolante elettrico di altissima qualità, con ottime prestazioni di isolamento a temperatura ambiente.
5) Buona trasmissione della luce: Nell'intero spettro delle lunghezze d'onda dall'ultravioletto all'infrarosso presenta una buona trasmissione luminosa; la trasmissione della luce visibile è pari o superiore al 93% nella regione ultravioletta, mentre la trasmissione è pari o superiore all'80%.
Applicazioni comuni
Porta-wafer per processi ad alta temperatura: La funzione principale è quella di sostenere e trasportare wafer di silicio nei forni e nelle camere di reazione.
Fondamentale per il drogaggio e la diffusione: Consente l'introduzione di impurezze nei wafer di silicio per creare transistor e circuiti.
Essenziale per l'ossidazione termica: utilizzato per creare strati isolanti di ossido sui wafer.
Supporto nella deposizione di film sottili (CVD): trattiene i wafer durante i processi di rivestimento.
Fondamento nella produzione di celle solari: utilizzato per la fabbricazione della giunzione p-n nelle celle fotovoltaiche.
In sintesi, ogni volta che è richiesta una lavorazione ultra-pulita ad alta temperatura di wafer di silicio o substrati simili, la barca in quarzo è uno strumento indispensabile.
1). Produzione di semiconduttori (applicazione principale)
Ossidazione termica: utilizzata per trasportare wafer di silicio in forni ad alta temperatura al fine di creare uno strato sottile e uniforme di biossido di silicio (SiO₂) sulla superficie del wafer.
Diffusione: impiegata nei processi di drogaggio in cui i wafer sono esposti a gas droganti ad alte temperature per modificare le proprietà elettriche del silicio.
Deposizione chimica da vapore (CVD): funge da supporto per i wafer durante i processi di deposizione di film sottili di diversi materiali.
Tempra: utilizzata nei forni per ricotturare le pastiglie (riscaldamento e raffreddamento lento) al fine di riparare i danni ai cristalli o attivare i droganti.
2). Industria fotovoltaica (PV)
Utilizzato nel processo di diffusione per creare la giunzione p-n, che rappresenta il cuore fondamentale di una cella solare.
Impiegato anche in altre fasi di lavorazione ad alta temperatura per pastiglie solari in silicio.
3). Produzione di LED e MEMS
Fondamentale per le fasi di lavorazione ad alta temperatura coinvolte nella produzione di diodi a emissione luminosa (LED) e sistemi micro-elettro-meccanici (MEMS).
I tubi di quarzo sono componenti industriali e di laboratorio ad alte prestazioni indispensabili, realizzati in silice fusa ad alta purezza, con un contenuto di silice tipicamente pari o superiore al 99,9%, mentre le varianti di qualità superiore raggiungono una purezza del 99,99% di SiO₂. Il processo produttivo prevede la fusione di cristalli di quarzo naturale a temperature ultra-elevate di circa 2000°C, seguita da tecniche di lavorazione di precisione come lo stiramento e la modellatura, per garantire uno spessore uniforme delle pareti e l'integrità strutturale. Questi tubi si distinguono dal vetro comune e dalle alternative in borosilicato grazie alla loro eccezionale combinazione di proprietà termiche, chimiche, ottiche e meccaniche, risultando così insostituibili in numerose applicazioni ad alto requisito.
Parametri tecnici
| Contenuto delle proprietà | Unità | Indice delle proprietà |
| Densità | g/cm3 | 1.9-2.0 |
| Resistenza alla trazione | Pa(N/m²) | 4,9×10⁷ |
| Resistenza alla compressione | Pa | >1.0×10⁸ |
| Coefficiente di espansione termica | cm/cm·℃ | 5,4×10⁻⁷ |
| Conduttività termica | W/m·℃ | Basso |
| Calore specifico | J/kg·℃ | 650 |
| Punto di ammorbidimento | ℃ | 1600 |
| Punto di tempra | ℃ | 1100 |
| Alluminio | Ghisa | Potassio | Litio | Rame | Sodio | Borone | Calcio | Magnesio |
| AL | Fe | K | - Li | Cu | NA | B | Ca | MG |
| 65 | 1.17 | 4.4 | 7.21 | 0.13 | 5 | 0.1 | 1.21 | 0.07 |
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