lantai 9, Gedung A Dongshengmingdu Plaza, No.21 Jalan Chaoyang Timur, Lianyungang Jiangsu, Tiongkok +86-13951255589 [email protected]
Ukuran perahu kuarsa bening
Ukuran yang sering kami produksi adalah 4 inci, 6 inci, 8 inci dan sebagainya. Dan kami dapat merancang serta menyesuaikannya sesuai kebutuhan klien.
Kekerasan
Kekerasan Mohs sekitar 7, mirip dengan kekerasan kaca
Kemurnian SiO₂
Kemurnian silikon dioksida, umumnya ≥99.99%untuk wadah krusibel kelas semikonduktor
Suhu operasi maksimum
Suhu tertinggi yang dapat ditahan secara terus-menerus oleh perahu kuarsa, hingga 1100℃
Suhu kerja jangka pendek adalah 1200℃
Detail Produk
1. Pengenalan terhadap Perahu Kuarsa
Perahu Kuarsa, yang juga dikenal secara khusus dalam industri semikonduktor sebagai Perahu Wafer atau Perahu Proses, adalah komponen presisi tinggi yang terbuat dari kuarsa fusi berkemurnian tinggi. Perahu ini dirancang untuk menahan dan mengangkut wafer silikon selama berbagai proses manufaktur bersuhu tinggi.
Fungsi utamanya adalah sebagai pembawa atau rak, memastikan bahwa beberapa wafer dipertahankan dengan aman dalam posisi vertikal yang berjarak tepat saat diproses di dalam tungku dan ruang reaksi.
2. Karakteristik Utama
2.1 Ketahanan Luar Biasa terhadap Suhu Tinggi:
Kuarsa fusi dapat bertahan pada suhu melebihi 1100°C tanpa melunak atau berubah bentuk, yang sangat penting untuk proses seperti difusi dan oksidasi.
2.2 Kemurnian Sangat Tinggi:
Terbuat dari kuarsa sintetis kemurnian tinggi, yang hampir bebas dari kotoran logam. Hal ini mencegah kontaminasi pada wafer silikon sensitif, yang sangat penting untuk mencapai hasil produksi dan kinerja yang tinggi.
2.3 Stabilitas Termal Unggul:
Kuarsa memiliki koefisien ekspansi termal yang sangat rendah, artinya dapat menahan siklus pemanasan dan pendinginan cepat (kejut termal) tanpa retak.
2.4 Ketahanan Kimia Luar Biasa:
Sangat tahan terhadap korosi dari sebagian besar asam, halogen, dan gas proses agresif lainnya yang digunakan dalam fabrikasi semikonduktor.
2.5 Kekuatan Mekanis & Stabilitas Tinggi
Mempertahankan integritas struktural dan stabilitas dimensi di bawah beban berat pada suhu tinggi, mencegah pelengkungan wafer.
Perahu kuarsa sangat penting dalam manufaktur semikonduktor karena ketahanannya terhadap suhu tinggi yang luar biasa dan kemurnian ultra tinggi, yang mencegah kontaminasi. Ketahanan yang sangat baik terhadap kejut termal serta inertitas kimia yang unggul memungkinkannya berfungsi secara andal dalam lingkungan proses yang keras. Selain itu, rekayasa presisinya memastikan wafer diproses secara seragam dan tanpa kerusakan.
3. Keunggulan perahu kuarsa
3.1 Ketahanan terhadap Suhu Tinggi:
Suhu titik pelunakan kaca kuarsa sekitar 1730℃, sehingga dapat digunakan pada suhu 1200℃ dalam waktu lama . Suhu penggunaan jangka pendek dapat mencapai 1450℃.
3.2 Stabilitas Termal yang Baik:
Kaca kuarsa koefisien muai termalnya kecil , bisa menahan perubahan suhu ekstrem , kaca kuarsa yang dipanaskan hingga sekitar 1200 ℃, kemudian dimasukkan ke dalam air bersuhu ruangan, tidak akan meledak.
3.3 Ketahanan terhadap Korosi:
Kecuali asam hidrofluorat , kaca kuarsa hampir tidak bereaksi secara kimia dengan asam lainnya, dan ketahanannya terhadap asam 30 kali lebih tinggi daripada keramik serta 150 kali lebih tinggi daripada baja tahan karat.
3.4 Insulasi yang Kuat:
Nilai resistansi kaca kuarsa setara dengan 10.000 kali lipat kaca biasa , sehingga merupakan bahan insulasi listrik yang sangat baik dan memiliki performa insulasi yang unggul pada suhu ruangan.
3.5 Transmisi Cahaya yang Baik:
Dalam seluruh spektrum panjang gelombang ultraviolet hingga inframerah memiliki transmisi cahaya yang baik , tingkat transmisi cahaya tampak sebesar 93% atau lebih di wilayah spektrum ultraviolet, tingkat transmisi 80 atau lebih.
4. Aplikasi Umum
Wadah Wafer untuk Proses Suhu Tinggi: Fungsi utamanya adalah menahan dan mengangkut wafer silikon di dalam tungku dan ruang reaksi.
Penting untuk Doping dan Difusi: Memungkinkan pengenalan kotoran ke dalam wafer silikon untuk membuat transistor dan sirkuit.
Penting untuk Oksidasi Termal: Digunakan untuk menumbuhkan lapisan oksida isolasi pada wafer.
Penopang dalam Pengendapan Lapisan Tipis (CVD): Menahan wafer selama proses pelapisan.
Dasar dalam Produksi Sel Surya: Digunakan untuk memproduksi persimpangan p-n pada sel fotovoltaik.
Intinya, di mana pun diperlukan proses wafer silikon atau substrat sejenis dengan tingkat kebersihan tinggi dan suhu tinggi, perahu kuarsa merupakan alat yang sangat penting.
4.1 Manufaktur Semikonduktor (Aplikasi Inti)
Oksidasi Termal: Digunakan untuk membawa wafer silikon ke dalam tungku bersuhu tinggi guna menumbuhkan lapisan tipis dioksida silikon (SiO₂) yang seragam pada permukaan wafer.
Difusi: Digunakan dalam proses doping di mana wafer terpapar gas dopan pada suhu tinggi untuk mengubah sifat listrik silikon.
Deposisi Uap Kimia (CVD): Berfungsi sebagai dudukan wafer selama proses pengendapan lapisan tipis berbagai material.
Annealing: Digunakan dalam tungku untuk melakukan annealing pada wafer (pemanasan dan pendinginan perlahan) guna memperbaiki kerusakan kristal atau mengaktifkan dopan.
4.2 Industri Fotovoltaik (PV)
Digunakan dalam proses difusi untuk menciptakan junction p-n, yang merupakan inti dasar dari sel surya.
Juga digunakan di tahap lainnya pemrosesan Suhu Tinggi untuk wafer surya berbasis silikon.
4.3 Fabrikasi LED dan MEMS
Penting untuk langkah-langkah pemrosesan suhu tinggi yang terlibat dalam pembuatan Light-Emitting Diodes (LED) dan Micro-Electro-Mechanical Systems (MEMS).
Tabung uji kuarsa merupakan komponen laboratorium dan industri berkinerja tinggi yang tak tergantikan, dibuat dari silika fusi berkualitas tinggi, biasanya mengandung silika 99,9% atau lebih, dengan varian premium kemurnian SiO₂ hingga 99,99% . Proses pembuatan melibatkan peleburan kristal kuarsa alami pada suhu ultra-tinggi sekitar 2000°C, diikuti dengan teknik pengolahan presisi seperti peregangan dan pembentukan untuk memastikan ketebalan dinding yang seragam serta integritas struktural. Tabung-tabung ini menonjol dibandingkan kaca biasa dan alternatif borosilikat karena kombinasi luar biasa dari sifat termal, kimia, optik, dan mekanisnya, sehingga menjadi tak tergantikan dalam berbagai skenario berkebutuhan tinggi.
Parameter Teknis
| Kandungan Properti | UNIT | Indeks Properti |
| Kepadatan | g/cm³ | 1.9-2.0 |
| Kekuatan Tarik | Pa(N/m²) | 4,9×10⁷ |
| Kekuatan Kompresi | Pa | >1.0×10⁸ |
| Koefisien Perluasan Termal | cm/cm·℃ | 5,4×10⁻⁷ |
| Konduktivitas Termal | W/m·℃ | Rendah |
| Kalor Jenis | J/kg·℃ | 650 |
| Titik Lembut | ℃ | 1600 |
| Titik Penyusutan | ℃ | 1100 |
| Aluminium | Besi | Kalium | Litium | Tembaga | Sodium | Bor | Kalsium | Magnesium |
| Logam | Fe | K | Li | Cu | NA | B | Ca | Mg |
| 65 | 1.17 | 4.4 | 7.21 | 0.13 | 5 | 0.1 | 1.21 | 0.07 |
Riwayat Pengembangan

Paten dan Sertifikasi

Paket

Layanan
Tanya Jawab