Flanșă din sticlă de cuarț mat pentru sigilare sau conectare componente

Detalii produs

1.Procesul de producție al flanșelor din cuarț mat

Producerea de flanșe din cuarț mat s-a dezvoltat în mod semnificativ. Deși metodele tradiționale se bazau pe prelucrarea lentă la cald și la rece, producția modernă utilizează în principal un proces de turnare din cuarț pentru a obține o precizie ridicată și eficiență. Acest proces poate fi împărțit în următorii pași cheie:

1.1 Modelare și formare : Procesul începe cu nisip de cuarț de înaltă puritate , care este introdus într-o cuptură special concepută pentru formare. Această cuptură este dotată cu un cilindru interior de izolare și mai multe cilindri exteriori de izolare, care creează zone separate de izolare termică. Nisipul de cuarț este încălzit până la topire, iar carcasa cupturii este rotită pentru a asigura o aderare uniformă a cuarțului topit la peretele interior al cilindrului. Odată ce forma dorită este obținută, încălzirea este oprită și materialul este lăsat să se răcească și să se solidifice în forma brută a flanșei. Acest proces de modelare într-un singur pas este un avantaj cheie, deoarece reduce costurile de producție, scade consumul de energie și îmbunătățește eficiența în comparație cu metodele mai vechi.

1.2 Prelucrare de precizie : După turnarea inițială, flanșa necesită adesea o prelucrare suplimentară de precizie. Pentru aplicații specifice, cum ar fi suprafețele de etanșare, flanșa poate fi supusă Frezare CNC unei prelucrări suplimentare planeitate de până la 0,02 mm . Această etapă este esențială pentru asigurarea unei potriviri perfecte și a unei performanțe optime.

1.3 Tratament mat : Ultima etapă, cea definitorie, este crearea suprafeței „matate”, care se realizează, de obicei, prin rectificare de precizie sau sablare . Suprafața de etanșare este rectificată cu o roată abrazivă de o anumită granulație pentru a crea o microtextură uniformă. Aceasta nu este o simplă asperizare, ci un proces controlat destinat obținerii unei anumite rugozități de suprafață ( Valoarea Ra este de obicei controlată între 0,8–1,6 μm ). Această finisare precisă conferă flanșei aspectul mat caracteristic și funcționalitatea esențială de etanșare.

2.Avantajele flanșelor din cuarț matat

Flanșele din cuarț matat oferă o gamă largă de proprietăți superioare, rezultate atât din materialul de bază, cât și din finisarea specifică mată:

2.1 Proprietăți Superioare ale Materialului : Cuarț fuzionat de înaltă puritate (SiO₂ > 99,9 %) asigură o rezistență termică excepțională, permițând funcționarea continuă la temperaturi până la 1100°C și expunerea pe termen scurt până la 1450°C , cu un punct de înmuiere de aproximativ 1730°C . De asemenea, prezintă o excelentă rezistență chimică, suportând majoritatea acizilor (cu excepția acidului fluorhidric) și este extrem de rezistentă la șocul termic datorită coeficientului foarte scăzut de dilatare termică ( 5,5 × 10⁻⁷ /°C . În plus, este un izolator electric excepțional.

2.2 Performanță îmbunătățită a sigiliului — finisajul „mat” reprezintă un avantaj esențial. Textura microscopica creată prin rectificare mărește coeficientul de frecare și suprafața de contact a suprafeței de etanșare. Atunci când este utilizat împreună cu o garnitură (de exemplu, din PTFE sau perfluoroeter), asigură o etanșare mai stabilă, prevenind alunecarea garniturii datorită fluctuațiilor de presiune sau dilatării/contractării termice. Aceasta efectul de „blocare prin microgauri” poate îmbunătăți rezistența la presiune până la 30%comparativ cu o suprafață lustruită.

2.3 Înaltă puritate și curățenie — ca material nemetalic, cuarțul elimină riscul de contaminare cu ioni metalici, ceea ce este esențial pentru procesele sensibile din domeniul industria semiconductoarelor . În plus, înalta puritate a materialului asigură faptul că acesta nu introduce contaminanți în fluxul de proces.

3.Scenarii Cheie de Aplicare

Combinarea unică de proprietăți face ca flanșele din cuarț mat să fie indispensabile în industriile tehnologice avansate:

3.1 Fabricarea semiconductoarelor : Sunt utilizate pe scară largă în mașinile de gravare și depozitare cu strat atomic (ALD) echipamente pentru conexiunile căilor de gaz și interfețele camerelor. Înaltă puritate, rezistența chimică și etanșeitatea superioară previn contaminarea cu metale și asigură integritatea sistemelor sub vid.

3.2 Producția fotovoltaică și a ecranelor : In Echipamente PECVD , aceste flanșe servesc ca interfețe pentru conductele de gaze sursă, rezistând gazelor corozive, cum ar fi silanul și amoniacul.

3.3 Fabricarea preformelor pentru fibre optice : Sunt utilizate ca conectoare de etanșare în procese la temperaturi înalte, cum ar fi cele care implică clorura de hidrogen, unde rezistența lor la coroziune este esențială.

3.4 Laborator și cercetare : Sunt utilizate pentru a crea vase de reacție personalizate la temperaturi înalte, sisteme sub vid și echipamente specializate. Capacitatea lor de a fi prelucrate în forme complexe, necomerciale, le face ideale pentru configurații de laborator personalizate, unde pot oferi etanșări etanse pentru camere de vid personalizate (atingând niveluri de vid până la 5 x 10⁻⁵ Pa ele sunt utilizate, de asemenea, în procese chimice, cum ar fi reactoarele, coloanele de separare și cele de distilare.

Specificații

Istoricul dezvoltării

Brevete și Certificări

Ambalaj

Servicii                                                                         

Întrebări frecvente