સોલર એનર્જી કસ્ટમાઇઝ્ડ ટ્રાન્સપેરન્ટ ફ્યુઝ્ડ સિલિકા ક્વાર્ટઝ ગ્લાસ બોટ

ઉત્પાદન વિગતો

1. ક્વાર્ટ્ઝ બોટનો પરિચય

ક્વાર્ટ્ઝ બોટ, જેને સેમિકન્ડક્ટર ઉદ્યોગમાં વિશિષ્ટ રીતે વેફર બોટ અથવા પ્રોસેસ બોટ કહેવામાં આવે છે, એ ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા ફ્યૂઝ્ડ ક્વાર્ટ્ઝમાંથી બનેલો ઉચ્ચ-ચોકસાઈવાળો ઘટક છે. તેની ડિઝાઇન સિલિકોન વેફર્સને ધરપકડ કરવા અને લાવવા માટે કરવામાં આવી છે વિવિધ ઉચ્ચ-તાપમાનની ઉત્પાદન પ્રક્રિયાઓ દરમિયાન.

તેનું મુખ્ય કાર્ય એક વાહન અથવા રેક તરીકે કામ કરવાનું છે, જેથી ઘણા વેફરને ઊભી સ્થિતિમાં ચોક્કસ અંતરે મજબૂતાઈથી રાખી શકાય જ્યારે તેમને ભઠ્ઠીઓ અને પ્રતિક્રિયા કક્ષોમાં પ્રક્રિયા કરવામાં આવે છે.

2. મુખ્ય લાક્ષણિકતાઓ

2.1 અસામાન્ય રીતે ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રતિરોધકતા:
1100°C થી વધુના તાપમાનને કારણે ફ્યુઝ્ડ ક્વાર્ટઝ નરમ થયા વિના અથવા વિકૃત થયા વિના સહન કરી શકે છે, જે ડિફ્યુઝન અને ઓક્સિડેશન જેવી પ્રક્રિયાઓ માટે આવશ્યક છે.

2.2 અત્યંત ઉચ્ચ શુદ્ધતા:
તે ઉચ્ચ શુદ્ધતાવાળા સિન્થેટિક ક્વાર્ટઝમાંથી બનેલું છે, જે લગભગ ધાતુની અશુદ્ધિઓ વિનાનું હોય છે. આ સંવેદનશીલ સિલિકોન વેફરના દૂષણને રોકે છે, જે ઉચ્ચ ઉત્પાદન ઉપજ અને કાર્યક્ષમતા મેળવવા માટે મહત્વપૂર્ણ છે.

2.3 ઉત્તમ ઉષ્મીય સ્થિરતા:
ક્વાર્ટ્ઝમાં ઉષ્મીય પ્રસરણનો ખૂબ જ ઓછો ગુણાંક હોય છે, એટલે કે તે ફાટવાની સમસ્યા વગર ઝડપી ગરમ અને ઠંડકના ચક્રો (ઉષ્મીય આઘાત) સહન કરી શકે છે.

2.4 ઉત્તમ રાસાયણિક નિષ્ક્રિયતા:
તે અર્ધવાહક ઉત્પાદનમાં વપરાતા મોટાભાગના એસિડ, હેલોજન અને અન્ય આક્રમક પ્રક્રિયા ગેસથી થતા કાટ સામે ખૂબ જ પ્રતિરોધક છે.

2.5 ઉચ્ચ યાંત્રિક શક્તિ અને સ્થિરતા
ઉચ્ચ તાપમાને ભારે ભાર હેઠળ પણ રચનાત્મક સંપૂર્ણતા અને પરિમાણીય સ્થિરતા જાળવે છે, જેથી વેફરનું વિકૃતિકરણ અટકે છે.
સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદન માટે ક્વાર્ટઝ બોટ આવશ્યક છે, કારણ કે તેની અત્યંત ઊંચા તાપમાન પ્રતિકાર અને અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા પ્રદૂષણને રોકે છે. તેની ઉત્કૃષ્ટ થર્મલ શોક પ્રતિકાર અને ઉત્તમ રાસાયણિક નિષ્ક્રિયતા તેને કઠોર પ્રક્રિયા વાતાવરણમાં વિશ્વસનીય રીતે કાર્ય કરવાની મંજૂરી આપે છે. વધુમાં, તેની ચોકસાઈપૂર્ણ એન્જિનિયરિંગને કારણે વેફર્સને સમાન રીતે અને કોઈ નુકસાન વગર પ્રક્રિયા કરી શકાય છે.

3. ક્વાર્ટ્ઝ બોટના ફાયદા

3.1 ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિકારશક્તિ:
ક્વાર્ટ્ઝ ગ્લાસનું પિગલનબિંદુ તાપમાન લગભગ 1730℃ છે, જેનો લાંબા સમય સુધી 1200℃ પર ઉપયોગ કરી શકાય છે . ટૂંકા સમયનો ઉપયોગ તાપમાન 1450℃ સુધી પહોંચી શકે છે.

3.2 સારા થર્મલ સ્થિરતા:

ક્વોર્ટઝ ગ્લાસ ઉષ્મીય પ્રસારનો ગુણાંક નાનો છે , શકે તીવ્ર તાપમાનના ફેરફારોને સહન કરી શકે , ક્વાર્ટ્ઝ ગ્લાસને લગભગ ૧૨૦૦ ℃ સુધી ગરમ કરીને ઓરડના તાપમાનના પાણીમાં મૂકવામાં આવે, તો તે ફાટશે નહીં.

૩.૩ ક્ષરણ પ્રતિકારકતા:

હાઇડ્રોફ્લોરિક એસિડ સિવાય , ક્વાર્ટ્ઝ ગ્લાસ અન્ય એસિડ્સ સાથે લગભગ કોઈ રાસાયણિક પ્રક્રિયા કરતું નથી, અને તેની એસિડ પ્રતિકારકતા સેરામિક્સ કરતાં ૩૦ ગણી અને સ્ટેનલેસ સ્ટીલ કરતાં ૧૫૦ ગણી છે.

૩.૪ મજબૂત વિદ્યુતીય અવરોધ:

ક્વાર્ટ્ઝ ગ્લાસનો અવરોધ મૂલ્ય સામાન્ય ગ્લાસ કરતાં ૧૦,૦૦૦ ગણો છે જે ખૂબ સારો વિદ્યુત ઇન્સુલેશન મટીરિયલ છે અને રૂમ ટેમ્પરેચરે સારો ઇન્સુલેશન પરફોર્મન્સ ધરાવે છે.

3.5 સારો પ્રકાશ ટ્રાન્સમિટન્સ:

અલ્ટ્રાવાયોલેટથી ઇન્ફ્રારેડ તરંગલંબાઈના સંપૂર્ણ સ્પેક્ટ્રમમાં સારો પ્રકાશ ટ્રાન્સમિટન્સ ધરાવે છે , દૃશ્યમાન પ્રકાશ ટ્રાન્સમિટન્સ રેટ 93% અથવા તેનાથી વધુ, અલ્ટ્રાવાયોલેટ સ્પેક્ટ્રમ રીજનમાં ટ્રાન્સમિટન્સ રેટ 80 અથવા તેનાથી વધુ.

4. સામાન્ય એપ્લિકેશન્સ

હાઇ ટેમ્પરેચર પ્રોસેસિંગ માટેનો વેફર કેરિયર: મુખ્ય કાર્ય સિલિકૉન વેફર્સને ફર્નેસ અને રિએક્શન ચેમ્બર્સમાં હોલ્ડ અને ટ્રાન્સપોર્ટ કરવાનો છે.
ડોપિંગ અને ડિફ્યુઝન માટે મહત્વપૂર્ણ: ટ્રાન્ઝિસ્ટર અને સર્કિટ્સ બનાવવા માટે સિલિકોન વેફરમાં અશુદ્ધિઓ ઉમેરવાની મંજૂરી આપે છે.
થર્મલ ઓક્સિડેશન માટે આવશ્યક: વેફર પર ઇન્સ્યુલેટિંગ ઓક્સાઇડ સ્તરો ઉગાડવા માટે વપરાય છે.
પાતળા ફિલ્મ ડિપોઝિશન (CVD) માં ટેકો: કોટિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન વેફરને ધરાવવા માટે વપરાય છે.
સોલાર સેલ ઉત્પાદનમાં પાયો: ફોટોવોલ્ટાઇક સેલમાં p-n જંક્શનનું ઉત્પાદન કરવા માટે વપરાય છે.

સારાંશમાં, જ્યાં પણ સિલિકોન વેફર અથવા સમાન સબસ્ટ્રેટ્સની અતિશુદ્ધ, ઊંચા તાપમાનવાળી પ્રક્રિયાની જરૂર હોય ત્યાં ક્વોર્ટઝ બોટ એ એક અનિવાર્ય સાધન છે.

4.1 સેમિકન્ડક્ટર મેન્યુફેક્ચરિંગ (કોર એપ્લિકેશન)

થર્મલ ઓક્સિડેશન: વેફર સપાટી પર પાતળી, સમાન સિલિકોન ડાયોક્સાઇડ (SiO₂) ની સ્તર ઉગાડવા માટે ઊંચા તાપમાનવાળા ભઠ્ઠીમાં સિલિકોન વેફરને લઈ જવા માટે વપરાય છે.
ડિફ્યુઝન: ડોપિંગ પ્રક્રિયામાં વપરાય છે જ્યાં સિલિકોનનાં વિદ્યુત ગુણધર્મો બદલવા માટે ઊંચા તાપમાને વેફરને ડોપન્ટ વાયુઓનાં સંપર્કમાં લાવવામાં આવે છે.
કેમિકલ વેપર ડિપોઝિશન (CVD): વિવિધ સામગ્રીની પાતળી ફિલ્મો જમા કરતી પ્રક્રિયા દરમિયાન વેફર માટે હોલ્ડર તરીકે કામ કરે છે.
એનીલિંગ: વેફર્સને એનીલ કરવા માટે (ગરમ કરવું અને ધીમે ધીમે ઠંડુ પાડવું) ભઠ્ઠીઓમાં ઉપયોગ થાય છે, જેથી ક્રિસ્ટલને થયેલું નુકસાન સુધારી શકાય અથવા ડોપન્ટ્સને સક્રિય કરી શકાય.

4.2 ફોટોવોલ્ટેઇક (PV) ઇન્ડસ્ટ્રી

સોલર સેલનું મૂળભૂત હૃદય હોય તેવા p-n જંક્શનને બનાવવા માટે ડિફ્યુઝન પ્રક્રિયામાં ઉપયોગ થાય છે.
અન્ય કેટલાકમાં પણ વપરાય છે ઉંચા તાપમાન પ્રક્રિયા સિલિકોન સોલર વેફર્સ માટેના તબક્કાઓ.

4.3 LED અને MEMS નિર્માણ

લાઇટ-ઇમિટિંગ ડાયોડ (LEDs) અને માઇક્રો-ઇલેક્ટ્રો-મિકેનિકલ સિસ્ટમ્સ (MEMS) ના ઉત્પાદનમાં સામેલ ઊંચા તાપમાનવાળા પ્રક્રિયાકરણ તબક્કાઓ માટે આવશ્યક.
ક્વાર્ટ્ઝ ટેસ્ટ ટ્યુબ્સ ઉચ્ચ-પ્રદર્શન લેબોરેટરી અને ઔદ્યોગિક ઘટકો છે જે ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા ફ્યુઝ્ડ સિલિકામાંથી બનાવવામાં આવે છે, જેમાં સામાન્ય રીતે 99.9% અથવા તેથી વધુ સિલિકા હોય છે, અને ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા સંસ્કરણો 99.99% SiO₂ શુદ્ધતા સુધી પહોંચે છે . ઉત્પાદન પ્રક્રિયામાં પ્રાકૃતિક ક્વાર્ટ્ઝ ક્રિસ્ટલ્સને લગભગ 2000°Cના અત્યંત ઉચ્ચ તાપમાને પિગાળવામાં આવે છે, અને પછી સ્ટ્રેચિંગ અને આકાર આપવા જેવી ચોકસાઈવાળી પ્રક્રિયાઓ દ્વારા સમાન દીવાલની જાડાઈ અને રચનાત્મક સ્થિરતા સુનિશ્ચિત કરવામાં આવે છે. આ ટ્યુબ્સ સામાન્ય કાચ અને બોરોસિલિકેટ વિકલ્પોથી અલગ પડે છે, કારણ કે તેમની અદ્વિતીય ઉષ્મીય, રાસાયણિક, પ્રકાશીય અને યાંત્રિક ગુણધર્મોનું સંયોજન તેમને ઘણી ઊંચી માંગવાળી પરિસ્થિતિઓમાં અપરિહાર્ય બનાવે છે.

  
ટેક્નિકલ પરમીટર્સ

વિકાસ ઇતિહાસ

પેટન્ટ અને પ્રમાણપત્ર

પેકેજ

સેવાઓ                                                                         

પ્રશ્નો અને જવાબો