高反射率レーザー溶接用セラミックリフレクター 99% アルミナセラミックキャビティ

Al2O3含有量が99%に達する高純度アルミナセラミックは、長寿命のセラミックレーザーリフレクターに広く使用されています。

セラミックリフレクターブランクは高純度Al2O3から作られ、適切な温度で焼成することで、適度な気孔率と十分なブランク強度を維持しています。

酸化アルミニウムセラミックリフレクターの表面には、高反射率のセラミック釉薬を全面的にコーティングするプロセスが用いられています。金メッキされたリフレクターと比較すると、その最大の利点は極めて長い使用寿命と拡散反射特性です。

酸化アルミニウムセラミックリフレクターは、主にセラミック材料で作られた光学デバイスであり、光を変調、反射、または散乱するために使用されます。

これらの酸化アルミニウムセラミックリフレクターは、優れた特性を持つため、多くの光学応用分野で重要な役割を果たしています。高温安定性に優れており、レーザー切断や高温実験など、高温環境下での使用が可能です。

さらに、セラミックリフレクターは高硬度、耐摩耗性、優れた光学性能を備えており、高温、高圧、腐食環境など厳しい使用条件でも利用可能であるため、レーザー技術、太陽光発電装置、光通信、科学計測器、光学センサーなどの分野で広く使用され、光学システムの高性能と耐久性を確保する上で欠かせない部品となっています。

アルミナセラミックリフレクターの表面には高反射率のセラミック釉薬がコーティングされているため、金メッキリフレクターよりも長寿命であり、拡散反射の特性を持っています。

主要な特徴:

- 表面は密封処理され、日光に強い釉薬でコーティングされることで高い反射率を実現可能です

- 600-1000 nmの波長範囲において最大97%の反射効率

- 400-1200 nmの波長範囲において95%以上の反射効率（曲線を参照）

- 孔隙率を制御可能

- 良好な熱伝導性

高抵抗率

アルミナセラミックキャビティの物理的性質：

- 色: 白

焼結体密度：3.1 g/cm 3 について

公称見見孔率：22%

曲げ強度（ASTM C1161、三点曲げ法）：170 MPa

熱膨張係数：

200-500 ℃、7.9 ×10⁻⁶ /℃

200-1000 ℃、9.0 ×10⁻⁶ /℃

製作過程:

ボディの前処理

釉薬スラリーの調製：原料の量り取り – 磨き – ふるい分け

施釉：噴霧施釉

焼成： glazed 製品の高温焼成

検査：外観検査、寸法測定、反射率測定

梱包

アルミナセラミック空洞の主な特徴：

表面は耐高温性のある釉薬で密封・被覆でき、高反射率を実現

波長600-1000nm範囲で反射率97％まで到達

波長400-1200nm範囲で95％以上の反射率（曲線参照）

制御可能な気孔率

優れた熱伝導性

高抵抗率

高集光効率 — 高純度・高密度の複合セラミック材料で作られた拡散反射体は、有効なポンプ光波長範囲内で98%を超える平均反射率を有しています。

均一な励起 — 拡散反射型集光キャビティを使用することで、ミラー効果を排除し、レーザー結晶への照射均一性を大幅に向上させ、良好なビーム品質と均一なエネルギー分布を持つレーザー光を実現します。

高い損傷閾値を持ち、高出力入力にも耐えられ、堅牢で耐久性があり、長寿命かつメンテナンスフリーです。

優れた完全密閉構造設計で、キャビティはすべて耐食性金属材料で構成されており、安定した信頼性の高い化学的および機械的特性を備えています。

セラミックリフレクター使用上の注意：

輸送、保管、組立の際には、地面への落下や、ハウジングにサイズの合わない部品を無理に挿入するなど、外部への強い損傷を避けてください。

部分的に釉薬を施したセラミックリフレクターは、冷却液を大量に吸収して出力を低下させることを防ぐため、ハウジングと密閉する必要があります。

組立およびメンテナンス時に、セラミック反射面を傷つけないように注意し、反射率の低下を防いでください。

短波長（例：755nm）の高温システムでは、冷却システムの配管および装置材料の選定に注意を払い、遊離金属酸化物によるセラミック表面の汚染を回避する必要があります。

金属製リフレクターよりも、アルミナセラミックキャビティはより高い反射率を持ち、それによりレーザー出力を高めます。

表面はUV耐性のある釉薬で密封・コーティングされ、高い反射率を実現できます。

化学腐食に耐性があります

制御された気孔率

高強度

優れた熱伝導性

高抵抗率

お客様の図面に基づき、セラミックリフレクターの加工や研削が可能です。量産品から試作まで、さまざまな生産規模に対応しています。ガラス製保護表面により不純物の付着を防ぎ、主にリフレクターのシール性を確保します。

典型的な用途:

フラッシュランプや連続波レーザーのポンプ空洞に使用され、媒体にはNd:YAGレーザーやアレキサンドライトレーザーが含まれます —低出力から高出力まで、単一または複数ランプ設計があり、溶接、切断、マーキング、医療用レーザーに使用されます

ダイオード励起レーザー用の層状およびセグメント型ポンプ空洞に使用されます

応用分野:

1.強力なパルス光システム

2.固体レーザー

3.エキシマレーザー用セラミックス

4.CO2レーザー用セラミックス

5.イオンレーザー用セラミックス

データは: