Startpagina>Producten>Speciaal glas>glazen laboratoriumuitrusting
Maat van de heldere kwartsboot
De afmeting die we vaak produceren is 4 inch, 6 inch, 8 inch enzovoort. En we kunnen het ontwerpen en op maat maken volgens de eisen van de klant.
Hardheid
Mohs-hardheid van ongeveer 7, vergelijkbaar met die van glas
SiO₂-zuiverheid
Zuiverheid van siliciumdioxide, meestal ≥99.99%voor crucibles van halfgeleiderkwaliteit
Maximale Werktemperatuur
De hoogste temperatuur die de kwartsboot continu kan verdragen, tot 1100℃
De korte-tijds werkomstandigheidstemperatuur is 1200℃
Productgegevens
1. Inleiding tot de kwartsboot
Een kwartsboot, ook specifiek bekend in de halfgeleiderindustrie als een wafelboot of procesboot, is een component van hoge precisie dat is vervaardigd uit hoogzuiver gesmolten kwarts. Het is ontworpen om siliciumwafels te dragen en te transporteren tijdens diverse productieprocessen bij hoge temperatuur.
De belangrijkste functie is het dienen als draagconstructie of rek, zodat meerdere wafers veilig en exact op afstand in verticale positie worden gehouden terwijl ze verwerkt worden in ovens en reactiekamers.
2. Belangrijke kenmerken
2.1 Uitzonderlijke weerstand tegen hoge temperaturen:
Gesmolten quartz kan temperaturen boven de 1100°C weerstaan zonder te verzachten of te vervormen, wat essentieel is voor processen zoals diffusie en oxidatie.
2.2 Ultra-hoog zuiverheid:
Het is gemaakt van synthetisch kwarts met hoge zuiverheid, dat vrijwel vrij is van metalen verontreinigingen. Dit voorkomt verontreiniging van de gevoelige silicium wafers, wat cruciaal is om hoge productopbrengsten en prestaties te bereiken.
2.3 Uitstekende thermische stabiliteit:
Kwarts heeft een zeer lage uitzettingscoëfficiënt bij temperatuurveranderingen, wat betekent dat het snelle opwarm- en afkoelcycli (thermische schok) kan doorstaan zonder te barsten.
2.4 Uitstekende chemische inertie:
Het is zeer bestand tegen corrosie veroorzaakt door de meeste zuren, halogenen en andere agressieve procesgassen die worden gebruikt in de fabricage van halfgeleiders.
2.5 Hoge mechanische sterkte en stabiliteit
Behoudt structurele integriteit en dimensionale stabiliteit onder zware belasting bij hoge temperaturen, waardoor vervorming van wafers wordt voorkomen.
De kwartsboot is essentieel voor de halfgeleiderproductie vanwege zijn uitzonderlijke bestendigheid tegen hoge temperaturen en ultrahoge zuiverheid, die verontreiniging voorkomen. Zijn uitstekende weerstand tegen thermische schokken en uitstekende chemische inertie zorgen ervoor dat hij betrouwbaar presteert in extreme procesomgevingen. Bovendien garandeert de precisietechniek een uniforme en schadevrije bewerking van wafers.
3. Voordelen van de kwartsboot
3.1 Bestendigheid tegen hoge temperaturen:
Het verzachtingspunt van kwartsglas ligt rond 1730 ℃, waardoor het langdurig kan worden gebruikt bij 1200 ℃ . De kortstondige gebruikstemperatuur kan oplopen tot 1450 ℃. . De kortstondige gebruikstemperatuur kan oplopen tot 1450 ℃.
3.2 Goede thermische stabiliteit:
Kwarts glas de lineaire uitzettingscoëfficiënt is klein , kan bestand zijn tegen drastische temperatuurwisselingen , het kwartsglas wordt verhit tot ongeveer 1200 ℃ en kan dan in water op kamertemperatuur worden geplaatst zonder te barsten.
3.3 Corrosiebestendigheid:
Behalve waterstoffluoride , reageert kwartsglas bijna niet chemisch met andere zuren, en zijn zuurbestendigheid is 30 keer hoger dan die van keramiek en 150 keer hoger dan die van roestvrij staal.
3.4 Sterke isolatie:
De weerstandswaarde van kwartsglas is gelijk aan 10.000 keer die van gewoon glas , waardoor het een zeer goed elektrisch isolatiemateriaal is met uitstekende isolatieprestaties bij kamertemperatuur.
3.5 Goede lichtdoorlatendheid:
In het gehele spectrum van ultraviolette tot infrarode golflengten hebben een goede lichttransmissie , transmissiepercentage voor zichtbaar licht van 93% of meer in het ultraviolette spectrumgebied, het transmissiepercentage van 80 of meer.
4. Veelvoorkomende toepassingen
Wafelhouder voor hoogtemperatuurprocessen: de primaire functie is het vasthouden en vervoeren van siliciumwafels in ovens en reactiekamers.
Belangrijk voor dotering en diffusie: Maakt het mogelijk onzuiverheden in siliciumwafers te introduceren om transistors en schakelingen te creëren.
Essentieel voor thermische oxidatie: Wordt gebruikt om isolerende oxidelagen op wafers te groeien.
Ondersteuning bij dunne-laagdepositie (CVD): Houdt wafers vast tijdens coateerprocessen.
Basis in de productie van zonnecellen: Wordt gebruikt voor de fabricage van de p-n-overgang in fotovoltaïsche cellen.
Kortom, waar dan ook ultra-schone, hoogtemperatuurverwerking van siliciumwafers of vergelijkbare substraten vereist is, is de kwartsboot een onmisbaar hulpmiddel.
4.1 Halfgeleiderproductie (kerntoepassing)
Thermische oxidatie: Wordt gebruikt om siliciumwafers te transporteren in hoogtemperatuurovens om een dunne, uniforme laag siliciumdioxide (SiO₂) op het oppervlak van de wafer te vormen.
Diffusie: Wordt gebruikt bij doteringsprocessen waarbij wafers blootgesteld worden aan dotergassen bij hoge temperaturen om de elektrische eigenschappen van silicium te veranderen.
Chemische dampdepositie (CVD): Dient als houder voor wafers tijdens processen waarbij dunne lagen van diverse materialen worden afgezet.
Gloeien: Gebruikt in ovens om wafers te gloeien (verwarmen en langzaam afkoelen) om kristalschade te herstellen of dopanten te activeren.
4.2 Fotovoltaïsche (PV) industrie
Gebruikt bij het diffusieproces om de p-n-overgang te creëren, die het fundamentele hart van een zonnecel vormt.
Ook gebruikt in andere hoge-temperatuurbewerking stappen voor siliciumzonnepanelenwafels.
4.3 LED- en MEMS-productie
Essentieel voor de verwerking bij hoge temperatuur die betrokken is bij de productie van lichtgevende diodes (LED's) en micro-elektromechanische systemen (MEMS).
Kwartsproefbuizen zijn onmisbare hoogwaardige laboratorium- en industriële componenten die zijn vervaardigd uit hoogzuiver gevoegd kwarts, meestal met een siliciumgehalte van 99,9% of hoger, met premiumvarianten een zuiverheid van 99,99% SiO₂ bereiken . Het productieproces omvat het smelten van natuurlijke kwartskristallen bij een extreem hoge temperatuur van ongeveer 2000 °C, gevolgd door precisiebewerkingsmethoden zoals uitrekken en vormgeven om een uniforme wanddikte en structurele integriteit te garanderen. Deze buizen onderscheiden zich van gewoon glas en borosilicaatalternatieven door hun uitzonderlijke combinatie van thermische, chemische, optische en mechanische eigenschappen, waardoor ze onvervangbaar zijn in talloze toepassingen met hoge eisen.
Technische Parameters
| Eigenschappeninhoud | Eenheid | Eigenschappenindex |
| Dichtheid | g/cm³ | 1.9-2.0 |
| Treksterkte | Pa(N/m²) | 4,9×10⁷ |
| Compressiesterkte | Pa | >1.0×10⁸ |
| Coëfficiënt van thermische uitzetting | cm/cm·℃ | 5,4×10⁻⁷ |
| Warmtegeleidbaarheid | W/m·℃ | Laag |
| Specifieke warmte | J/kg·℃ | 650 |
| Vermollingspunt | ℃ | 1600 |
| Temperatuurpunt | ℃ | 1100 |
| Aluminium | Gietijzer | Kalium | Lithium | Koper | Natrium | Boor | Calcium | Magnesium |
| AL | - Het is goed. | K | Li | Cu | NA | B | Ca | Mg |
| 65 | 1.17 | 4.4 | 7.21 | 0.13 | 5 | 0.1 | 1.21 | 0.07 |
Ontwikkelingsgeschiedenis
Octrooien en certificering
Pakket
Diensten
Veelgestelde vragen
Gepersonaliseerde auto-aromatherapiestok, poreuze keramische geurstok
Hoogwaardig alumina nitride ALN keramisch isolatieonderdeel met hoge thermische geleidbaarheid
Ronde heldere gesmolten kwartschijf met hoge UV-doorlaat
Op maat gemaakte PET polymere katoen microporeuze olieopslag geïntegreerde katoen
EN
