Saulės energijai pritaikytas pagal užsakymą pagamintas permatomas lydyto silicio kvarcinis stiklas laivas

Produkto detalės

1. Kvartcinės valties įvadas

Kvartcinė valtis, taip pat vadinama puslaidininkių pramonėje plokštelės valtimi arba technologine valtimi, yra aukštos tikslumo detalė, pagaminta iš aukščiausios kokybės lydyto kvartco. Ji sukurta laikyti ir vežti silicio plokšteles įvairiuose aukštos temperatūros gamybos procesuose.

Jos pagrindinė funkcija – tarnauti kaip nešiklis arba stalčius, užtikrinant, kad kelios plokštelės būtų patikimai laikomos tiksliai nustatyta, vertikalia pozicija, kol jos apdorojamos krosnyse ir reakcijos kamerose.

2. Pagrindinės savybės

2.1 Išskitanti aukštos temperatūros atsparumas:
Išlydytas kvarcas gali išlaikyti temperatūras, viršijančias 1100 °C, nesuminkštėdamas ir nedeformuodamasis, kas būtina tokiems procesams kaip difuzija ir oksidacija.

2.2 Aukščiausios kokybės grynumas:
Jis pagamintas iš aukštos grynumo sintetinio kvarco, kuris praktiškai neturi metalinių priemaišų. Tai neleidžia užteršti jautrių silicio plokštelių, kas yra būtina pasiekiant didelį produktyvumą ir našumą.

2.3 Aukštesnė šiluminė stabilumas:
Kvarcas turi labai mažą šiluminio plėtimosi koeficientą, tai reiškia, kad jis gali išlaikyti staigius įkaistymo ir aušimo ciklus (šiluminį smūgį), nesutrūkinėjant.

2.4 Puikus cheminis inertumas:
Jis labai atsparus korozijai dėl daugumos rūgščių, halogenų ir kitų agresyvių procesų dujų, naudojamų puslaidininkių gamyboje.

2.5 Aukšta mechaninė stiprybė ir stabilumas
Išlaiko struktūrinį vientisumą ir matmeninę stabilumą didelėmis apkrovomis aukštoje temperatūroje, neleidžiant plokštelių išlinkimui.
Kvarcinė valtis yra būtina puslaidininkių gamybai dėl išskirtinio atsparumo aukštai temperatūrai ir ultraaukštos grynumos, kurios neleidžia užteršimo. Jos puikus termochockui atsparumas ir puikus cheminis inertumas leidžia patikimai veikti sunkiomis technologinėmis sąlygomis. Be to, tikslus inžinerijos projektavimas užtikrina, kad plokštelės būtų apdorojamos vienodai ir be pažeidimų.

3.Kvarco laivo privalumai

3.1 Atsparumas aukštoms temperatūroms:
Kvarco stiklo minkštėjimo temperatūra yra apie 1730°C, o tai gali būti ilgai naudojamas 1200°C temperatūroje - Ne. Trumpalaikis naudojimo temperatūra gali siekti 1450°C.

3.2 Geras šiluminis stabilumas:

Kvarcinė stikla šilumos plėtimosi koeficientas yra mažas , gali atsispinti stačiems temperatūros pokyčiams , kvarco stiklas, įkaitintas iki apie 1200 ℃, įprastos kambario temperatūros vandenyje nesprogs.

3.3 Atsparumas korozijai:

Išskyrus fluoro vandenilį , kvarco stiklas beveik nereaguoja chemiškai su kitomis rūgštimis, o jo rūgščių atsparumas yra 30 kartų didesnis nei keramikos ir 150 kartų didesnis nei nerūdijančiojo plieno.

3.4 Galinga izoliacija:

Kvarco stiklo varža yra lygi 10 000 kartų įprasto stiklo varžai , todėl tai labai geriausias elektros izoliacinis medžiaga ir puikiai veikia kaip izoliatorius kambario temperatūroje.

3.5 Gerai šviesos pralaidumas:

Visoje ultravioletinės ir infraraudonosios spinduliuotės bangos ilgių srityje turi gerą švios pralaidumą , matomosios šviesos pralaidumo rodiklis – 93 % ar daugiau ultravioletinės spinduliuotės srityje, pralaidumo rodiklis – 80 ar daugiau.

4. Dažniausiai naudojamos sritys

Plokštelės nešėjas aukštos temperatūros procesams: pagrindinė funkcija – laikyti ir vežti kremnijio plokšteles krosnyse ir reakcijos kamerose.
Svarbus legiravimui ir difuzijai: Leidžia įvesti priemaišas į silicio plokšteles, kad būtų galima sukurti tranzistorius ir grandines.
Būtinas terminiam oksidavimui: naudojamas izoliuojančių oksido sluoksnių augimui ant plokštelės.
Palaikymas plonųjų sluoksnių nusodinime (CVD): laiko plokšteles dengimo procesų metu.
Pagrindas saulės elementų gamyboje: naudojamas fotovoltinių elementų p-n sandūros gamybai.

Iš esmės, kur reikalingas ultrašvarus aukštos temperatūros silicio plokštelių ar panašių pagrindų apdorojimas, kvarcinis valtis yra nepakeičiamas įrankis.

4.1 Puslaidininkių gamyba (pagrindinė taikymo sritis)

Terminis oksidavimas: naudojamas silicio plokštelėms vežti aukštos temperatūros krosnyse, siekiant išauginti ploną, vienodą silicio dioksido (SiO₂) sluoksnį plokštelės paviršiuje.
Difuzija: naudojama legavimo procesuose, kai plokštelės aukštoje temperatūroje veikiamos legavimo dujomis, kad būtų pakeigtos silicio elektrinės savybės.
Cheminis garų nusodinimas (CVD): tarnauja kaip plokštelių laikiklis, vykstant procesams, kurių metu nusodinami ploni įvairių medžiagų sluoksniai.
Atleidimas: Naudojamas krosnyse plokštelėms atleisti (šildyti ir lėtai aušinti), kad būtų pašalinti kristalinės gardelės pažeidimai arba aktyvuoti legiravimo priemaišos.

4.2 Fotovoltinė (PV) pramonė

Naudojamas difuzijos procese, siekiant sukurti p-n sandūrą, kuri yra saulės elementų pagrindas.
Taip pat naudojamas kitose auštinimo temperatūros apdorojimas žingsniai silicio saulės plokštėms.

4.3 LED ir MEMS gamyba

Būtinas aukštos temperatūros apdorojimo etapams šviesos diodų (LED) ir mikroelektromechaninių sistemų (MEMS) gamyboje.
Kvarcinės bandymo mėgintuvėlės yra būtini aukštos kokybės laboratorijų ir pramonės komponentai, pagaminti iš aukštos grynumo sulietos kvarco medžiagos, kurios dažniausiai turi 99,9 % arba aukštesnį kvarco kiekį, o aukščiausios kokybės variantai pasiekia 99,99 % SiO₂ grynumą . Gamybos procesas apima natūralių kvarco kristalų lydymą labai aukštoje temperatūroje – apie 2000 °C, po to – tikslų apdorojimą, pvz., ištempimą ir formavimą, kad būtų užtikrintas vienodas sienelės storis ir konstrukcinė vientisumas. Šie mėgintuvėliai išsiskiria nuo įprastų stiklo ir borosilikatinio stiklo analogų dėl išskirtinės šiluminės, cheminės, optinės ir mechaninės savybių kombinacijos, todėl jie nekeičiami daugelyje ypatingai reikalaujamų situacijų.

  
Techniniai parametrai

Plėtros istorija

Patentai ir sertifikatai

Pakuotė

Paslaugos                                                                         

Dažniausiai užduodami klausimai