Abmessungen des Quarzbootes, klar
Die Größe, die wir häufig herstellen, ist 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll und so weiter. Außerdem können wir die Geräte nach den Anforderungen der Kunden entwerfen und anpassen.
Härte
Mohshärte von etwa 7, vergleichbar mit der von Glas
SiO₂-Reinheit
Reinheit des Siliziumdioxids beträgt typischerweise ≥99.99%für Halbleiter-Qualitäts-Tiegel
Maximale Betriebstemperatur
Die höchste kontinuierlich aushaltbare Temperatur des Quarzbootes beträgt bis zu 1100℃
Die kurzzeitige Betriebstemperatur beträgt 1200℃
Produktdetails
1. Einleitung zum Quarzboot
Ein Quarzboot, das in der Halbleiterindustrie speziell auch als Waferboot oder Prozessboot bezeichnet wird, ist ein hochpräzises Bauteil aus hochreinem synthetischem Quarzglas. Es ist konzipiert zum Halten und Transportieren von Siliziumwafern während verschiedener Hochtemperatur-Herstellungsprozesse.
Seine Hauptfunktion besteht darin, als Träger oder Halterung zu dienen, wodurch mehrere Wafer sicher in genau definierten, vertikalen Abständen gehalten werden, während sie in Öfen und Reaktionskammern bearbeitet werden.
2. Wichtige Eigenschaften
2.1 Außergewöhnliche Hochtemperaturbeständigkeit:
Fused Quartz kann Temperaturen über 1100 °C standhalten, ohne weich zu werden oder sich zu verformen, was für Prozesse wie Diffusion und Oxidation unerlässlich ist.
2.2 Ultra-hohe Reinheit:
Es besteht aus hochreinem synthetischem Quarz, der nahezu frei von metallischen Verunreinigungen ist. Dadurch wird eine Kontamination der empfindlichen Siliziumwafer verhindert, was entscheidend für hohe Produktausbeuten und Leistung ist.
2.3 Hervorragende thermische Stabilität:
Quarz weist einen sehr geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf, wodurch er schnellen Erhitzungs- und Abkühlzyklen (thermischer Schock) standhalten kann, ohne zu springen.
2.4 Ausgezeichnete chemische Inertheit:
Er ist äußerst beständig gegen Korrosion durch die meisten Säuren, Halogene und andere aggressive Prozessgase, die in der Halbleiterfertigung verwendet werden.
2.5 Hohe mechanische Festigkeit und Stabilität
Behält bei hohen Temperaturen unter schwerer Belastung die strukturelle Integrität und Formstabilität bei und verhindert so eine Verwölbung der Wafer.
Das Quarzboot ist aufgrund seiner hervorragenden Beständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner ultrahohen Reinheit, die eine Kontamination verhindert, unverzichtbar für die Halbleiterfertigung. Seine überlegene Beständigkeit gegen thermische Schocks und seine ausgezeichnete chemische Inertheit ermöglichen einen zuverlässigen Einsatz in rauen Prozessumgebungen. Darüber hinaus gewährleistet die präzise Konstruktion eine gleichmäßige und schonende Waferbearbeitung.
3.Vorteile des Quarzbootes
3.1 Widerstandsfähigkeit gegen hohe Temperaturen:
Die Temperatur des Quarzglases beträgt etwa 1730°C, was bei 1200°C lange verwendet - Ich weiß. Die Kurzzeit-Nutzungstemperatur kann 1450°C erreichen.
3.2 Gute thermische Stabilität:
Quarzglas der Wärmeausdehnungskoeffizient ist gering , kann drastischen Temperaturwechseln standhalten , wird das Quarzglas auf etwa 1200 ℃ erhitzt und in Raumtemperatur-Wasser gegeben, ohne zu zerbersten.
3.3 Korrosionsbeständigkeit:
Mit Ausnahme von Flußsäure , reagiert Quarzglas nahezu nicht chemisch mit anderen Säuren; seine Säurebeständigkeit ist 30-mal so hoch wie die von Keramik und 150-mal so hoch wie die von Edelstahl.
3.4 Hohe Isolationsfähigkeit:
Der Widerstandswert von Quarzglas entspricht dem von gewöhnlichem Glas verzehntausendfacht , wodurch es ein sehr gutes elektrisches Isoliermaterial darstellt und bei Raumtemperatur eine hervorragende Isolationsleistung aufweist.
3.5 Gute Lichtdurchlässigkeit:
Im gesamten Spektrum von ultraviolettem bis infrarotem Licht weisen eine gute Lichtdurchlässigkeit auf , sichtlichtdurchlässigkeitsrate von 93 % oder mehr im ultravioletten Spektralbereich, Durchlässigkeitsrate von 80 oder mehr.
4. Häufige Anwendungen
Waferträger für Hochtemperaturprozesse: Hauptfunktion ist das Halten und Transportieren von Siliziumwafern in Ofen- und Reaktionskammern.
Kritisch für Dotierung und Diffusion: Ermöglicht die Einbringung von Verunreinigungen in Siliziumwafer, um Transistoren und Schaltkreise herzustellen.
Unverzichtbar für die thermische Oxidation: Wird zum Aufwachsen isolierender Oxidschichten auf Wafern verwendet.
Einsatz bei der Dünnfilmabscheidung (CVD): Hält Wafer während Beschichtungsprozesse.
Grundlage in der Solarzellenproduktion: Wird zur Herstellung des p-n-Übergangs in photovoltaischen Zellen verwendet.
Im Wesentlichen ist das Quarzboot ein unverzichtbares Werkzeug überall dort, wo eine besonders saubere, hochtemperaturbeständige Bearbeitung von Siliziumwafern oder ähnlichen Substraten erforderlich ist.
4.1 Halbleiterfertigung (Kernanwendung)
Thermische Oxidation: Wird zum Transportieren von Siliziumwafern in Hochtemperaturofen verwendet, um eine dünne, gleichmäßige Schicht aus Siliciumdioxid (SiO₂) auf der Waferoberfläche aufzuwachsen.
Diffusion: Wird in Dotierprozessen eingesetzt, bei denen Wafer Dotierungsgasen bei hohen Temperaturen ausgesetzt werden, um die elektrischen Eigenschaften des Siliziums zu verändern.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Dient als Halter für Wafer während Prozesse, bei denen dünne Schichten verschiedener Materialien abgeschieden werden.
Glühen: Wird in Öfen zum Glühen von Wafern (Erhitzen und langsam Abkühlen) verwendet, um Kristallschäden zu reparieren oder Dotierstoffe zu aktivieren.
4.2 Photovoltaik-(PV-)Industrie
Wird im Diffusionsprozess verwendet, um den p-n-Übergang zu erzeugen, der das fundamentale Herzstück einer Solarzelle darstellt.
Wird auch in anderen hochtemperatur-Anwendungen schritten für Silizium-Solarzellenwafer eingesetzt.
4.3 LED- und MEMS-Herstellung
Unverzichtbar für die Hochtemperatur-Prozessschritte bei der Herstellung von Leuchtdioden (LEDs) und Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS).
Quarz-Reagenzgläser sind unverzichtbare Hochleistungs-Komponenten für Labor und Industrie, hergestellt aus hochreinem geschmolzenem Quarzglas mit typischerweise einem Siliciumdioxid-Gehalt von 99,9 % oder mehr; Premiumvarianten weisen einen noch höheren Reinheitsgrad auf. eine Reinheit von 99,99 % SiO₂ erreichen . Der Herstellungsprozess umfasst das Schmelzen natürlicher Quarzkristalle bei einer extrem hohen Temperatur von rund 2000 °C, gefolgt von präzisen Verarbeitungstechniken wie Strecken und Formen, um eine gleichmäßige Wandstärke und strukturelle Integrität sicherzustellen. Diese Rohre zeichnen sich durch ihre außergewöhnliche Kombination aus thermischen, chemischen, optischen und mechanischen Eigenschaften deutlich von gewöhnlichem Glas und Borosilikatglas ab und sind daher in zahlreichen anspruchsvollen Anwendungen unverzichtbar.
Technische Parameter
| Eigenschaftsinhalt | Einheit | Eigenschaftskennwert |
| Dichte | g/cm³ | 1.9-2.0 |
| Zugfestigkeit | Pa(N/m²) | 4,9×10⁷ |
| Druckfestigkeit | Pa | >1,0×10⁸ |
| Koeffizient der thermischen Ausdehnung | cm/cm·℃ | 5,4×10⁻⁷ |
| Wärmeleitfähigkeit | W/m·℃ | Niedrig |
| Spezifische Wärme | J/kg·℃ | 650 |
| Weichpunkt | ℃ | 1600 |
| Rücklaufpunkt | ℃ | 1100 |
| Aluminium | Eisen | Kalium | Lithium | Kupfer | Natrium | Bor | Kalzium | Magnesium |
| Metall | Fe | K | - Das ist es. | Cu | NA | B | Ca | Mg |
| 65 | 1.17 | 4.4 | 7.21 | 0.13 | 5 | 0.1 | 1.21 | 0.07 |
Entwicklungsgeschichte
Patente und Zertifizierungen
Paket
Dienstleistungen
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