सौरऊर्जा अनुकूलित पारदर्शक फ्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्स ग्लास बोट

उत्पाद माहिती

१. क्वार्ट्ज बोटची परिचय

क्वार्ट्ज बोट, जी अर्धसंवाहक उद्योगात विशिष्टपणे वेफर बोट किंवा प्रक्रिया बोट म्हणून ओळखली जाते, ही उच्च-शुद्धतेच्या वितळलेल्या क्वार्ट्जपासून बनवलेली उच्च-अचूकतेची घटक आहे. ती डिझाइन केली आहे सिलिकॉन वेफर्स धरण्यासाठी आणि वाहतूक करण्यासाठी विविध उच्च-तापमानाच्या उत्पादन प्रक्रियांदरम्यान.

याचे प्राथमिक कार्य एक कॅरिअर किंवा रॅक म्हणून काम करणे आहे, जेणेकरून भट्ट्या आणि प्रतिक्रिया कक्षांमध्ये प्रक्रिया करताना अनेक वेफर्स निश्चित अंतरावर अचूक अशा उभ्या स्थितीत घट्टपणे ठेवले जातील.

२. मुख्य वैशिष्ट्ये

२.१ अत्यंत उच्च-तापमान प्रतिरोधकता:
वितळलेले क्वार्टझ 1100°C पेक्षा जास्त तापमान सहन करू शकते ज्यामुळे विसर्जन आणि ऑक्सिडेशन सारख्या प्रक्रियांसाठी हे आवश्यक आहे.

२.२ अत्यंत उच्च शुद्धता:
हे उच्च-शुद्धतेच्या सिंथेटिक क्वार्टझपासून बनलेले आहे, ज्यामध्ये धातूयुक्त दोष जवळजवळ असत नाहीत. यामुळे संवेदनशील सिलिकॉन वेफर्सचे दूषित होणे टाळले जाते, जे उच्च उत्पादन उपलब्धता आणि कार्यक्षमता साध्य करण्यासाठी महत्त्वाचे आहे.

२.३ उत्कृष्ट उष्णता स्थिरता:
क्वार्टझमध्ये उष्णतेच्या प्रसरणाचा गुणांक खूप कमी असतो, म्हणजेच ते फाटणे न झाल्यास जलद गरम करणे आणि थंड करण्याच्या चक्रांना (थर्मल शॉक) सहन करू शकते.

२.४ उत्कृष्ट रासायनिक निष्क्रियता:
अर्धसंवाहक उत्पादनामध्ये वापरल्या जाणाऱ्या बहुतेक अम्ल, हॅलोजन आणि इतर आक्रमक प्रक्रिया वायूंपासून हे जंतुनाशक असते.

२.५ उच्च यांत्रिक बळ आणि स्थिरता
उच्च तापमानावर मोठ्या भाराखाली संरचनात्मक अखंडता आणि मिती स्थिरता टिकवून ठेवते, ज्यामुळे वेफर वाकत नाही.
क्वार्टझ बोट अत्यधिक उच्च तापमान सहनशीलता आणि अत्यंत उच्च शुद्धतेमुळे अर्धसंवाहक उत्पादनासाठी आवश्यक आहे, ज्यामुळे दूषण टाळले जाते. त्याची उत्कृष्ट उष्णता-आघात प्रतिरोधकता आणि उत्कृष्ट रासायनिक निष्क्रियता कठोर प्रक्रिया वातावरणात विश्वासार्ह पद्धतीने कार्य करण्यास शक्यता देते. तसेच, त्याच्या अत्यंत नेमक्या अभियांत्रिकीमुळे वेफर्स एकसमान आणि नुकसान न करता प्रक्रिया केले जातात.

3.क्वार्ट्ज बोटचे फायदे

३.१ उच्च तापमानाचा प्रतिकार:
क्वार्ट्ज काचेचे मऊ होण्याचे तापमान सुमारे १७३०° सेल्सियस असते, जे १२००°C वर दीर्घकाळ वापरले जाते .. अल्प कालावधीसाठी वापरले जाणारे तापमान 1450°C पर्यंत पोहोचू शकते.

३.२ चांगली थर्मल स्थिरता:

क्वार्ट्स काच तापमानाच्या प्रसाराचा गुणांक लहान आहे , शकतो तीव्र तापमानातील बदलांना सामोरे जाऊ शकतो , क्वार्ट्झ काच जवळजवळ १२०० ℃ पर्यंत गरम केली जाते, आणि मग तिला कोठडीतील तापमानाच्या पाण्यात ठेवले जाते तर ती फुटत नाही.

३.४ जंतुरोधक क्षमता:

हायड्रोफ्लुओरिक अॅसिड व्यतिरिक्त , क्वार्ट्झ काच इतर सर्व अॅसिड्सशी रासायनिकदृष्ट्या लगभग प्रतिक्रिया करत नाही, आणि तिची अॅसिड प्रतिरोधक क्षमता सिरॅमिक्सच्या तुलनेत ३० पट आणि स्टेनलेस स्टीलच्या तुलनेत १५० पट आहे.

३.४ उत्कृष्ट विद्युतरोधकता:

क्वार्ट्झ काचेची प्रतिरोधकता सामान्य काचेच्या तुलनेत १०,००० पट आहे , जो एक अत्यंत चांगले विद्युत निर्यातन साहित्य आहे आणि कोठार तापमानावर चांगले निर्यातन कामगिरी प्रदर्शित करते.

३.५ चांगली प्रकाश पारगाम्यता:

पूर्ण पराबैंगनी ते इन्फ्रारेड तरंगलांबीच्या स्पेक्ट्रममध्ये चांगली प्रकाश पारगाम्यता असते , दृश्य प्रकाश पारगाम्यता दर ९३% किंवा त्यापेक्षा जास्त, पराबैंगनी स्पेक्ट्रम क्षेत्रात पारगाम्यता दर ८० किंवा त्यापेक्षा जास्त.

४. सामान्य वापर

उच्च तापमान प्रक्रियांसाठी वेफर वाहक: मुख्य कार्य म्हणजे सिलिकॉन वेफर्स ओवन आणि प्रतिक्रिया कक्षांमध्ये धरणे आणि वाहून नेणे.
डोपिंग आणि डिफ्यूजनसाठी महत्त्वाचे: सिलिकॉन वेफर्समध्ये अशुद्धी घालण्यास शक्यता देते, ज्यामुळे ट्रान्झिस्टर आणि सर्किट्स तयार होतात.
थर्मल ऑक्सिडेशनसाठी आवश्यक: वेफर्सवर इन्सुलेटिंग ऑक्साइड थर वाढवण्यासाठी वापरले जाते.
पातळ फिल्म डिपॉझिशन (CVD) मध्ये समर्थन: लेपन प्रक्रियेदरम्यान वेफर्स धरण्यासाठी वापरले जाते.
सौर सेल उत्पादनाचा पाया: फोटोव्होल्टाइक सेल्समध्ये पी-एन जंक्शन तयार करण्यासाठी वापरले जाते.

सारांशात, जेथे सिलिकॉन वेफर्स किंवा समान सब्सट्रेट्सच्या अत्यंत स्वच्छ, उच्च तापमान प्रक्रियेची आवश्यकता असते, तेथे क्वार्ट्स बोट एक अपरिहार्य साधन आहे.

४.१ सेमीकंडक्टर उत्पादन (मुख्य वापर)

थर्मल ऑक्सिडेशन: वेफर पृष्ठभागावर सिलिकॉन डायऑक्साइड (SiO₂) ची पातळ, एकसमान थर वाढवण्यासाठी उच्च तापमान भट्ट्यांमध्ये सिलिकॉन वेफर्स वाहून नेण्यासाठी वापरले जाते.
प्रसरण: डोपिंग प्रक्रियेमध्ये वापरले जाते जेथे वेफर्स उच्च तापमानाला डोपंट वायूंना उघडे ठेवले जातात, ज्यामुळे सिलिकॉनच्या विद्युत गुणधर्मांमध्ये बदल होतो.
रासायनिक वाफ अवक्षेप (CVD): विविध सामग्रीच्या पातळ थरांच्या अवक्षेपणाच्या प्रक्रियेदरम्यान वेफर्ससाठी धारक म्हणून काम करते.
एनिलिंग: वेफर्सचे (उष्णता आणि हळूहळू थंड) क्रिस्टलीय नुकसान दुरुस्त करण्यासाठी किंवा डोपंट सक्रिय करण्यासाठी भट्ट्यांमध्ये वापरले जाते.

४.२ फोटोव्होल्टाइक (PV) उद्योग

P-n संधी तयार करण्यासाठी प्रसरण प्रक्रियेमध्ये वापरले जाते, जो सौर पेशीचे मूलभूत केंद्रबिंदू आहे.
इतरांमध्येही वापरले जाते उच्च-तापमान प्रक्रिया सिलिकॉन सोलर वेफर्ससाठीच्या चरणांसाठी.

४.३ एलईडी आणि मेम्स निर्मिती

लाइट-एमिटिंग डायोड (LED) आणि माइक्रो-इलेक्ट्रो-मेकॅनिकल सिस्टम (MEMS) तयार करण्यातील उच्च तापमान प्रक्रिया चरणांसाठी आवश्यक आहे.
क्वार्ट्ज चाचणी ट्यूब्स हे उच्च-शुद्धतेच्या फ्यूज्ड सिलिका पासून तयार केलेले अत्यंत कार्यक्षम प्रयोगशाळा आणि औद्योगिक घटक आहेत, ज्यामध्ये सामान्यतः ९९.९% किंवा त्याहून अधिक सिलिका सामग्री असते, उत्कृष्ट प्रकारांमध्ये 99.99% SiO₂ शुद्धता पर्यंत पोहोचते . याची निर्मिती प्रक्रिया नैसर्गिक क्वार्ट्ज क्रिस्टल्सचे अत्यंत उच्च तापमानावर सुमारे २०००°सी वर वितळविण्यातून सुरू होते, नंतर एकसमान भिंतीची जाडी आणि रचनात्मक दृढता सुनिश्चित करण्यासाठी ताणणे आणि आकार देणे यासारख्या अचूक प्रक्रियांद्वारे पूर्ण केली जाते. या ट्यूब्स इतर सामान्य काच आणि बोरोसिलिकेट काचेच्या पर्यायांपासून त्यांच्या अतुलनीय उष्णता, रासायनिक, प्रकाशिक आणि यांत्रिक गुणधर्मांच्या संयोजनामुळे वेगळे आहेत, ज्यामुळे त्या अनेक उच्च-मागणीच्या परिस्थितींमध्ये अपरिहार्य बनतात.

  
तंत्रज्ञान पॅरामीटर

विकास इतिहास

पेटंट आणि प्रमाणपत्र

पॅकेज

सेवा                                                                         

सामान्य प्रश्न