Aurinkoenergiaan räätälöity läpinäkyvä sulatettu piioksidikvartsilasialautta

Tuotetiedot

1. Kvartsveneeseen tutustuminen

Kvartsvene, jota kutsutaan myös erityisesti puolijohdeteollisuudessa waferveneeksi tai prosessiveneeksi, on korkean tarkkuuden komponentti, joka valmistetaan erinomaisen puhdesta sulatetusta kvartsista. Se on suunniteltu pitämään ja kuljettamaan piilevyjä erilaisissa korkean lämpötilan valmistusprosesseissa.

Sen ensisijainen tehtävä on toimia kantajana tai kehyksenä, varmistaen että useita levyjä pidetään tiukasti tarkasti asetellussa pystyasennossa niiden käsittelemisen aikana uuneissa ja reaktiokammioissa.

2. Tärkeimmät ominaisuudet

2.1 Erinomainen korkean lämpötilan kestävyys:
Sulatettu kvartsi kestää yli 1100 °C:n lämpötiloja pehmenemättä tai muodonmuuttumatta, mikä on välttämätöntä prosesseissa, kuten diffuusio ja hapetus.

2.2 Erittäin korkea puhdistusaste:
Se on valmistettu korkean puhtauden synteettisestä kvartsista, joka on lähes täysin vapaa metalli-epäpuhtauksista. Tämä estää herkkien piipiirilevyjen saastumisen, mikä on kriittistä korkean tuoteantotason ja suorituskyvyn saavuttamiseksi.

2.3 Erinomainen lämpötilan vakaus:
Kvartsilla on erittäin alhainen lämpölaajenemiskerroin, mikä tarkoittaa, että se kestää nopeita lämmitys- ja jäähdytysjaksoja (lämpöshokkeja) halkeamatta.

2.4 Erinomainen kemiallinen inerttiys:
Se kestää korroosiota useimmilta hapoista, hapeista ja muilta voimakkailta prosessikaasuista, joita käytetään puolijohdetuotannossa.

2.5 Korkea mekaaninen lujuus ja vakaus
Säilyttää rakenteellisen eheyden ja mittojen vakautta suurillakin kuormilla korkeissa lämpötiloissa, estäen piipiirilevyjen vääntymisen.
Kvartsivene on välttämätön puolijohdeteollisuudessa sen erinomaisen korkean lämpötilankestävyyden ja erittäin korkean puhdistason vuoksi, joka estää saastumisen. Sen kestävyys termistä järkytystä vastaan ja erinomainen kemiallinen inerttisyys mahdollistavat luotettavan toiminnan vaativissa prosessiympäristöissä. Lisäksi tarkkaa suunnittelua hyödyntäen varmistetaan, että piilevyt käsitellään yhtenäisesti ja vahingoittumattomasti.

3. Kvartsveneen edut

3.1 Korkean lämpötilan kestävyys:
Kvarttilasin pehmenemispiste on noin 1730 °C, joten sitä voidaan käyttää pitkäaikaisesti 1200 °C:ssa . Lyhytaikainen käyttölämpötila voi olla jopa 1450 °C. .

3.2 Hyvä lämpötilan vakaus:

Kuivakelasi lämpölaajenemiskerroin on pieni , voi kestää äärimmäisiä lämpötilan muutoksia , kvartsilasin kuumennus noin 1200 °C:seen ja sen upottaminen huoneenlämpöiseen veteen ei aiheuta räjähtämistä.

3.3 Korroosion kestävyys:

Paitsi vetyfluorihappo , kvartsilasi ei melkein lainkaan reagoi kemiallisesti muiden happojen kanssa, ja sen happokestävyys on 30-kertainen verrattuna keramiikkaan ja 150-kertainen verrattuna ruostumattomaan teräkseen.

3.4 Vahva eristys:

Kvartsilasin resistanssiarvo on vastaava kuin tavallisen lasin 10 000-kertainen , mikä tekee siitä erinomaisen sähköeristeaineen ja antaa sille hyvän eristysominaisuuden huoneenlämpötilassa.

3.5 Hyvä läpinäkyvyys valolle:

Koko ultravioletti- ja infrapunaspektrin alueella hyvä valonläpäisy , näkyvän valon läpäisyaste 93 % tai enemmän ultraviolettialueella, läpäisyaste 80 tai enemmän.

4. Yleisimmät käyttötavat

Korkean lämpötilan prosesseihin tarkoitettu piirisilikaattikantaja: Päätehtävä on pitää ja kuljettaa piirisilikaatteja uuneissa ja reaktiokammioissa.
Tärkeä rooli seosterkityksessä ja diffuusiossa: Mahdollistaa epäpuhtauksien lisäämisen piwaferien sisään transistorien ja piireiden muodostamiseksi.
Välttämätön termisessä hapettumisessa: Käytetään eristävien hapettakerrosten kasvattamiseen piastaloilla.
Tukea ohutkalvon pinnoitukseen (CVD): Pitää astaloita pinnoitusprosessien aikana.
Perusta aurinkokennon valmistuksessa: Käytetään valmistamaan p-n-liitosta fotovoltaarisissa kennoissa.

Lyhyesti sanottuna, missä tahansa vaaditaan erittäin puhtaita ja korkean lämpötilan prosesseja piastaloille tai vastaaville pohjille, kvartsivene on välttämätön työkalu.

4.1 Puolijohdeteollisuus (peruskäyttö)

Termihappi: Käytetään kantamaan piastaloja korkean lämpötilan uuneissa ohuen, tasaisen piidioksidikerroksen (SiO₂) kasvattamiseksi astalan pinnalle.
Diffuusio: Käytetään annosteluprosesseissa, joissa astalat altistetaan annostelukaasuille korkeassa lämpötilassa muuttaakseen piin sähköisiä ominaisuuksia.
Höyryfaasipinnoitus (CVD): Toimii astaloiden pitimenä prosesseissa, joissa muodostetaan ohuita kalvoja eri materiaaleista.
Anneointi: Käytetään uuneissa waferien hehkutukseen (lämmitys ja hitaan jäähtyminen) korjaamaan kiteistä vauriota tai aktivoimaan seostusaineita.

4.2 Aurinkokennoteollisuus

Käytetään diffuusioprosessissa p-n-liitoksen muodostamiseen, joka on aurinkokennon perustavanlaatuinen ydin.
Käytetään myös muissa korkean lämpötilan käsittelyyn piiaurinkokennojen valmistusvaiheissa.

4,3 LED- ja MEMS-valmistus

Välttämätön valoälylaitteiden (LED) ja mikroelektromekaanisten järjestelmien (MEMS) valmistuksessa käytettävissä korkean lämpötilan käsittelyvaiheissa.
Kvartskoeputket ovat välttämättömiä korkean suorituskyvyn laboratorio- ja teollisuuskomponentteja, jotka on valmistettu korkean puhtauden suljetusta kvartsista, jossa piioksidipitoisuus on yleensä 99,9 % tai korkeampi, ja joissa on premium-versioita piioksidipitoisuus saavuttaa 99,99 %:n . Valmistusprosessi sisältää luonnonkvartsikiteiden sulattamisen noin 2000 °C:n lämpötilassa, jonka jälkeen putkille tehdään tarkkuusmuokkausta esimerkiksi venyttämällä ja muotoilemalla varmistaakseen tasaisen seinämänpaksuuden ja rakenteellisen kestävyyden. Nämä putket erottautuvat tavallisista lasi- ja borosilikaattilasisovelluksista erinomaisella lämpö-, kemiallisella, optisella ja mekaanisella ominaisuudellaan, mikä tekee niistä korvaamattomia monissa vaativissa sovelluksissa.

  
Tekniset parametrit

Kehityshistoria

Patentit ja sertifikaatit

Pakkaus

Palvelut                                                                         

UKK