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Nuestro proceso avanzado de metalización cerámica crea una capa metálica robusta y conductiva sobre superficies cerámicas, permitiendo uniones cerámico-metálicas fuertes para electrónica de alto rendimiento. Con diversas técnicas como Mo/Mn, chapado y película gruesa, ofrecemos soluciones personalizadas para aplicaciones exigentes. Solicite un presupuesto para encapsulados herméticos e integración de circuitos confiables con más del 95 % de retención de resistencia de unión.
Ventajas Principales del Producto
Nuestros servicios de metalización cerámica ofrecen beneficios esenciales para componentes electrónicos y módulos de potencia:
Resistencia Superior de Unión: la capa metalizada alcanza una resistencia a la tracción >80 MPa, garantizando una integración cerámico-metálica duradera bajo ciclos térmicos y esfuerzos mecánicos.
Excelente hermeticidad: proporciona una tasa de fuga inferior a 1×10⁻⁸ atm·cc/s de He, ideal para tubos de vacío, carcasas láser y componentes aeroespaciales que requieren sellado absoluto.
Alta conductividad eléctrica: películas metálicas de baja resistividad (<15 mΩ/□) permiten una capacidad de conducción de corriente eficiente y un rendimiento estable del circuito.
Selección personalizada de procesos: elija entre Mo/Mn, chapado de Au/Ni/Cu o metalización cerámica de capa gruesa para satisfacer sus requisitos específicos de temperatura, electricidad y presupuesto. Cuando se utilizan cerámicas en circuitos, primero deben someterse a un proceso de metalización. Este proceso consiste en aplicar una película metálica que se une firmemente a la superficie cerámica y es resistente al calor, haciendo así que sea conductiva.
Campos de Aplicación
La metalización precisa de cerámicos es fundamental en industrias avanzadas:
Empaquetado de semiconductores y láseres: cabezales TO, carcasas de fibra óptica y paquetes de diodos láser que requieren sellado hermético y conexión confiable de terminales.
Electrónica de Potencia: sustratos DBC/DPC para IGBTs, módulos MOSFET y convertidores de potencia para vehículos eléctricos, que permiten una disipación eficiente del calor y alta capacidad de corriente.
Aeroespacial y Defensa: sistemas de radar (TWT), comunicaciones satelitales e interruptores de vacío donde la estabilidad de rendimiento en condiciones extremas es obligatoria.
Sensores Avanzados y LEDs: sensores automotrices, sustratos COB de alto rendimiento para LED y dispositivos de imágenes médicas que utilizan trazas conductoras patroneadas sobre cerámica.
Servicio y apoyo
Garantizamos la confiabilidad de los componentes con un respaldo técnico y de servicio integral:
Soporte de Ingeniería: nuestros expertos ayudan a seleccionar el proceso óptimo de metalización cerámica (Mo/Mn, chapado, película gruesa, DBC, DPC) según sus objetivos de diseño y rendimiento.
Prototipado Rápido: acelere el desarrollo con muestras de metalización cerámica de rápida entrega y retroalimentación sobre diseño para fabricabilidad (DFM) en 1-2 semanas.
Control de Calidad Estricto: Cada lote se somete a una inspección completa según los estándares MIL-STD-883, garantizando una calidad consistente en la metalización cerámica y un rendimiento duradero.
Capacidad de Producción en Volumen: La fabricación escalable con líneas automatizadas de galvanoplastia e impresión soporta pedidos de gran volumen sin comprometer los plazos de entrega.
Contáctenos hoy para discutir las especificaciones de su proyecto. Nuestro equipo técnico está listo para realizar un análisis de viabilidad y proporcionar una muestra de metalización cerámica para abordar sus desafíos de sellado hermético e integración de circuitos.
Tendencias Futuras y Hoja de Ruta Tecnológica
La industria de metalización cerámica está evolucionando para satisfacer las demandas de la electrónica de próxima generación. Las tendencias clave se centran en lograr características más finas, mayores densidades de potencia y una mayor fiabilidad, al tiempo que se reduce el impacto ambiental. El desarrollo de procesos de metalización cerámica asistidos por láser permite la creación de trazas de circuito inferiores a 20 μm, favoreciendo la miniaturización en módulos RF de 5G/Wi-Fi 6E y paquetes avanzados de sensores. Mientras tanto, las pastas de sinterización de plata y cobre a nanoescala están revolucionando el rendimiento térmico en la metalización cerámica, ofreciendo una conductividad térmica un 40 % superior a la de los materiales tradicionales de capa gruesa, y procesándose a temperaturas inferiores a 300 °C.
Las iniciativas de sostenibilidad están impulsando la adopción de sistemas de metalización cerámica libres de plomo y cromo sin comprometer la resistencia de unión ni el rendimiento hermético. La integración de controles de proceso basados en inteligencia artificial en las líneas de metalización cerámica garantiza una consistencia sin precedentes en el espesor y la composición de las capas, reduciendo las variaciones de parámetros en más del 60 % en comparación con los métodos convencionales. Estos avances posicionan a la metalización cerámica como la tecnología habilitadora para los módulos de potencia de vehículos eléctricos del futuro, recintos para computación cuántica y dispositivos médicos implantables, donde la fiabilidad absoluta es imprescindible.
Guía de Selección de Procesos
La elección del enfoque óptimo de metalización cerámica requiere equilibrar los requisitos técnicos con las consideraciones económicas. Para aplicaciones aeroespaciales y militares de alta fiabilidad donde el fallo no es una opción, el proceso de metalización cerámica de molibdeno-manganeso (Mo/Mn) sigue siendo el estándar de referencia, a pesar de sus mayores requerimientos de temperatura y costo. Para electrónica de consumo y sensores automotrices de alto volumen, la metalización cerámica de capa gruesa ofrece el mejor equilibrio entre rendimiento y economía de fabricación. Cuando la gestión térmica es la preocupación principal, especialmente en dispositivos de potencia de carburo de silicio y nitruro de galio, la metalización cerámica por cobre unido directamente (DBC) proporciona capacidades inigualables de disipación de calor.
Nuestro equipo técnico proporciona un análisis integral de aplicaciones para determinar su solución ideal de metalización cerámica basada en trece parámetros críticos, incluyendo la compatibilidad del CTE, necesidades de conductividad térmica, requisitos de resolución de características y volumen de producción. Este enfoque sistemático asegura que su estrategia de metalización cerámica ofrezca excelencia técnica y rentabilidad durante todo el ciclo de vida del producto, desde el prototipo inicial hasta la fabricación en volumen y el despliegue en campo.

Especificaciones técnicas
La tabla siguiente compara nuestras principales técnicas de metalización cerámica para una selección informada:
Parámetro |
Metalización Mo/Mn |
Metalización de capa gruesa |
DBC (Cobre Ensamblado Directo) |
DPC (Cobre Plateado Directo) |
Temperatura de proceso |
1500-1600°C |
850-1000°C |
1065°C |
<300°C |
Espesor típico de capa |
10-30 µm |
10-20 µm |
100-600 µm |
10-50 µm |
Fuerza de adhesión |
>100 MPa |
50-70 MPa |
>70 MPa |
>60 MPa |
Resolución de línea |
>500 µm |
>200 µm |
>500 µm |
<50 µm |
Conductividad térmica |
Dependiendo de la cerámica |
Moderado |
Excelente (AlN: 180-200 W/mK) |
Bueno |
Mejor para |
Sellos herméticos de alta fiabilidad, entornos extremos |
Circuitos híbridos, sensores, resistencias |
Módulos de alta potencia, IGBTs, automoción |
Empaquetado de LED de alta densidad, RF/microondas |

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